分解能(解像度)テストターゲット


  • Test Targets Identify Resolution of an Imaging System
  • Positive, Negative, or Birefringent Pattern
  • Combined Resolution and Distortion Targets Available

R1DS1N

Ø1" 1951 USAF Target

R1L3S6PR

Reflective Variable Line Grating Target

R1L1S1P

Combined Resolution
and Distortion Target

R3L3S1N

Negative 1951 USAF Target

R1L1S2P

Sector Star Target

R2L2S1P1

Positive, High-Frequency
NBS 1963A Target

Related Items


Please Wait
TypePhotolithographicBirefringent
Design Chrome-on-GlassBirefringent Pattern
Substrate Clear Soda Lime Glass a Varies b
Substrate Thickness 0.06" (1.5 mm)Varies b
Chrome Thickness 0.120 µmN/A
  • ポジターゲットにはソーダライムガラスに低反射クロムパターンがエッチングされています。ネガターゲットでの基板全体に同じ低反射クロムコーティングが施されており、パターン部分は透明となります。
  • これらの仕様については下記の各ターゲットの製品説明をご覧ください。
Test Target
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テストターゲット位置決めマウントXYF1(/M)に取り付けたNBS 1963A分解能ターゲットR2L2S1N

校正用ターゲット種類

テストターゲットは、一般的にイメージングシステムの分解能(解像度)の計測に使用されます。これらのターゲットには、基準となるラインパターンが定められた幅と間隔で描画されており、イメージング対象と同一面に設置できるよう設計されています。識別できた最も小さなラインパターンを特定することにより、イメージングシステムの分解能(解像度)を同定することができます。当社では、USAF 1951、NBS 1952、NBS 1963Aパターンの分解能テストターゲットをご用意しております。他にもセクタースター(Siemensスター)パターンやロンキールーリングターゲット、様々なライン幅から成るラインパターン、ならびに分解能と歪み測定のパターンが一体になっているテストターゲットをご用意しております。各パターンの詳細については、「分解能テストターゲット」タブをご参照下さい。

ポジパターンはすべての分解能テストターゲット、またネガパターンも多くのテストターゲットでご用意しております。また高コントラストのポジパターン反射型ターゲットもございます。ポジターゲットには、真空スパッタリングされた低反射クロムパターンが透明な基板に加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。ネガターゲットでは、基板全体に同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターン部分は透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。反射型のポジターゲットは、クロムを背景にしたソーダライムガラス上にエッチングされた低反射クロムのパターンで構成されており、反射用として用いると高コントラストが得られます。これらのテストターゲットのスペクトルデータについては、「グラフ」タブをご覧ください。それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。

取り付け
このテストターゲットは、当社の4種類ある顕微鏡用スライドホルダのいずれかに取り付けることができます。固定式スライドホルダMAX3SLHにはスライドやテストターゲットを取り付けるためのバネクリップが2つ付いており、当社の全ての3軸フレクシャーステージに取り付けることができます。MAX3SLHは、幅が50.8 mm以上のテストターゲットにのみ対応しており、開口部は25.4 mmです。よってテストターゲットの中には、クロムパターンが隠れてしまう種類もございます。また、テストターゲット位置決めマウントXYF1/M (右の写真参照)により、幅25.4 mm~76.2 mmの長方形ターゲットを50 mm x 30 mmの範囲で移動させることが可能です。マウントには、5つのM4タップ穴が付いており、6種類の取付方法が可能です。XYF1/Mは、先端がナイロン製の止めネジ(セットスクリュ)を使用してミクロメータやターゲットを固定します。なお、マウントのサポート部により、光学素子の両側4.4 mmが隠れるのでご留意ください。顕微鏡用ステージMLS203 をお使いいただいている場合は、倒立顕微鏡用スライドホルダMLS203P2 をご用意しています。こちらは、幅25 mm~26.5 mmのスライド、ならびに直径30 mm~60 mmのペトリ皿を取り付けることができます。

フォトリソグラフィによるターゲットの製造
当社では、イメージングシステムの校正と測定にお使いいただけるカスタム仕様のテストターゲットもご提供しております。パターンは、マスクアライナを用いた接触型フォトリソグラフィによりガラス基板上に加工されています。パターン加工後には、基板に化学エッチングを施し、クラス100のクリーンルーム内で洗浄します。

複屈折性ターゲットの製造
複屈折性分解能ターゲットR3L1S1BおよびR2L2S1Bには、1対の偏光子を通してのみ見えるパターンが施されており、偏光光学システムの校正にお使いいただけます。このターゲットは、ファスト軸を有する液晶高分子層を2層のガラスで保護する構造で、フォトマスクのアライメントプロセスを使って製造されます。これらのデバイスは、全体のファスト軸がガラスカバーの側面に対して平行、パターンが加工されている部分のファスト軸がエッジに対して45°アライメントするよう設計されています。ターゲット全体のリターダンスは280 ± 20 nmです。さらに入力の偏光子の向きを調整することにより、ポジとネガ両方のパターンを表示させることが可能です。偏光子がガラスカバーの側面とアライメントしている場合、ポジ画像が生成されます。偏光子がガラスカバーの側面に対して45°にアライメントされている場合、ネガ画像が生成されます。

当社では、他に様々な種類のレチクルもご提供しており、対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。

Targets Selection Guide
Resolution Test TargetsCalibration Targets Distortion Test Targets Slant Edge MTF Target Stage Micrometers

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ラインペアを用いると、カメラがどの程度2つの物体を区別できるかを測定することができます。

イメージング分解能

イメージングシステムの解像度はよく1 mmあたりのラインペア(lp/mm)で示されていますが、ラインペアは白と黒の線を指します。この値はシステムが記録可能な2つの物体間の最小距離を表しています。lp/mm 値が高くなると各ラインペア間の距離は小さくなります。

右の図ではシステムの分解能の限界を示しています。左のカメラでイメージング時のラインペアは、2本のラインがカメラセンサの隣り合うピクセルによって記録されていて、1つのラインのように示されるため、分解できません。反対に右のラインペアの間隔は大きいため、分解可能です。 

下記ではこちらのページの分解能テストターゲットで得られるラインパターンについて説明しています。


USAF1951ターゲット

  • MIL-S-150A規格に準拠
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化
  • ポジターゲットとネガターゲットをご用意 
    • 76.2 mm x 76.2 mmターゲット(10グループ)、76.2 mm x 25.4 mmターゲット(8グループ)、76.2 mm x 25.4 mmホイールパターンターゲット(6グループ)、38.1 mm x 38.1 mmターゲット(8グループ)、25.4 mm x 25.4 mmターゲット(8グループ)、18 mm x 18 mm一体型ターゲット(6グループ)、Ø25.4 mmターゲット(6または8グループ)、Ø25.4 mm(Ø1インチ)ホイールパターンターゲット(6グループ)
  • 76.2 mm x 25.4 mmの複屈折性ターゲットもご用意(6グループ)
1951 USAF Target Options
Item ## of GroupsGroupsConfigurationDimensions
R1DS1P6+2 to +7Single SetØ1"
R1DS1N
R1DS1P180 to +7
R1DS1N1
R1DS1P26+2 to +7Wheel
R1DS1N2
R1L1S1P10-2 to +7Combination18 mm x 18 mm
R1L1S1N
R1L1S7P80 to +7Single Set1" x 1"
R1L1S7N
R2L2S4P1.5" x 1.5"
R2L2S4N
R3L1S4P13" x 1"
R3L1S4N1
R3L1S4P6+2 to +7Wheel
R3L1S4N
R3L1S4PR
R3L1S1B0 to +5Single Set
R3L3S1P10-2 to +7Single Set3" x 3"
R3L3S1N
R3L3S1PR
Resolution Target
ラインセットの例

分解能ターゲットには水平方向と垂直方向にラインが描かれており、イメージングシステムの分解能(解像度)を測定するために使用します。パターンは、1つのグループにつき6つのエレメントのセット(水平方向と垂直方向のラインペア)、10個のグループで構成されています。下の写真は、分解能ターゲットのグループ-2、エレメント2と3を示しています。 

3本のラインセットになっているため、偽解像を認識できる性能が向上しています。偽解像は、ラインセットがぼやけ重なった部分の白黒がくっきりと反転しているように見える現象です。このように反転したラインは識別しやすいため、光学システムの分解能を誤って読み取る可能性があります。偽解像ではラインセットのラインが1本少なく見えます。ラインが例えば5本から4本に減っているのに気づくよりも、3本から2本に減っている場合の方が気づきやすいことから、3本のラインセットが偽解像の発生を認識しやすいのです。

Test Target Equation

各エレメントのライン間隔は、ライン線幅と等しくなっています。ターゲットをイメージングした際、水平方向と垂直方向のラインの鮮明さによりイメージングシステムの分解能(解像度)が測定できます。識別可能な最も小さなラインを特定すれば、イメージングシステムの分解能が同定できます。下の表は、各グループ、エレメントの1ミリメートルあたりのラインペアの数です。下の計算式をもとに算出しました。当社の分解能ターゲットの最大解像度は228.0ラインペア/ミリメートルで、約4.4 µm/ラインペアとなります。76.2 mm x 76.2 mmターゲットは-2~+7の10グループ、76.2 mm x 25.4 mmターゲットは0~+7の8グループ、76.2 mm x 25.4 mmのホイールパターンのターゲットは9種類、それぞれ+2~+7の6グループがあります。76.2 mm x 25.4 mmの複屈折性ターゲットは0~+5の6グループ、38.1 mm x 38.1 mm ターゲットは0~+7の8グループ、25,4 mm x 25.4 mmターゲットは0~+7の8グループ、18 mm x 18 mmの一体型ターゲットには+2~+7の6グループ、Ø25.4 mmターゲットには+2~+7の6グループ、または0~+7の8グループがあります。Ø25.4 mm(Ø1インチ)ホイールパターンターゲットは、6種類あり、それぞれ+2~+7の6グループがあります。

ElementGroup Number
-2-101234567
10.2500.5001.002.004.008.0016.0032.0064.00128.00
20.2800.5611.122.244.498.9817.9536.071.8144.0
30.3150.6301.262.525.0410.1020.1640.380.6161.0
40.3530.7071.412.835.6611.3022.6245.390.5181.0
50.3970.7931.593.176.3512.7025.3950.8102.0203.0
60.4450.8911.783.567.1314.3028.5057.0114.0228.0

単位: lp/mm


NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR3L3S6Pの拡大画像

NBS 1952ターゲット

  • ワンパススキャンで測定可能
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化
  • ポジターゲットでご用意
  • サイズ:25.4 mm x 76.2 mm、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952ターゲットは、3本のラインセットが垂直方向ならびに水平方向に並んでいます。 1つの線と、次の線までの空間を、1つのラインペアまたはサイクルとしています。 各ターゲットがテスト可能な分解能は、そのラインペアの空間周波数(ラインペア/mm)で求めます。 下の表には2サイズのNBS 1952ターゲットの空間周波数と対応する線幅が記載されています。

こちらのターゲットには偽解像を最小限に抑制できる、そしてワンパススキャンが可能であるという2つの利点があります。 偽解像は、ラインセットがぼやけ重なった部分の白黒がくっきりと反転しているように見える現象です。 このように反転したラインは識別しやすいため、光学システムの分解能を誤って読み取る可能性があります。 偽解像ではラインセットのラインが1本少なく見えます。 ラインが例えば5本から4本に減っているのに気づくよりも、3本から2本に減っている場合の方が気づきやすいことから、3本のラインセットが偽解像の発生を認識しやすいのです。

このターゲットのラインセット配列によって、ワンパススキャンが実現可能になります。 水平方向と垂直方向に配列されたラインセットは左上から右下への対角線に対して対称となるよう、全く同じ形状ならびに空間周波数で配列されています。 ターゲットの左から右へ、もしくは上から下へスキャンした場合、空間周波数は中央に向かって増加し、反対側の端に向かって減少します。 水平方向でも垂直方向でも1回のスキャンで空間周波数をすべて網羅できるパターン配列となっています。 よって光学系の分解能を測定する際にも1方向のみのスキャンだけで測定可能です。

Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)
0.481041.72.24223.26.873.52025
0.56892.92.4208.3862.52420.8
0.68735.32.72183.39.652.12817.9
0.86252.8176.811.244.63414.7
0.96520.83.2156.31241.74012.5
1.12446.43.4147.113.636.84810.4
1.36367.641251435.7568.9
1.6312.54.8104.21631.3687.4
1.92260.45.689.31729.4806.3

NBS1963A
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ネガテストターゲットR2L2S1Nの顕微鏡画像

NBS 1963Aターゲット

  • ポジターゲット、ネガターゲット、ならびに複屈折性ターゲットをご用意
  • 高周波バージョンもございます。
  • NBS 1963Aの専用ターゲットの寸法は50.8 mm x 50.8 mm、分解能ならびに歪み測定一体型のターゲットは76.2 mm x 25.4 mm

NBS 1963Aターゲットには、垂直方向と水平方向のラインが5本ずつのラインセットがあります。 1つの線と、次の線までの空間を、1つのラインペアまたはサイクルとしています。 各ターゲットがテスト可能な分解能は、そのサイクルの周波数(サイクル/mm)により規定されます。 当社のNBS 1963Aの各ラインのセットには周波数が表示されています。 識別可能なラインの中で最小のラインセットを確定することにより(最大サイクル/mm)、イメージングシステムの分解能が決まります。

当社の標準的なNBS 1963Aターゲットは、26本のラインのセット、1.0 サイクル/mm~18.0サイクル/mmの分解能でご用意しております。 さらに高い分解能をご要望の場合、48本のラインのセットで分解能が1.0 サイクル/mm~228サイクル/mmの微細パターンを有するNBS 1963Aターゲット、または35本のラインのセットで分解能が4.5 サイクル/mm~228サイクル/mmの分解能と歪み測定一体型ターゲットR1L3S5Pがございます。 各サイクルのサイズは単純に周波数の逆数で、当社がご提供する周波数のサイクルサイズがすべて下記に記載されています。 線幅は、サイクルサイズの1/2の値です。

Cycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle Size
1.01.00 mm4.00.250 mm16.00.063 mm64.00.016 mm
1.10.909 mm4.50.222 mm18.00.056 mm72.00.014 mm
1.250.800 mm5.00.200 mm20.00.05 mm81.00.012 mm
1.40.714 mm5.60.179 mm23.00.043 mm91.00.011 mm
1.60.625 mm6.30.159 mm25.00.040 mm1020.010 mm
1.80.556 mm7.10.141 mm29.00.034 mm1140.009 mm
2.00.500 mm8.00.125 mm32.00.031 mm1280.008 mm
2.20.455 mm9.00.111 mm36.00.028 mm1440.007 mm
2.50.400 mm10.00.100 mm40.00.025 mm1610.0062 mm
2.80.357 mm11.00.091 mm45.00.022 mm1810.0055 mm
3.20.313 mm12.50.080 mm51.00.020 mm2030.0049 mm
3.60.278 mm14.00.071 mm57.00.018 mm2280.0044 mm

Siemens Star Pattern
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R1L1S3Pのセクタースターパターンの拡大画像

セクタースターターゲット

セクタースターターゲット(Siemensスターターゲット)は、中心から放射状に広がるにつれて太くなる黒い棒線から成っています。 黒い線の間の空間は白い線として捉えることができ、白い線の幅は、同じラジアル距離における黒い線の幅と等しくなっております。 理論的には、これらの線はターゲットのちょうど中心点でのみ接します。 セクタースターターゲットによっては、こちらのページで販売している製品も含め、中心に丸い空間があり、線が接していないものもあります。 しかし、ターゲットを使用している光学システムの分解能によって、線は中心から離れた位置で接しているように見えます。 この距離を測定することにより、光学システムの分解能が定義づけできます。

セクタースターの中心からラジアル距離における分解能を算出する場合には、まずその距離での黒と白のラインペアの線幅を測定します。 この値は下記の弦長の式で求められます。rは、中心からのラジアル距離です。 Θは、白と黒1本ずつのペアの角度で、360°をラインペアの合計数で割ります。 分解能はラインペアの線幅の逆数となります。

chord length equationresolution equation

当社では、セクタースターターゲット専用パターンを2種類(R1L1S2PとR1L1S3P)、他のパターンにセクタースターが付いているものを3種類(R1L3S5P、R1L1S1P、ならびにR1L1S1N)をご用意しております。 下の表には各ターゲットのセクタースターパターンの概要が記載されています。

Item #Pattern TypeSector Star Pattern Outer DiameterCenter Circle DiameterNumber of BarsResolution at Outer DiameterResolution at Center Circle
R1L1S2PPositive10 mm200 µm36 Over 360°1.15 lp/mm57.5 lp/mm
R1L1S3P72 Over 360°2.29 lp/mm115 lp/mm
R1L3S5PPositive2 mm100 µm36 Over 360°5.75 lp/mm115 lp/mm
R1L1S1PPositive2 mm20 µm36 Over 360°5.75 lp/mm575 lp/mm
R1L1S1NNegative

Siemens Star Pattern
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ラインターゲットR1L3S6Pの拡大図

様々な線幅からなるラインターゲット

ラインパターンは、線幅と等しい間隔の黒い平行線とで構成されています。 1本の黒線と次の黒線までの空間が1つのラインペアとなります。 光学システムの分解能は、隣接のラインペアを識別できる能力で決まります。 よって、ラインターゲットの分解能は、一定の空間内のラインペアの数によって定義され、通常1ミリメートル毎のラインペア数で表されます(lp/mm)。 ラインターゲットにはラインパターンがいくつかあり、分解能はそのラインパターンを用いて決定されます。 光学システムが解像できるラインの中で最高の分解能が、そのシステムの分解能となります。

当社のラインターゲットは、1.25 lp/mm~250 lp/mmの分解能でご用意しております。 下の表には、ラインターゲットの分解能とラインペアサイズの換算値が記載されています。

lp/mmLine Pair Sizelp/mmLine Pair Sizelp/mmLine Pair Size
1.250.80 mm3.850.26 mm16.670.06 mm
1.670.60 mm4.170.24 mm500.02 mm
2.080.48 mm5.00.20 mm1000.01 mm
2.50.40 mm6.670.15 mm2000.005 mm
2.860.35 mm10.00.10 mm2500.004 mm
3.330.30 mm12.50.08 mm--
Substrates Spectra
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グラフではポジテストターゲットおよびネガテストターゲットで使用されているソーダライムガラスの透過特性を示しています。こちらはUSAF 1951複屈折性ターゲットR3L1S1Bで使用されるソーダライムガラスには当てはまりません。
Substrates Spectra
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反射型テストターゲットのスペクトル曲線
可視域における反射防止膜無しのクロム(青線)と、反射防止付きクロム(赤線)の大きな差は、反射型のポジターゲットのパターンと背景のコントラストが高いことを意味しています。
R3L1S1B Transmission
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グラフでは複屈折性ターゲットR3L1S1Bの透過曲線のサンプルです。ここには、スライド、カバーガラス、複屈折性液晶ポリマ層が含まれています。
Substrates Spectra
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グラフでは、複屈折性ターゲットR3L1S1Bの基板そしてカバープレートとして使用されている厚さ10 mmのN-BK7(サンプル)の透過特性を示しています。
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Customization Parameters
Substrate SizeaMin8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16")
Max85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35")
Substrate MaterialsSoda Lime Glass
UV Fused Silica
Quartz
Coating MaterialChromeb
Low-Reflectivity Chromec
Coating Optical Density≥3d or ≥6e @ 430 nm
Minimum Pinhole/SpotØ1 µm
Minimum Line Width1 µm
Line Width Tolerance-0.25 / +0.50 µm
Maximum Line Density500 lp/mm
  • 基板はご要望のサイズや形状にダイシングが可能です(上記MIN~MAXの範囲内)。
  • 430 nmでのクロムの反射率 > 40%
  • 430 nmでの低反射クロムの反射率 < 10%
  • UV溶融石英(UVFS)基板と標準的なソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで3以上
  • 石英基板と一部のソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで6以上

カスタムおよび組み込み用途(OEM用途)向けテストターゲットとレチクル

当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。 これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。

標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm~85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。

カスタム仕様のテストターゲットやレチクルのお見積りについては、当社までお問い合わせください。

用途例

  • エッチングレチクル
  • グレースケールマスク
  • 高分解能レチクル
  • 測定用レチクル
  • レクリエーション用スコープ
  • ノッチ付きレチクル
  • アイピース目盛
  • 照明用十字レチクル
  • オブストラクションターゲット
  • 双眼鏡レチクル

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ポジパターンとネガパターンの十字ターゲット

こちらでは当社のエンジニアが推奨するレチクル、テストターゲット、歪みターゲット、校正ターゲットの適切なクリーニング方法をご紹介いたします。

クリーニング手順

  1. できればポリビニルアルコール(PVA)製の清潔な濡れスポンジを使用し、食器用洗剤でレチクルやターゲットの正面と裏面を優しくこすります。
  2. 水ですすぎます。
  3. 清潔で乾燥した空気によるブローで乾かすか、清潔な面にレチクルやターゲットを置いて自然乾燥させます。

タオルや布、またはワイプを使用して拭くことはお勧めしません。汚れがまだ残る場合には、レチクルやターゲットを食器洗剤を混ぜた水溶液に1時間付け置き、必要であればこれを繰り返します。


Posted Comments:
Minh-Chau Nguyen  (posted 2024-06-14 09:11:59.607)
Hello, My name is Minh-Chau Nguyen, R&D engineer at Phasics SA, France. I am writing you in order to consult the characteristics of the birefringent test target R3L1S1B. I carried out a measurement of the retardance on your test target. The measurement is based on the light intensity while rotating a linear retarder under a polarized incident beam. The retardance is then calculated from the min and max of intensity. From the result, I have some conclusions: - A significant retardance presents on the whole test target (inside and outside the pattern). - The measured retardance is close to the data announced by Thorlabs. The difference of retardance is relatively small between the pattern and the surrounding zone. - The difference between the pattern and the surrounding zone is mostly on the angle of fast-axis (Δθ ≈ 33°), which is not mentioned in the description. Can you please validate my method of measurement as well as the result on the retardance and the angle of fast-axis, since it is not clearly mentioned in the description? I am looking forward to hearing from you soon. Thank in advance. Yours sincerely, Minh-Chau Nguyen
cdolbashian  (posted 2024-07-01 04:29:26.0)
Thank you for contacting Thorlabs. The retardance of entire test target can be slightly non-uniform, as usually this R3L1S1B is used as a visual resolution tool. The typical fast axis angle of background and pattern is 0 degree and 45 degrees respectively. Again, as a visual tool, the retardance and axis angle are not tightly controlled and may vary from lot to lot. A Babinet Compensator is used for retardance measurement during production process, the intensity measurement approach you mentioned is a common method for retardance testing, it should also be feasible.
Yudong Fan  (posted 2024-05-21 21:03:23.003)
The .step file and solidwork file are not valid
cdolbashian  (posted 2024-05-24 02:45:45.0)
Thank you for reaching out to us. I have contacted you directly to inquire regarding the problems you are having with the step files.
Michael Tan  (posted 2024-04-16 15:05:28.9)
Hi, I would like to check if there is the same negative target but with smaller diameter available for purchase?
ksosnowski  (posted 2024-04-22 04:20:33.0)
Hello Michael, thanks for reaching out to Thorlabs. We have offered some custom patterns and sizes before. I have reached out directly to discuss your application in further detail.
luo kun  (posted 2023-12-04 16:23:03.573)
group 2-7中1-6分别对应多少lp/mm
cdolbashian  (posted 2023-12-11 10:44:00.0)
Thank you for reaching out to us with this inquiry. All information regarding the line spacing and frequency is outlined on the product page above. Additionally, as this is an industry standard test target pattern, 1951 USAF test target, additional information can be found on the web. I have linked you to some of these resources via email.
Louise Baehr  (posted 2022-10-26 11:59:29.04)
Dear Sir or Madam, I am sorry to bother you. I would like to have more information on how you calculated the outer and inner frequency of your Siemens star target. Indeed, when I use your formula, taking 72 bars and so theta = 360°/72 = 5 and the outer diameter of 10mm, I get: c = 2 * 10mm * sin(5°/2) = 0.8724 mm resolution = 1 / 0.8724 = 1.1463 lp/mm BUT, in your table, you indicate a frequency of 2.29 lp/mm at the outer diameter. Could it be possible to have the details of your calculations ? It seems I'm missing something and I really need to understand. Thank you very much and sorry again for bothering you. Best regards
cdolbashian  (posted 2022-10-31 01:52:36.0)
Thank you for reaching out to us! I think perhaps you may be overlooking the negative space between each feature. The size of each line pair should be considered in the 72 segments. Simply take the number of line pairs (72) and divide by the circumference of the circle (2*Pi*5mm~31mm). Taking this quotient (72/31mm) yields ~2.29lp/mm. I have contacted you directly to address this further.
Kimi Huang  (posted 2022-02-17 16:32:57.09)
Hi Sir, A question about Reflectivity of pattern and clear area. Would like to check the Reflectivity % of pattern is ? in the plot, it looks have high R% of pattern? but not make sense to me becuase pattern is black pattern. So I think I misunderstand something here. So, the question is : what is the Reflectivity of Pattern and clear I should use in the model? Thanks
cdolbashian  (posted 2022-02-18 05:09:16.0)
Thank you for reaching out to us Kimi. The substrate of the R1DS1P is soda lime glass, while the pattern is made with anti-reflective chrome. The reflectivity of the chrome and the transmission of the soda lime, can be found on the "Graphs" tab on this page. You can approximate the reflectivity of the soda lime glass as 1-Transmission at a given wavelength, but for a true reflectivity value, one must also consider the absorption of the soda lime substrate. I have reached out to you directly to discuss this further in context of your particular light source.
Ulrich Leischner  (posted 2021-11-03 07:47:52.73)
I need the precise values of the lines in this target. the value LP/mm is not completely clear. Is this the full diameter of 3 lines, or is this the periodic length (full diameter of 2 lines, a negative and a positive one) A drawing with the values in the PDF would be very helpful. Regards
jgreschler  (posted 2021-11-12 04:45:20.0)
Thank you for reaching out to Thorlabs. The definition of line pairs per millimeter (lp/mm) is defined by a pair of lines, one bright and one dark, in a given spacing. For example, if the specification is 1 lp/mm, that means that the coated line is 0.5mm and the uncoated line is 0.5mm. You can read more about this definition in our Resolution Targets tab at the top of the product page, further literature can be found here https://en.wikipedia.org/wiki/1951_USAF_resolution_test_chart
Fidel Vega  (posted 2021-10-11 04:24:48.963)
Dear Sir or Madam, We are interested in buying some customized reticles & calibration tests. I would need to contact your technical department to ask some questions about the features of the items that we need. The 1st October I sent a message to TSW@thorlabs.com with this request, but I have not yet received any feedback from your side. Thank you Fidel
cdolbashian  (posted 2021-12-23 11:38:58.0)
Thank you for contacting us here at Thorlabs! We apologize deeply for our lack of communication. We have reached out to you directly to discuss your custom.
Andrew Keys  (posted 2021-08-19 12:14:32.71)
I recently ordered a positive and negative version of the R1L1S1P Resolution and Distortion Target. To be able to precisely navigate around the elements on this target, I ordered a XYF1 mount. Upon receipt, I now realize that the 18mm x 18mm target cannot easily be mounted in the XYF1 without covering much of the target elements. What is the recommended method of mounting these R1L1S1P targets?
cdolbashian  (posted 2021-08-27 09:29:10.0)
Thank you for reaching out to us here at Thorlabs! The test target you have selected is intended for use with a standard microscopy system, rather than free space optics. Because this is the case, using it with the XYF1 may result in the obscuration of some of the edges of the test pattern, due to the size of the target. I have reached out to you directly with alternative solutions. We are always hungry for feedback, so we appreciate you bringing this incompatibility of seemingly-compatible parts to our attention.
moti yanuka  (posted 2021-02-17 20:19:35.317)
I am interested in resolution and distortion targets, could you send to me quotations?
YLohia  (posted 2021-02-17 10:20:33.0)
Hello, thank you for your interest in our products. Quotes can be requested by contacting our Sales Team (sales@thorlabs.com) or by adding the items to your cart and clicking "Request a Quote" button on your cart page.
Ananth Rao  (posted 2020-09-15 06:34:45.553)
Hi , We have bought this resolution target R1L1S1N, there are two peculiar questions, 1. What is methodology to clean the target? Is there any documentation? 2. What is the surface flatness of the target?
YLohia  (posted 2020-09-16 10:32:26.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Unfortunately, we don't have specific documentation on cleaning the R1L1S1N. That being said, we do have a general optics cleaning guide here: https://www.thorlabs.com/newgrouppage9.cfm?objectgroup_id=9025. I have reached out to you directly to discuss your request.
wen cao  (posted 2020-06-24 09:12:46.36)
这个分辨率板是透明的吗?可以背光照射吗?
YLohia  (posted 2020-06-24 09:15:24.0)
Thank you for contacting Thorlabs. An applications engineer from our team in China (techsupport-cn@thorlabs.com) will reach out to you directly.
程访 许  (posted 2019-11-26 16:41:58.167)
此产品镀的铬膜,对633nm的光,反射率是多少?望回复,我在产品介绍中没看到,最近课题组购买了此产品,我需要这个参数。
nbayconich  (posted 2019-12-03 04:04:53.0)
Thank you for contacting Thorlabs. Although we do not specify a guaranteed reflectivity of this chrome coating, the reflectivity will be about 25% at 633nm. I will reach out to you directly.
Soocheol Kim  (posted 2019-11-19 21:33:39.29)
Dear Sir/Madame, I checked the retardation of the entire target, which was to be 280±20 nm. Is this retardation a retardation between the entire target and the patterned area? I'd like to know the retardation between the entire target and the patterned area.
nbayconich  (posted 2019-11-25 10:35:23.0)
Thank you for contacting Thorlabs. The R2L2S1B is a half wave plate for 546 nm (or 273nm @546nm). The entire target has the same retardance, the pattern is created by having a 45 deg azimuth difference against the background.
Anne De Paepe  (posted 2019-11-06 10:27:10.69)
Dear Sir/Madam, I am looking for a spatial resolution test for my Raman microscope (532nm, 633nm and 785nm lasers). Where I worked before we had a USAF target of Si on Quartz but not sure if this is the best one. What would you recommend? Thank you
YLohia  (posted 2019-11-08 10:51:17.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Our Chrome on Glass targets are suitable for all wavelengths mentioned by you. Ultimately, the use comes down to personal preference, availability, and possible requirements on transmission/reflectivity. I have reached out to you directly to gain a better sense of your needs.
Soojung Kim  (posted 2019-11-05 08:24:52.273)
Hello. How thick is the patterned chrome on R1L1S1P test target? It's very important point to test axial resolution of our equipment. Sincerely.
YLohia  (posted 2019-11-05 10:46:52.0)
The thickness of the chrome layer on our targets is 0.120 µm. More information can be found in the specs table in the Overview tab.
Fernando Brandi  (posted 2019-08-13 08:52:46.3)
Dear Sir/Madame, I am interested in you R2L2S1B Birefringent NBS 1963A Resolution Target, 2" x 2" for testing a polarizing imaging system. For our porpoises we need to use both fundamental 1064 nm and second harmonic 532 nm laser light. In order to evaluate the use of the R2L2S1B Birefringent NBS 1963A Resolution Target for our application I need to know the total optical path length of the target at the two wavelength (1064 nm and 532 nm) and for both ordinary and extraordinary polarization orientation. Looking forwrd for your reply I thank you for the attention. Kind regards, Fernando Brandi, PhD Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR) Istituto Nazionale di Ottica (INO) Sede Secondaria "A. Gozzini" di Pisa Via Moruzzi 1, 56124-Pisa, Italy Tel. +39 050 315 2584 Fax. +39 050 315 2247 E-Mail: fernando.brandi@ino.cnr.it http://research.ino.it/Groups/ilil/it/about_it/
YLohia  (posted 2019-08-28 03:45:30.0)
Hello Fernando, thank you for contacting Thorlabs. The design wavelength for half-wave retardance for the R2L2S1B is 546nm. The liquid crystal delta(n) is 0.1555 at 550 nm. Unfortunately, we do not have the data for your exact operating wavelengths. We reached out to you directly to discuss this further.
user  (posted 2019-07-01 11:43:13.403)
What mechanical mount do you suggest to hold R1L1S1P or R1L1S1N?
YLohia  (posted 2019-07-01 12:19:11.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. We recommend the XF50, PC2, FH2, SFH2, CH1A, or FP01 mounts for these targets.
Robert Standaert  (posted 2019-05-13 16:45:12.813)
High-resolution or vector images of the targets would be very helpful.
YLohia  (posted 2019-05-14 10:10:55.0)
Hello, thank you for your feedback! We are in the process of discussing the possibility of publishing this information on our website.
sureshbil67  (posted 2018-08-11 07:29:46.71)
I want to know resolution target patterns specification of Night vision devices
YLohia  (posted 2018-09-17 09:59:01.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. I have reached out to you directly to discuss your application in more detail.
haolin.zhang  (posted 2018-05-09 20:12:29.3)
I am using the R2L2S1B Resolution Target to implement a holographic experiment. Could you please provide me the refractive index of the liquid crystal polymer layer aligned in the target, please? Also, could you please provide the information about the material of this liquid crystal polymer layer? Thanks in advance.
YLohia  (posted 2018-05-11 08:39:33.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Unfortunately, we cannot disclose this information since it is proprietary.
ayoub.mghari  (posted 2017-11-29 11:27:24.9)
I am interested in ordering this target but I have the following question: My understanding is that the target is made out of Chrome coating on Soda Lime Glass. This, due to a given illumination system will result in shadows on the rear side, correct? Is it possible to have this target on a non-transparent glass? Please send me a Quote by E-mail.
nbayconich  (posted 2017-12-27 04:07:26.0)
Thank you for contacting Thorlabs. You are correct if using the positive resolution targets then light incident on the front of the target light will reflect off of the chrome patterns. The negative targets have clear patterns with chrome coating the rest of the substrate which makes these intended for back lit applications. We can provide custom targets with non-transparent substrate such as opal. I will reach out to you directly to discuss our custom target capabilities.
miguel.pleitez  (posted 2017-05-24 13:59:18.767)
would it be possible to get this test targets but on a ZnSe substrate instead of glass? I would be very interested on them. Let me know. Thanks in advance.
nbayconich  (posted 2017-06-13 09:48:26.0)
Thank you for contacting Thorlabs. I will contact you directly about our custom capabilities.
yoonys  (posted 2016-12-06 01:07:03.37)
It'd be helpful to draw what "line pair" is on the website, like Figure 1(b) in the following link. http://www.edmundoptics.com/resources/application-notes/imaging/resolution/
tcampbell  (posted 2016-12-15 11:47:36.0)
Response from Tim at Thorlabs: Thank you for your feedback. We will look into adding a diagram explaining line pairs and camera resolution soon.
theodore_morse  (posted 2016-11-16 11:49:07.157)
I wish to use a blue laser (266 nm) to get the resolution. In the masks that you use, will it transmit blue light? I would prefer it to be a quartz substrate. Ted Morse Prof. (Research) School of Engineering Brown University Providence, RI 02912
tfrisch  (posted 2016-11-18 10:32:42.0)
Hello Ted, thank you for contacting Thorlabs. I am checking on the transmission and reflection of the chrome and soda lime in UV regions now. I will contact you directly when I have more information.
user  (posted 2014-06-02 12:59:19.84)
What is the line width of the grids on the R1L1S1P resolution target?
jlow  (posted 2014-06-03 10:41:23.0)
Response from Jeremy at Thorlabs: The grid line width is 5µm for both the 100µm and 50µm grids, and 1.5µm for the 10µm grid.
pnon  (posted 2012-12-24 11:58:00.0)
Response from Pauline at Thorlabs: The masks used for our test targets are calibrated to NIST-traceable standards. We use contact photolithography with a mask aligner to define the pattern on the glass substrate. Once the pattern is defined, we chemically etch the substrates to produce the finished targets. Although similar in performance with the mask, we do not provide NIST traceable certificates. I will contact you shortly to provide information in getting targets with NIST certificates.
mmarcoux  (posted 2012-12-17 10:05:40.897)
Are the R1L3S3P distortion targets N.I.S.T. certified/traceable?
tcohen  (posted 2012-06-18 10:51:00.0)
Response from Tim at Thorlabs: Information on this question was provided for a previous request @400nm below: “The reflectivity of dark pattern on reticle is less than 12% @400nm. For the white pattern, it is just sodium lime glass, so the reflectivity is estimated to be ~ 3.5% @ 400nm ( assuming refractive index is ~ 1.463).” I have contacted you to find out your wavelength and to see if you require more information.
cooljkpark  (posted 2012-06-15 07:09:36.0)
Can you tell me the reflection coefficient of glass and chrome in your resolution target?
bdada  (posted 2012-06-05 19:09:00.0)
Response from Buki at Thorlabs to marctessier: Thank you for participating in our feedback forum. We are developing some new crossed reticles and we have contacted you for a drawing of the custom reticle you need. We have an office in France and the information is included on the web page linked below that lists our offices and distributors world wide: http://www.thorlabs.de/Distributors.cfm
marctessier  (posted 2012-06-05 17:31:41.0)
Hello, I'm working in Rillieux la Pape, near Lyon, in France, and I must find a custom 1" crossed reticle. I've a PDF file showing it. I need only one part. Are you able to supply such good? Do you have a french retailer? Best regards, Marc
bdada  (posted 2012-02-27 17:34:00.0)
Response from Buki to dick.verhaart: For our reticle products, we use chrome with O.D.=>3.0 @430nm. The reflectivity of dark pattern on reticle is less than 12% @400nm. For the white pattern, it is just sodium lime glass, so the reflectivity is estimated to be ~ 3.5% @ 400nm ( assuming refractive index is ~ 1.463). Please contact TechSupport@thorlabs.com if you have any questions.
bdada  (posted 2012-02-24 18:46:00.0)
Response from Buki at Thorlabs to dick.verhaart: Thank you for your feedback. We are looking into this and will contact you shortly with more information and post an update here.
dick.verhaart  (posted 2012-02-02 05:48:19.0)
Can this product (R3L3S1P/N) be used with 405 nm reflective illumination? I find with similar products from other suppliers that the reflection contrast, at this wavelength, between glass and chrome is very small, contrast reversal may occur. Does Thorlabs specific refelctivity of "black"and "white"at 405 nm?
bdada  (posted 2011-08-01 14:14:00.0)
Response from Buki at Thorlabs: We measured the smallest grid pattern (10um) of R1L2S2P using a micrometric system, OLYMPUS MX50, and the tolerance of the pattern is < +/-0.1um. Please contact TechSupport@thorlabs.com with additional questions.
ajh  (posted 2011-07-26 03:05:25.0)
Can you provide specifications for the accuracy of the graduations on your stage micrometers, R1L2S2P and R1L2S1P? I assume they are very accurate but when calibrating image scale you do want to know how accurate your calibrator is.
user  (posted 2011-01-31 10:50:15.0)
Response from Buki to Paul. Thank you so much for your feedback. We are expanding our selection of reticles and will make them more compatible with our cage system. We will contact you directly to learn how we can better meet your needs.
paul  (posted 2011-01-24 12:02:31.0)
I am surprised (given the sophistication of your product line)you do not stock reticles that can be used with the cage plate systems. I currently buy reticles elsewhere and then mount them in cage plates.
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USAF 1951分解能(解像度)ターゲット、Ø25.4 mm(Ø1インチ)

Microscope View of the R1DS1N
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ネガテストターゲットR1DS1Nの顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R1DS1P1R1DS1N1R1DS1PR1DS1NR1DS1P2R1DS1N2
PatternLRa ChromeClearLRa ChromeClearLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa ChromeClearLRa ChromeClearLRa Chrome
Surface Flatness< 50 µm< 15 µm
Chrome Optical Densityb≥ 3.0
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値
  • Ø25.4 mm(Ø1インチ)レンズチューブ内のアライメント用Ø25.4 mm(Ø1インチ)ターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジターゲットとネガターゲットをご用意
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化
  • 製品によっては25個または100個入りのセットでもご提供可能

Ø25.4 mm(Ø1インチ)のポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットでは、ソーダライムガラス基板上に低反射クロムが真空スパッタリングされています。テストターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある6グループ(+2~+7)、または8グループ(0~+7)で構成されており、最大解像度(分解能)は 228.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。当社ではそれぞれ6グループ(+2~+7)、9種類のUSAF 1951ターゲットから成るホイールパターンターゲットもご用意しています。 USAF 1951パターンの詳細と構成については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

型番末尾がP、P1、P2のポジターゲットには、低反射クロムパターンが透明な基板に加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。また、末尾がN、N1、N2のネガターゲットでは基板全体に同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターン部分は透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1DS1P1 Support Documentation
R1DS1P1USAF 1951ポジテストターゲット、グループ0~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥20,831
3 weeks
R1DS1N1 Support Documentation
R1DS1N1USAF 1951ネガテストターゲット、グループ0~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥20,831
3 weeks
R1DS1P Support Documentation
R1DS1PCustomer Inspired! USAF 1951ポジテストターゲット、グループ2~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥20,831
3 weeks
R1DS1N Support Documentation
R1DS1NCustomer Inspired! USAF 1951ネガテストターゲット、グループ2~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥20,831
Today
R1DS1P2 Support Documentation
R1DS1P2USAF 1951ホイールパターンポジテストターゲット、グループ2~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥25,345
3 weeks
R1DS1N2 Support Documentation
R1DS1N2USAF 1951ホイールパターンネガテストターゲット、グループ2~7、Ø25.4mm(Ø1インチ)
¥25,345
3 weeks
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USAF 1951分解能テストターゲット、25.4 mm x 25.4 mm

Microscope View of the R1DS1N
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ネガターゲットR1L1S7Nの最小グループ(6と7)の顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R1L1S7PR1L1S7N
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値
  • 画像の分解能(解像度)を測定するための25.4 mm x 25.4 mmターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジターゲットとネガターゲットをご用意
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

25.4 mm x 25.4 mm(1インチ x 1インチ)のポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットでは、ソーダライムガラス基板上に低反射クロムが真空スパッタリングされています。テストターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある8グループ(0~+7)で構成されており、最大分解能(解像度)は 228.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ポジターゲットR1L1S7Pは、低反射クロムパターンが透明な基板に加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。また、ネガターゲットR1L1S7Nでは基板全体に同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターン部分は透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S7P Support Documentation
R1L1S7PUSAF 1951ポジテストターゲット、グループ0~7、25.4 mm x 25.4 mm
¥20,831
3 weeks
R1L1S7N Support Documentation
R1L1S7NUSAF 1951ネガテストターゲット、グループ0~7、25.4 mm x 25.4 mm
¥20,831
3 weeks
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USAF 1951分解能テストターゲット、38.1 mm x 38.1 mm

Microscope View of the R1DS1N
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ネガターゲットR2L2S4N の最小グループ(6と7)の顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R2L2S4PR2L2S4N
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値
  • 画像の分解能(解像度)を測定するための38.1 mm x 38.1 mmターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジターゲットとネガターゲットをご用意
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

38.1 mm x 38.1 mm(1.5インチ x 1.5インチのポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットでは、ソーダライムガラス基板上に低反射クロムが真空スパッタリングされています。テストターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある8グループ(+0~+7)で構成されており、最大分解能は 228.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ポジターゲットR2L2S4P は、低反射クロムパターンが透明な基板に加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。また、ネガターゲットR2L2S4Nでは、基板全体に同様の低反射のクロムコーティングが施されており、パターン部分は透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S4P Support Documentation
R2L2S4PUSAF 1951ポジテストターゲット、グループ0~7、38.1 mm x 38.1 mm
¥27,400
3 weeks
R2L2S4N Support Documentation
R2L2S4NUSAF 1951ネガテストターゲット、グループ0~7、38.1 mm x 38.1 mm
¥27,400
3 weeks
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USAF 1951分解能テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

USAF1951
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ネガターゲットR3L1S4N の最小グループ(6と7)の顕微鏡画像
  • 画像の分解能(解像度)を測定するための76.2 mm x 25.4 mmターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジターゲット、ネガターゲット、反射型ポジターゲットをご用意
  • スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能

76.2 mm x 25.4 mm(3インチ x 1インチ)のポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットでは、ソーダライムガラス基板上に低反射クロムが真空スパッタリングされています。 テストターゲット R3L1S4P1とR3L1S4N1は、1グループ内6つのエレメントがある8グループ(+0~+7)で構成されています。ホイールパターンターゲット(R3L1S4P、R3L1S4N、R3L1S4PR)はUSAF 1951ターゲットが9種類、それぞれが6グループ(+2~+7)で構成されています。 どちらのターゲットも最大分解能(解像度)は228.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。 USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

Optical Specifications
Item #R3L1S4P1R3L1S4N1R3L1S4PR3L1S4NR3L1S4PR
PatternLRa ChromeClearLRa ChromeClearLRa Chrome
BackgroundClearLRa ChromeClearLRa ChromeChrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0-
Chrome Reflectanceb-LRa Chrome: < 10%
Chrome: > 40%
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

当社のポジターゲットR3L1S4P1とR3L1S4Pでは、ソーダライムガラスに低反射のクロムパターンがエッチングされており、ソーダライムガラスの背景が透明のため、フロントライトや一般的な用途向けに便利です。また、ネガターゲットR3L1S4N1とR3L1S4Nでは、基板全体に低反射クロムコーティングが施されており、パターン部分は透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。反射型ポジターゲットR3L1S4PRは、クロムを背景にした暗い低反射クロムのパターンで構成されています。これらのパターンと背景のコントラストが高いため、反射で使用するのに大変適したターゲットです。詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L1S4P1 Support Documentation
R3L1S4P1USAF 1951ポジテストターゲット、グループ0~7、76.2 mm x 25.4 mm
¥27,400
3 weeks
R3L1S4N1 Support Documentation
R3L1S4N1USAF 1951ネガテストターゲット、グループ0~7、76.2 mm x 25.4 mm
¥27,400
3 weeks
R3L1S4P Support Documentation
R3L1S4PUSAF 1951ポジテストターゲット、グループ2~7、76.2 mm x 25.4 mm
¥33,199
Today
R3L1S4N Support Documentation
R3L1S4NUSAF 1951ネガテストターゲット、グループ2~7、76.2 mm x 25.4 mm
¥33,199
Today
R3L1S4PR Support Documentation
R3L1S4PRUSAF 1951ホイールパターンポジテストターゲット、グループ2~7、76.2 mm x 25.4 mm
¥33,199
3 weeks
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USAF 1951複屈折性分解能テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

R3L1S1B Pattern Reference
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1対の偏光子から見られるターゲットR3L1S1Bのグループ2~5の画像です。偏光子をターゲットに対して回転させることでポジパターンとネガパターンが生成されています。
Optical Specifications
DesignLiquid Crystal Polymer Between
Soda Lime Glass Slide and
Schott D 263® M Cover Glass
Slide Thickness1.0 mm (0.04")
Cover Slip Thickness0.2 mm
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 複屈折性ターゲットはポジパターン、ネガパターンの両方を表示します。
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • 25.4 mm × 76.2 mmソーダライムガラス基板、カバースリップ付き

76.2 mm x 25.4 mmのUSAF 1951複屈折性分解能テストターゲットはソーダライムガラスとSchott D 263®† Mカバースリップの間に複屈折性のパターンをはさむことにより作られています。複屈折性ターゲットR3L1S1Bは、1グループ内6つのエレメントがある8グループ(0~+7)で構成されており、1グループ内57.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。テストパターンは、偏光子のペアの間にターゲットを置いた場合のみ見えます(右の画像をご覧ください)。テストパターンについては上記の「分解能ターゲット」タブをご覧ください。

それぞれ偏光子の方向を調整することによって、ポジパターンまたはネガパターン両方を表示できるよう設計されています。偏光子がガラスカバーの側面とアライメントしている場合、ポジ画像が生成されます。偏光子がガラスカバーの側面に対して45°にアライメントされている場合、ネガ画像が生成されます。

この分解能ターゲットは偏光子の変動に敏感なため、複屈折性イメージングシステム顕微鏡、偏光顕微鏡、ノマルスキモード付きの顕微鏡、偏光イメージングシステム、ならびにミュラー行列偏光計の分解能の校正や測定に適しています。

† D 263®はSchott AG社の登録商標です。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L1S1B Support Documentation
R3L1S1BUSAF 1951複屈折性分解能ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm
¥40,664
3 weeks
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USAF 1951分解能テストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

USAF1951
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ネガテストターゲットR3L3S1Nの顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R3L3S1PR3L3S1NR3L3S1PR
PatternLRa ChromeClearLRa Chrome
BackgroundClearLRa ChromeChrome
Surface Flatness≤15 µm≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0-
Chrome Reflectanceb-LRa Chrome: < 10%
Chrome: > 40%
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様値
  • 76.2 mm x 76.2 mmのターゲットの分解能:最大4.4 µm/lp
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジターゲット、ネガターゲット、反射型ポジターゲットをご用意

76.2 mm x 76.2 mmのポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットです。このテストターゲットはソーダライムガラス基板上に低反射のクロムめっきが施されています。テストターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある10グループ(-2~+7)で構成されており、最大分解能は 228.0 lp/mm(白と黒のラインペア)です。USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

当社のポジターゲットR3L3S1Pは、ソーダライムガラスに低反射のクロムパターンがエッチングされており、ソーダライムガラスの背景が透明のため、フロントライトや一般的な用途向けに便利です。また、ネガターゲットR3L3S1Nは基板にクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。反射型ポジターゲットR3L1S4PRは、クロムを背景にした暗い低反射クロムのパターンで構成されています。これらのパターンと背景のコントラストが高いため、反射で使用するのに大変適したターゲットです。 詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S1P Support Documentation
R3L3S1PUSAF 1951ポジテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥29,929
Today
R3L3S1N Support Documentation
R3L3S1NUSAF 1951ネガテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥29,929
3 weeks
R3L3S1PR Support Documentation
R3L3S1PRUSAF 1951反射型ポジテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥29,929
Today
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NBS 1952分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR1L3S10Pの拡大画像
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • ワンパス走査で分解能が測定可能なターゲット、サイズ: 76.2 mm x 25.4 mm
  • NBS 1952ターゲットの中心には十字線
  • 分解能: 2.4~80 lp/mm
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

当社の76.2 mm x 25.4 mmのNBS 1952分解能(解像度)テストターゲットは、下表の通り、2.4~80 lp/mm(白と黒のラインペア)の異なる空間周波数が24通り、計48のラインセットで構成されています。NBS 1952ターゲットの中心には縦横長さ610 µmの十字線と、直径250 µmならびに500 µmの同心円があります。 このターゲットのラインセットはパターンに沿った1方向(水平または垂直方向)の走査だけで全ての分解能がテストできるよう配列されているので、ワンパスで光学系の分解能が測定可能です。 NBS 1952パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。 偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

NBS 1952 Pattern Resolutions
Resolution (lp/mm)2.42.83.44.04.85.66.88.09.611.21213.6141617202428344048566880
Line Width (µm)208.3176.8147.1125.0104.289.373.562.552.144.641.736.835.731.329.425.020.817.914.712.510.48.97.46.3
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S10P Support Documentation
R1L3S10PNBS 1952ポジ分解能(解像度)ターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、2.4~80 lp/mm
¥16,600
Lead Time
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NBS 1952分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR3L3S6Pの拡大画像
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • ワンパススキャンで分解能が測定可能なターゲット、サイズ:76.2 mm x 76.2 mm
  • NBS 1952ターゲットの中心には十字線
  • 分解能:0.48~16 lp/mm
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

当社の76.2 mm x 76.2 mmのNBS 1952分解能(解像度)テストターゲットは、下表の通り、0.48~16 lp/mm(白と黒のラインペア)の異なる空間周波数が24通り、計48のラインセットで構成されています。NBS 1952ターゲットの中心には縦横長さ3100 µmの十字線と、直径1250 µmならびに2500 µmの同心円があります。 このターゲットのラインセットはパターンに沿った1方向(水平または垂直方向)の走査だけで全ての分解能がテストできるよう配列されているので、ワンパスで光学系の分解能が測定可能です。 NBS 1952パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。 偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

NBS 1952 Pattern Resolutions
Resolution (lp/mm)0.480.560.680.80.961.121.361.61.922.242.42.722.83.23.44.04.85.66.88.09.611.213.616
Line Width (µm)1041.7892.9735.3625520.8446.4367.6312.5260.4223.2208.3183.8176.8156.3147.1125.0104.289.373.562.552.144.636.831.3
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S6P Support Documentation
R3L3S6PNBS 1952ポジテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm、0.48~16 lp/mm
¥25,646
3 weeks
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NBS 1963A分解能(解像度)テストターゲット、50.8 mm x 50.8 mm

NBS1963A
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ネガテストターゲットR2L2S1Nの顕微鏡画像

 

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 2.2• 5• 11
 • 1.1• 2.5• 5.6• 12.5
 • 1.25• 2.8• 6.3• 14
 • 1.4• 3.2• 7.1• 16
 • 1.6• 3.6• 8• 18
 • 1.8• 4• 9
 • 2• 4.5• 10

テストパターンについては上記の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。

Optical Specifications
Item #R2L2S1PR2L2S1N
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 周波数:1~18サイクル/mm(右の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 50.8 mm x 50.8 mmのソーダライムガラス基板
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の50.8 mm x 50.8 mmのNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲットは、周波数が1~18サイクル/mmのラインセットが26あり、これはサイクルサイズ1.0 mm~55.6 µmに相当します(詳しくは右表、ならびに「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください)。 パターンの各ラインセットには5本の水平ラインと5本の垂直ラインがあり、右の画像のようにサイクル/mmで示した周波数が表記されています。 光学システムの分解能は、解像できるラインセットの中で最大の分解能により決定できます。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR2L2S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR2L2S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1P Support Documentation
R2L2S1PNBS 1963Aポジ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~18サイクル/mm
¥29,929
3 weeks
R2L2S1N Support Documentation
R2L2S1NNBS 1963Aネガ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~18サイクル/mm
¥29,929
3 weeks
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微細パターンNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲット、50.8 mm x 50.8 mm


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ネガターゲットR2L2S1N1における、周波数が32ならびに29 サイクル/mmのラインセット。 拡大図では7.1~228 サイクル/mmのラインセットを示しています。

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ポジターゲットR2L2S1P1における、周波数が32ならびに29 サイクル/mmのラインセット。 拡大図では7.1~228 サイクル/mmのラインセットを示しています。
Optical Specifications
Item #R2L2S1P1R2L2S1N1
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 周波数:1~228サイクル/mm(下の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 50.8 mm x 50.8 mmのソーダライムガラス基板
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の50.8 mm x 50.8 mmの微細パターンNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲットは、周波数が1~228サイクル/mmのラインセットが48あり、これはサイクルサイズ1.0 mm~4.4 µmに相当します(詳しくは下の表、ならびに「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください)。 パターンの各ラインセットには5本の水平ラインと5本の垂直ラインがあり、右の画像のようにサイクル/mmで示した周波数が表記されています。 光学システムの分解能は、解像できるラインセットの中で最大の分解能により決定できます。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR2L2S1P1は、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR2L2S1N1の基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 1.6• 2.5• 4.0• 6.3• 10• 16• 25• 40• 64• 102• 161
 • 1.1• 1.8• 2.8• 4.5• 7.1• 11• 18• 29• 45• 72• 114• 181
 • 1.25• 2.0• 3.2• 5.0• 8.0• 12.5• 20• 32• 51• 81• 128• 203
 • 1.4• 2.2• 3.6• 5.6• 9.0• 14• 23• 36• 57• 91• 144• 228

テストパターンについては上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1P1 Support Documentation
R2L2S1P1Customer Inspired! NBS 1963Aポジ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~228サイクル/mm
¥33,199
Today
R2L2S1N1 Support Documentation
R2L2S1N1Customer Inspired! NBS 1963Aネガ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~228サイクル/mm
¥33,199
Today
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NBS 1963A複屈折性分解能ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm

R2L2S1B Pattern Reference
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テストターゲットの刻印されたパターン画像です。
R2L2S1B Positive and Negative Patterns
Click for Details 
2本のワイヤーグリッド偏光子を交差させて見えるR2L2S1Bの画像。 拡大図の左ではポジパターン、右ではネガパターンを示しています。
Optical Specifications
DesignLiquid Crystal Polymer
Between N-BK7 Substrate
and N-BK7 Protective Glass
Substrate Thickness2.0 mm (0.08")
Protective Glass Thickness0.2 mm
  • 光学システムの分解能を測定
  • 複屈折性ターゲットはポジパターン、ネガパターンの両方を表示します。
  • 周波数:1~18サイクル/mm(下の表をご覧ください)
  • 50.8 mm × 50.8 mmのN-BK7ガラス基板

当社の50.8 mm × 50.8 mm NBS 1963A複屈折性分解能ターゲットは、複屈折性パターンをガラス基板と保護ガラス(いずれもN-BK7ガラス製)で挟むことにより作られています。テストパターンは、偏光子のペアの間にターゲットを置いた場合のみ見えます(右の画像をご覧ください)。

そのそれぞれ偏光子の位置を調整することによって、ポジパターンならびにネガパターン両方を表示できるよう設計されています。 偏光子がガラスカバーの側面とアライメントしている場合、ポジ画像が生成されます。 偏光子がガラスカバーの側面に対して45°にアライメントされている場合、ネガ画像が生成されます。 この分解能ターゲットは偏光子の変動に敏感なため、 複屈折性イメージングシステム顕微鏡、偏光顕微鏡、ノマルスキモード付きの顕微鏡、偏光イメージングシステム、ならびにミュラー行列偏光計の分解能の校正や測定に適しています。

このテストターゲットは5本の水平ラインと5本の垂直ラインが26セットあります。 それぞれのラインセットには、1 mm毎のサイクル数を表す数字が書かれています。 最大周波数は18サイクル/mmで、最小周期はわずか0.0556 mmです。 詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。 パターンは偏光子が規定の角度をなした時のみ見えるように、基準となる2つの長方形がターゲットに刻印されています。 1番右の画像はその刻印されたパターン配列を示しています。

 

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 1.25• 1.6• 2• 2.5• 3.2• 4• 5• 6.3• 8• 10• 12.5• 16
 • 1.1• 1.4• 1.8• 2.2• 2.8• 3.6• 4.5• 5.6• 7.1• 9• 11• 14• 18

テストパターンについては上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1B Support Documentation
R2L2S1BNBS 1963A複屈折性分解能ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm
¥49,800
3 weeks
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セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm

Siemens Star Pattern
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セクタースターパターンR1L1S3Pの拡大図
  • 25.4 mm x 25.4 mmポジパターンのセクタースターターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっき付き

当社ではポジセクタースター(Siemensスター)パターンの25.4 mm x 25.4 mmターゲットを2種類ご用意しております。 テストターゲットR1L1S2Pは、360°内に線が36本あります。 ターゲット円の中心部の分解能は57.5 lp/mmです。 テストターゲットR1L1S3Pは、360°内に線が72本あり、円の中心部の分解能は115 lp/mmです。 どちらのターゲットも中心はØ200 µmで、隣接する線が円の中心からどの距離まで解像可能かを調べることにより光学系の分解能が測定できます。 セクタースターパターンの詳細については、上記の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。

Item #PatternBackgroundSurface
Flatness
Chrome Optical DensityPattern Outer DiameterCenter Circle DiameterNumber of BarsResolution at Outer DiameterResolution at Center Circle
R1L1S2PLow-Reflectivity ChromeClear≤15 µm≥3.0 at 430 nm10 mm200 µm36 Over 360°1.15 lp/mm57.5 lp/mm
R1L1S3P72 Over 360°2.30 lp/mm115 lp/mm
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S2P Support Documentation
R1L1S2PCustomer Inspired! セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm、線36本
¥24,900
Today
R1L1S3P Support Documentation
R1L1S3PCustomer Inspired! セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm、線72本
¥36,619
3 weeks
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ロンキールーリングターゲット、76.2 mm x 24.5 mm

Ronchi Ruling
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R1L3S14Nのロンキールーリングパターンの拡大図
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値
  • 76.2 mm x 25.4 mmの矩形パターンロンキールーリングターゲット
  • 10 lp/mm~350 lp/mmのパターンでご用意
  • 65 mm x 17 mmの大きな有効エリア
  • 光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性を評価
  • ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっき付き
  • スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能

当社では分解能が10 lp/mm~350 lp/mm(白と黒のラインペア)のロンキールーリングターゲットをご用意しております。縦格子と空白が等間隔に配置された矩形パターンは、76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板上に黒色の低反射クロムパターンを蒸着して製造されています。有効エリアが65 mm x 17 mmと大きいため、バックライトや高照度の用途に適しています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。ロンキールーリングは、光学システムの分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S12N Support Documentation
R1L3S12Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、10 lp/mm
¥22,560
3 weeks
R1L3S13N Support Documentation
R1L3S13Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、20 lp/mm
¥22,560
3 weeks
R1L3S14N Support Documentation
R1L3S14Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、40 lp/mm
¥22,560
3 weeks
R1L3S15N Support Documentation
R1L3S15Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、80 lp/mm
¥22,560
Today
R1L3S16N Support Documentation
R1L3S16Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、100 lp/mm
¥22,605
3 weeks
R1L3S17N Support Documentation
R1L3S17Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、150 lp/mm
¥25,345
3 weeks
R1L3S18N Support Documentation
R1L3S18Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、200 lp/mm
¥25,345
3 weeks
R1L3S19N Support Documentation
R1L3S19Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、250 lp/mm
¥25,345
3 weeks
R1L3S20N Support Documentation
R1L3S20Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、300 lp/mm
¥25,345
3 weeks
R1L3S21N Support Documentation
R1L3S21Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 24.5 mm、350 lp/mm
¥28,770
3 weeks
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ラインターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

Siemens Star Pattern
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ラインターゲットR1L3S6Pの拡大図
Optical Specifications
Item #R1L3S6PR1L3S6PR
PatternLRa ChromeLRa Chrome
BackgroundClearChrome
Surface Flatness≤15 µm≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0-
Chrome Reflectanceb-LRa Chrome: < 10%
Chrome: > 40%
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様値
  • 76.2 mm x 25.4 mmのラインターゲット
  • 分解能:1.25 lp/mm~250 lp/mm
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • ソーダライムガラス基板上に低反射クロムを真空スパッタリング
  • スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能
  • コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意

76.2 mm x 25.4 mmのポジティブパターンのラインターゲットは、分解能は1.25~250 lp/mm(白と黒のラインペア)、18種類のライン群で構成されています。下には分解能のリストが記載されています。光学システムの分解能は、解像できるライン群の中で最高の分解能により規定します。

当社のポジターゲットR1L3S6Pは、ソーダライムガラスに低反射クロムパターンがエッチングされており、ソーダライムガラスの背景が透明のため、フロントライトや一般的な用途向けに便利です。反射型ポジターゲットR3L1S4PRは、クロムを背景にした暗い低反射クロムのパターンで構成されています。これらのパターンと背景のコントラストが高いため、反射で使用するのに大変適したターゲットです。 詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

 

Resolutions of Included Line Gratings (lp/mm)
 • 1.25• 2.08• 2.86• 3.85• 5.00• 10.0• 16.67• 50.0• 200
 • 1.67• 2.50• 3.33• 4.17• 6.67• 12.5• 26.0• 100• 250
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S6P Support Documentation
R1L3S6PCustomer Inspired! ラインターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
¥74,702
Today
R1L3S6PR Support Documentation
R1L3S6PR反射型ラインターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
¥74,702
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同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952
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ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、下表参照)
NBS 1952
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ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • グリッド内に同心円と十字線を配置
  • それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
  • イメージングシステムの分解能、歪み、倍率を測定
  • 76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線グリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行x17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。 右の写真では、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。 それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。 パターンの寸法についての詳細は下の表をご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Concentric Circles
Circle PatternaR1R2R3R4R5R6R7
A131.3 µm62.5 µm125 µm140.6 µm234.4 µm242.2 µm500 µm
A215.6 µm31.3 µm62.5 µm70.3 µm117.2 µm121.1 µm250 µm
A37.8 µm15.6 µm31.3 µm35.2 µm58.6 µm60.5 µm125 µm
A43.9 µm7.8 µm15.6 µm17.6 µm29.3 µm30.3 µm62.5 µm
  • 右上の写真に表示
Crosshairs
Crosshair PatternaSingle or Double LineLength/WidthLine Widthb
B1Double500 µm6.25 µm
B2Double500 µm12.5 µm
B3Single500 µm50 µm
B4Double500 µm25 µm
B5Double500 µm100 µm
  • 右上の写真に表示
  • 線幅は線と線との間隔を意味します。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S5P Support Documentation
R3L3S5P同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥83,000
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分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

Combined Resolution Test Target
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ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R1L1S1PR1L1S1N
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • 18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mm
  • 光学システムの分解能を測定
  • USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2~7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30~150 lp/mm)が描かれています。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。 詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。 グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR1L1S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
1951 USAF TargetGroups 2 - 7Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm PitchRonchi Rulings13 Rulings from 30 lp/mma to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • 1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S1P Support Documentation
R1L1S1PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、18 mm x 18 mm
¥80,559
Today
R1L1S1N Support Documentation
R1L1S1NCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ネガターゲット、18 mm x 18 mm
¥80,559
3 weeks
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分解能ならびに歪み測定一体型テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

 

Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)
• 4.5• 10• 23• 51• 114
• 5• 11• 25• 57• 128
• 5.6• 12.5• 29• 64• 144
• 6.3• 14• 32• 72• 161
• 7.1• 16• 36• 81• 181
• 8• 18• 40• 91• 203
• 9• 20• 45• 102• 228
Stage Micrometer
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R1L3S5Pの拡大図
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 76.2 mm x 25.4 mmターゲット
  • NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほか付き(下の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。 当社のスライドホルダMLS203P2に取付けて、 顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(下の表をご覧ください)。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能の測定にお使いいただけます。 詳細については、上の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。 グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
NBS 1963AFrequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)3 Grids: 100 lp/mma, 150 lp/mm, 200 lp/mmFixed Ronchi Rulings3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots,
200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots
Variable Ronchi Rulings20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution DotsØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µmPinholesØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mmThree Micrometers1 mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divisions
1 mm Scale with 10 µm Divisions
10 mm Scale with 50 µm Divisions
Sector Star36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S5P Support Documentation
R1L3S5PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
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3 weeks