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分解能(解像度)テストターゲット


  • Test Targets Identify Resolution of an Imaging System
  • Positive and Negative Patterns Available
  • Combined Resolution and Distortion Targets Available

R1DS1N

Ø1" 1951
USAF Target

R1L3S6P

Variable Line Grating Target

R1L1S1P

Combined Resolution
and Distortion Target

R3L3S1N

Negative 1951 USAF Target

R1L1S2P

Sector Star Target

R2L2S1P1

Positive, High-Frequency
NBS 1963A Target

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TypePhotolithographicBirefringent
DesignChrome-on-GlassBirefringent Pattern
SubstrateClear Soda Lime GlassbN-BK7 Glass
Chrome Thickness0.120 µmN/A
Chrome Optical DensityOD ≥ 3 at 430 nmN/A
Substrate Thickness0.06" (1.5 mm)0.16" (4.0 mm)
Surface Flatness<5 µmN/A
Line Spacing Tolerancea±1 µmN/A
Line Width Tolerancea±0.5 µmN/A
  • この公差はターゲットを製造する際に用いられるマスクに対して適用される値であり、必ずしもターゲット自体の公差ではありません。
  • ポジターゲットには、クロムパターンが透明な基板にコーティングされています。ネガターゲットの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。
Test Target
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テストターゲットポジショナXYF1(/M)に取り付けられたNBS 1963A分解能ターゲットR2L2S1N

特長

  • USAF 1951とNBS 1963Aのポジパターンおよびネガパターン分解能(解像度)テストターゲット
  • NBS 1952のポジパターン分解能(解像度)テストターゲット
  • セクタースターターゲット
  • ラインターゲット
  • 分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット

テストターゲットは、通常イメージングシステムの分解能(解像度)を測定するために使用されるものです。 これらのターゲットには、基準となるラインパターンが定められた幅と間隔で描画されており、イメージング対象と同一面に設置できるよう設計されています。 識別できた最も小さなラインパターンを特定することにより、イメージングシステムの分解能を同定することができます。 当社では、USAF 1951、NBS 1952ならびにNBS 1963Aパターンのテストターゲットをご提供しております。 他にもセクタースター(Siemensスター)パターンや、様々なライン幅から成るラインパターン、ならびに分解能と歪み測定のパターンが一体になっているテストターゲットをご用意しております。 各パターンの詳細については、「分解能テストターゲット」タブをご参照ください。

当社のテストターゲットの多くはポジまたはネガパターンからお選びいただけます。 ポジターゲットには、真空スパッタリングされた低反射クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 ネガターゲットの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。

取付け
このテストターゲットは、当社の4種類ある顕微鏡用スライドホルダのいずれかに取り付けることができます。 固定式スライドホルダMAX3SLHにはスライドやテストターゲットを取り付けるためのバネクリップが2つ付いており、当社の全ての3軸移動ステージに取り付けることができます。 MAX3SLHは、幅が50.8 mm以上のテストターゲットにのみ対応しており、開口部は25.4 mmです。よってテストターゲットの中には、クロムパターンが隠れてしまう種類もございます。 また当社では、幅25.4 mm~76.2 mmの長方形ターゲットを50 mm x 30 mmの範囲で移動させることが可能なテストターゲットポジショナXYF1/M (右の写真参照)もご用意しております。マウント背面のアダプタには5つのM4タップ穴があるので、ポストを6通りに取り付けることができます。 XYF1/Mは、先端がナイロン製の止めネジ(セットスクリュ)を使用してテストターゲットを固定します。なお、マウントのアームが両側に4.4 mmかかりますのでご注意ください。 MLS203シリーズの顕微鏡用ステージをお使いになる場合には、倒立顕微鏡用のスライドホルダをご用意しています。倒立顕微鏡用スライドホルダMLS203P2では、幅25 mm~26.5 mmのスライドや、直径30 mm~60 mmのペトリ皿を取り付け可能です。

フォトリソグラフィによるターゲットの製造
当社では、イメージングシステムの校正と測定にお使いいただけるカスタム仕様のテストターゲットもご提供しております。 パターンは、マスクアライナを用いた接触型フォトリソグラフィによりガラス基板上に加工されています。 パターン加工後には、基板に化学エッチングを施し、クラス100のクリーンルーム内で洗浄します。

複屈折性ターゲットの製造
複屈折性分解能ターゲットR2L2S1Bには、1対の偏光子を通してのみ見えるパターンが施されており、偏光光学システムの校正にお使いいただけます。 このターゲットは、ファスト軸を有する液晶高分子層を2枚のN-BK7ガラスカバーで保護する構造で、フォトマスクのアライメントプロセスを使って製造されます。 全体のファスト軸がガラスカバーの側面に対して平行、パターンが加工されている部分のファスト軸がエッジに対して45°アライメントするよう設計されています。 ターゲット全体のリターダンスは280 ± 20 nmです。 さらに1対の偏光子の向きを調整することにより、ポジとネガ両方のパターンを表示させることが可能です。 偏光子がガラスカバーの側面とアライメントしている場合、ポジ画像が生成されます。 偏光子がガラスカバーの側面に対して45°にアライメントされている場合、ネガ画像が生成されます。

当社では、他に様々な種類のレチクルもご提供しており、対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。

Targets Selection Guide
Resolution Test TargetsDistortion Test TargetsSlant Edge MTF Resolution Test TargetsCalibration Targets

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ラインペアを用いると、カメラがどの程度2つの物体を区別できるかを測定することができます。

イメージング分解能

イメージングシステムの分解能は通常、1 mmあたりのラインペア数(lp/mm)で示されます。この値はシステムが記録可能な2つの物体間の最小距離を表しています。lp/mm 値が高くなると各ラインペア間の距離は小さくなります。

右の図ではシステムの分解能の限界を示しています。左のカメラでイメージング時のラインペアは、2本のラインがカメラセンサの隣り合うピクセルによって記録されていて、1つのラインのように示されるため、分解できません。反対に右のラインペアの間隔は大きいため、分解可能です。 

下記ではこちらのページの分解能テストターゲットで得られるラインパターンについて説明しています。


USAF1951ターゲット

  • MIL-S-150A規格に準拠
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化
  • ポジターゲットとネガターゲットをご用意 
  • 76.2 mm x 76.2 mmターゲット(10グループ)、76.2 mm x 25.4 mmホイールパターンターゲット(6グループ)、18 mm x 18 mm一体型ターゲット(6グループ)、Ø25.4 mmターゲット(6グループ)

分解能ターゲットには水平方向と垂直方向にラインが描かれており、イメージングシステムの分解能(解像度)を測定するために使用します。 パターンは、1つのグループにつき6つのエレメントのセット(水平方向と垂直方向のラインペア)、10個のグループで構成されています。 右の写真は、分解能ターゲットのグループ-2、エレメント2と3を示しています。 

3本のラインセットになっているため、偽解像を認識できる性能が向上しています。 偽解像は、ラインセットがぼやけ重なった部分の白黒がくっきりと反転しているように見える現象です。 このように反転したラインは識別しやすいため、光学システムの分解能を誤って読み取る可能性があります。 偽解像ではラインセットのラインが1本少なく見えます。 ラインが例えば5本から4本に減っているのに気づくよりも、3本から2本に減っている場合の方が気づきやすいことから、3本のラインセットが偽解像の発生を認識しやすいのです。

各エレメントのライン間隔は、ライン線幅と等しくなっています。 ターゲットをイメージングした際、水平方向と垂直方向のラインの鮮明さによりイメージングシステムの分解能が測定できます。 識別可能な最も小さなラインを特定すれば、イメージングシステムの分解能が同定できます。 下の表は、各グループ、エレメントの1ミリメートルあたりのラインペアの数です。下の計算式をもとに算出しました。 当社の分解能ターゲットの最大分解能は228.0ラインペア/ミリメートルで、約4.4 µm/ラインペアとなります。 76.2 mm x 76.2 mmターゲットは-2~+7の10グループ、76.2 mm x 25.4 mmのホイールパターンのターゲットは9種類、それぞれ+2~+7のグループがあります。18 mm x 18 mmの一体型ターゲットには+2~+7の6グループ、そしてØ25.4 mmターゲットには+2~+7の6グループがあります。

Resolution Target
ラインセットの例

Test Target Equation

ElementGroup Number
 -2-101234567
10.2500.5001.002.004.008.0016.0032.0064.00128.00
20.2800.5611.122.244.498.9817.9536.071.8144.0
30.3150.6301.262.525.0410.1020.1640.380.6161.0
40.3530.7071.412.835.6611.3022.6245.390.5181.0
50.3970.7931.593.176.3512.7025.3950.8102.0203.0
60.4450.8911.783.567.1314.3028.5057.0114.0228.0

単位: lp/mm


NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR3L3S6Pの拡大画像

NBS 1952ターゲット

  • ワンパススキャンで測定可能
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化
  • ポジターゲットでご用意
  • サイズ:25.4 mm x 76.2 mm、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952ターゲットは、3本のラインセットが垂直方向ならびに水平方向に並んでいます。 1つの線と、次の線までの空間を、1つのラインペアまたはサイクルとしています。 各ターゲットがテスト可能な分解能は、そのラインペアの空間周波数(ラインペア/mm)で求めます。 下の表には2サイズのNBS 1952ターゲットの空間周波数と対応する線幅が記載されています。

こちらのターゲットには偽解像を最小限に抑制できる、そしてワンパススキャンが可能であるという2つの利点があります。 偽解像は、ラインセットがぼやけ重なった部分の白黒がくっきりと反転しているように見える現象です。 このように反転したラインは識別しやすいため、光学システムの分解能を誤って読み取る可能性があります。 偽解像ではラインセットのラインが1本少なく見えます。 ラインが例えば5本から4本に減っているのに気づくよりも、3本から2本に減っている場合の方が気づきやすいことから、3本のラインセットが偽解像の発生を認識しやすいのです。

このターゲットのラインセット配列によって、ワンパススキャンが実現可能になります。 水平方向と垂直方向に配列されたラインセットは左上から右下への対角線に対して対称となるよう、全く同じ形状ならびに空間周波数で配列されています。 ターゲットの左から右へ、もしくは上から下へスキャンした場合、空間周波数は中央に向かって増加し、反対側の端に向かって減少します。 水平方向でも垂直方向でも1回のスキャンで空間周波数をすべて網羅できるパターン配列となっています。 よって光学系の分解能を測定する際にも1方向のみのスキャンだけで測定可能です。

Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)Resolution (lp/mm)Line Width (µm)
0.481041.72.24223.26.873.52025
0.56892.92.4208.3862.52420.8
0.68735.32.72183.39.652.12817.9
0.86252.8176.811.244.63414.7
0.96520.83.2156.31241.74012.5
1.12446.43.4147.113.636.84810.4
1.36367.641251435.7568.9
1.6312.54.8104.21631.3687.4
1.92260.45.689.31729.4806.3

NBS1963A
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ネガテストターゲットR2L2S1Nの顕微鏡画像

NBS 1963Aターゲット

  • ポジターゲット、ネガターゲット、ならびに複屈折性ターゲットをご用意
  • 高周波バージョンもございます。
  • NBS 1963Aの専用ターゲットの寸法は50.8 mm x 50.8 mm、分解能ならびに歪み測定一体型のターゲットは76.2 mm x 25.4 mm

NBS 1963Aターゲットには、垂直方向と水平方向のラインが5本ずつのラインセットがあります。 1つの線と、次の線までの空間を、1つのラインペアまたはサイクルとしています。 各ターゲットがテスト可能な分解能は、そのサイクルの周波数(サイクル/mm)により規定されます。 当社のNBS 1963Aの各ラインのセットには周波数が表示されています。 識別可能なラインの中で最小のラインセットを確定することにより(最大サイクル/mm)、イメージングシステムの分解能が決まります。

当社の標準的なNBS 1963Aターゲットは、26本のラインのセット、1.0 サイクル/mm~18.0サイクル/mmの分解能でご用意しております。 さらに高い分解能をご要望の場合、48本のラインのセットで分解能が1.0 サイクル/mm~228サイクル/mmの微細パターンを有するNBS 1963Aターゲット、または35本のラインのセットで分解能が4.5 サイクル/mm~228サイクル/mmの分解能と歪み測定一体型ターゲットR1L3S5Pがございます。 各サイクルのサイズは単純に周波数の逆数で、当社がご提供する周波数のサイクルサイズがすべて下記に記載されています。 線幅は、サイクルサイズの1/2の値です。

Cycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle SizeCycles/mmCycle Size
1.01.00 mm4.00.250 mm16.00.063 mm64.00.016 mm
1.10.909 mm4.50.222 mm18.00.056 mm72.00.014 mm
1.250.800 mm5.00.200 mm20.00.05 mm81.00.012 mm
1.40.714 mm5.60.179 mm23.00.043 mm91.00.011 mm
1.60.625 mm6.30.159 mm25.00.040 mm1020.010 mm
1.80.556 mm7.10.141 mm29.00.034 mm1140.009 mm
2.00.500 mm8.00.125 mm32.00.031 mm1280.008 mm
2.20.455 mm9.00.111 mm36.00.028 mm1440.007 mm
2.50.400 mm10.00.100 mm40.00.025 mm1610.0062 mm
2.80.357 mm11.00.091 mm45.00.022 mm1810.0055 mm
3.20.313 mm12.50.080 mm51.00.020 mm2030.0049 mm
3.60.278 mm14.00.071 mm57.00.018 mm2280.0044 mm

Siemens Star Pattern
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R1L1S3Pのセクタースターパターンの拡大画像

セクタースターターゲット

セクタースターターゲット(Siemensスターターゲット)は、中心から放射状に広がるにつれて太くなる黒い棒線から成っています。 黒い線の間の空間は白い線として捉えることができ、白い線の幅は、同じラジアル距離における黒い線の幅と等しくなっております。 理論的には、これらの線はターゲットのちょうど中心点でのみ接します。 セクタースターターゲットによっては、こちらのページで販売している製品も含め、中心に丸い空間があり、線が接していないものもあります。 しかし、ターゲットを使用している光学システムの分解能によって、線は中心から離れた位置で接しているように見えます。 この距離を測定することにより、光学システムの分解能が定義づけできます。

セクタースターの中心からラジアル距離における分解能を算出する場合には、まずその距離での黒と白のラインペアの線幅を測定します。 この値は下記の弦長の式で求められます。rは、中心からのラジアル距離です。 Θは、白と黒1本ずつのペアの角度で、360°をラインペアの合計数で割ります。 分解能はラインペアの線幅の逆数となります。

chord length equationresolution equation

当社では、セクタースターターゲット専用パターンを2種類(R1L1S2PとR1L1S3P)、他のパターンにセクタースターが付いているものを3種類(R1L3S5P、R1L1S1P、ならびにR1L1S1N)をご用意しております。 下の表には各ターゲットのセクタースターパターンの概要が記載されています。

Item #Pattern TypeSector Star Pattern Outer DiameterCenter Circle DiameterNumber of BarsResolution at Outer DiameterResolution at Center Circle
R1L1S2PPositive10 mm200 µm36 Over 360°1.15 lp/mm57.5 lp/mm
R1L1S3P72 Over 360°2.29 lp/mm115 lp/mm
R1L3S5PPositive2 mm100 µm36 Over 360°5.75 lp/mm115 lp/mm
R1L1S1PPositive2 mm20 µm36 Over 360°5.75 lp/mm575 lp/mm
R1L1S1NNegative

Siemens Star Pattern
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ラインターゲットR1L3S6Pの拡大図

様々な線幅からなるラインターゲット

ラインパターンは、線幅と等しい間隔の黒い平行線とで構成されています。 1本の黒線と次の黒線までの空間が1つのラインペアとなります。 光学システムの分解能は、隣接のラインペアを識別できる能力で決まります。 よって、ラインターゲットの分解能は、一定の空間内のラインペアの数によって定義され、通常1ミリメートル毎のラインペア数で表されます(lp/mm)。 ラインターゲットにはラインパターンがいくつかあり、分解能はそのラインパターンを用いて決定されます。 光学システムが解像できるラインの中で最高の分解能が、そのシステムの分解能となります。

当社のラインターゲットは、1.25 lp/mm~250 lp/mmの分解能でご用意しております。 下の表には、ラインターゲットの分解能とラインペアサイズの換算値が記載されています。

lp/mmLine Pair Sizelp/mmLine Pair Sizelp/mmLine Pair Size
1.250.80 mm3.850.26 mm16.670.06 mm
1.670.60 mm4.170.24 mm500.02 mm
2.080.48 mm5.00.20 mm1000.01 mm
2.50.40 mm6.670.15 mm2000.005 mm
2.860.35 mm10.00.10 mm2500.004 mm
3.330.30 mm12.50.08 mm--

Posted Comments:
sureshbil67  (posted 2018-08-11 07:29:46.71)
I want to know resolution target patterns specification of Night vision devices
YLohia  (posted 2018-09-17 09:59:01.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. I have reached out to you directly to discuss your application in more detail.
haolin.zhang  (posted 2018-05-09 20:12:29.3)
I am using the R2L2S1B Resolution Target to implement a holographic experiment. Could you please provide me the refractive index of the liquid crystal polymer layer aligned in the target, please? Also, could you please provide the information about the material of this liquid crystal polymer layer? Thanks in advance.
YLohia  (posted 2018-05-11 08:39:33.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Unfortunately, we cannot disclose this information since it is proprietary.
ayoub.mghari  (posted 2017-11-29 11:27:24.9)
I am interested in ordering this target but I have the following question: My understanding is that the target is made out of Chrome coating on Soda Lime Glass. This, due to a given illumination system will result in shadows on the rear side, correct? Is it possible to have this target on a non-transparent glass? Please send me a Quote by E-mail.
nbayconich  (posted 2017-12-27 04:07:26.0)
Thank you for contacting Thorlabs. You are correct if using the positive resolution targets then light incident on the front of the target light will reflect off of the chrome patterns. The negative targets have clear patterns with chrome coating the rest of the substrate which makes these intended for back lit applications. We can provide custom targets with non-transparent substrate such as opal. I will reach out to you directly to discuss our custom target capabilities.
miguel.pleitez  (posted 2017-05-24 13:59:18.767)
would it be possible to get this test targets but on a ZnSe substrate instead of glass? I would be very interested on them. Let me know. Thanks in advance.
nbayconich  (posted 2017-06-13 09:48:26.0)
Thank you for contacting Thorlabs. I will contact you directly about our custom capabilities.
yoonys  (posted 2016-12-06 01:07:03.37)
It'd be helpful to draw what "line pair" is on the website, like Figure 1(b) in the following link. http://www.edmundoptics.com/resources/application-notes/imaging/resolution/
tcampbell  (posted 2016-12-15 11:47:36.0)
Response from Tim at Thorlabs: Thank you for your feedback. We will look into adding a diagram explaining line pairs and camera resolution soon.
theodore_morse  (posted 2016-11-16 11:49:07.157)
I wish to use a blue laser (266 nm) to get the resolution. In the masks that you use, will it transmit blue light? I would prefer it to be a quartz substrate. Ted Morse Prof. (Research) School of Engineering Brown University Providence, RI 02912
tfrisch  (posted 2016-11-18 10:32:42.0)
Hello Ted, thank you for contacting Thorlabs. I am checking on the transmission and reflection of the chrome and soda lime in UV regions now. I will contact you directly when I have more information.
user  (posted 2014-06-02 12:59:19.84)
What is the line width of the grids on the R1L1S1P resolution target?
jlow  (posted 2014-06-03 10:41:23.0)
Response from Jeremy at Thorlabs: The grid line width is 5µm for both the 100µm and 50µm grids, and 1.5µm for the 10µm grid.
pnon  (posted 2012-12-24 11:58:00.0)
Response from Pauline at Thorlabs: The masks used for our test targets are calibrated to NIST-traceable standards. We use contact photolithography with a mask aligner to define the pattern on the glass substrate. Once the pattern is defined, we chemically etch the substrates to produce the finished targets. Although similar in performance with the mask, we do not provide NIST traceable certificates. I will contact you shortly to provide information in getting targets with NIST certificates.
mmarcoux  (posted 2012-12-17 10:05:40.897)
Are the R1L3S3P distortion targets N.I.S.T. certified/traceable?
tcohen  (posted 2012-06-18 10:51:00.0)
Response from Tim at Thorlabs: Information on this question was provided for a previous request @400nm below: “The reflectivity of dark pattern on reticle is less than 12% @400nm. For the white pattern, it is just sodium lime glass, so the reflectivity is estimated to be ~ 3.5% @ 400nm ( assuming refractive index is ~ 1.463).” I have contacted you to find out your wavelength and to see if you require more information.
cooljkpark  (posted 2012-06-15 07:09:36.0)
Can you tell me the reflection coefficient of glass and chrome in your resolution target?
bdada  (posted 2012-06-05 19:09:00.0)
Response from Buki at Thorlabs to marctessier: Thank you for participating in our feedback forum. We are developing some new crossed reticles and we have contacted you for a drawing of the custom reticle you need. We have an office in France and the information is included on the web page linked below that lists our offices and distributors world wide: http://www.thorlabs.de/Distributors.cfm
marctessier  (posted 2012-06-05 17:31:41.0)
Hello, I'm working in Rillieux la Pape, near Lyon, in France, and I must find a custom 1" crossed reticle. I've a PDF file showing it. I need only one part. Are you able to supply such good? Do you have a french retailer? Best regards, Marc
bdada  (posted 2012-02-27 17:34:00.0)
Response from Buki to dick.verhaart: For our reticle products, we use chrome with O.D.=>3.0 @430nm. The reflectivity of dark pattern on reticle is less than 12% @400nm. For the white pattern, it is just sodium lime glass, so the reflectivity is estimated to be ~ 3.5% @ 400nm ( assuming refractive index is ~ 1.463). Please contact TechSupport@thorlabs.com if you have any questions.
bdada  (posted 2012-02-24 18:46:00.0)
Response from Buki at Thorlabs to dick.verhaart: Thank you for your feedback. We are looking into this and will contact you shortly with more information and post an update here.
dick.verhaart  (posted 2012-02-02 05:48:19.0)
Can this product (R3L3S1P/N) be used with 405 nm reflective illumination? I find with similar products from other suppliers that the reflection contrast, at this wavelength, between glass and chrome is very small, contrast reversal may occur. Does Thorlabs specific refelctivity of "black"and "white"at 405 nm?
bdada  (posted 2011-08-01 14:14:00.0)
Response from Buki at Thorlabs: We measured the smallest grid pattern (10um) of R1L2S2P using a micrometric system, OLYMPUS MX50, and the tolerance of the pattern is < +/-0.1um. Please contact TechSupport@thorlabs.com with additional questions.
ajh  (posted 2011-07-26 03:05:25.0)
Can you provide specifications for the accuracy of the graduations on your stage micrometers, R1L2S2P and R1L2S1P? I assume they are very accurate but when calibrating image scale you do want to know how accurate your calibrator is.
user  (posted 2011-01-31 10:50:15.0)
Response from Buki to Paul. Thank you so much for your feedback. We are expanding our selection of reticles and will make them more compatible with our cage system. We will contact you directly to learn how we can better meet your needs.
paul  (posted 2011-01-24 12:02:31.0)
I am surprised (given the sophistication of your product line)you do not stock reticles that can be used with the cage plate systems. I currently buy reticles elsewhere and then mount them in cage plates.

USAF 1951分解能(解像度)テストターゲット、Ø25.4 mm

Microscope View of the R1DS1N
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ネガテストターゲットR1DS1Nの顕微鏡画像
  • Ø25 mm~Ø25.4 mm(Ø1インチ)レンズチューブアライメント用Ø25.4 mm(Ø1インチ)ターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジまたはネガパターンでご用意
  • 偽解像の発生を最小限に抑える3組のラインペア

Ø25.4 mm(Ø1インチ)のポジまたはネガパターンの分解能(解像度)テストターゲットには、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されています。 テストターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある6 グループ(+2~+7)で構成されており、最大分解能は 228.0 lp/mmです。 USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能テストターゲット」のタブをご参照ください。

このターゲットには各ラインペアが3組あるので、偽解像の発生を低減し、不正確な分解能測定を防ぎます。偽解像についての詳細は「分解能テストターゲット」タブをご参照ください。

ポジターゲットR1DS1Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1DS1Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1DS1P Support Documentation
R1DS1PCustomer Inspired! USAF 1951ポジテストターゲット、Ø25.4 mm(Ø1インチ)
¥17,482
Today
R1DS1N Support Documentation
R1DS1NCustomer Inspired! USAF 1951ネガテストターゲット、Ø25.4 mm(Ø1インチ)
¥17,482
Today

USAF 1951ホイールパターン分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

USAF1951
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ネガテストターゲットR3L1S4Nの顕微鏡画像
  • 画像の分解能(解像度)を測定するための76.2 mm x 25.4 mmターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジまたはネガパターンでご用意
  • スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

76.2 mm x 25.4 mmのポジまたはネガパターンの分解能テストターゲットには、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されています。 76.2 mm x 25.4 mmのホイールパターンターゲットには、9つのUSAF 1951 テストターゲットがあります。各テストターゲットは 6グループ(+2~+7)で構成されており、最大分解能は 228.0 lp/mmです。 USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能テストターゲット」のタブをご参照ください。

このターゲットには各ラインペアが3組あるので、偽解像の発生を低減し、不正確な分解能測定を防ぎます。偽解像についての詳細は「分解能テストターゲット」タブをご参照ください。

ポジターゲットR3L1S4Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR3L1S4Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L1S4P Support Documentation
R3L1S4PUSAF 1951ポジホイールパターン、76.2 mm x 25.4 mm
¥27,862
Today
R3L1S4N Support Documentation
R3L1S4NUSAF 1951ネガホイールパターン、76.2 mm x 25.4 mm
¥27,862
Today

USAF 1951分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

USAF1951
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ネガテストターゲットR3L3S1Nの顕微鏡画像
  • 76.2 mm x 76.2 mmのターゲットの分解能:最大4.4 µm/lp
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • MIL-S-150A規格に準拠
  • ポジまたはネガパターンでご用意

76.2 mm x 76.2 mmのポジまたはネガパターンの分解能(解像度)テストターゲットです。このテストターゲットはソーダライムガラス基板上にクロムめっきが施されています。 76.2 mm x 76.2 mmのターゲットは、1グループ内6つのエレメントがある10グループ(-2~+7)で構成されており、最大分解能は 228.0 lp/mmです。 USAF 1951パターンの詳細については、上記の「分解能テストターゲット」のタブをご参照ください。

このターゲットには各ラインペアが3組あるので、偽解像の発生を低減し、不正確な分解能測定を防ぎます。偽解像についての詳細は「分解能テストターゲット」タブをご参照ください。

ポジターゲットR3L3S1Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR3L3S1Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S1P Support Documentation
R3L3S1PUSAF 1951ポジテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥22,399
Today
R3L3S1N Support Documentation
R3L3S1NUSAF 1951ネガテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥22,399
3-5 Days

NBS 1952分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR1L3S10Pの拡大画像
  • ワンパス走査で分解能が測定可能なターゲット、サイズ: 76.2 mm x 25.4 mm
  • NBS 1952ターゲットの中心には十字線
  • 分解能: 2.4~80 lp/mm
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

当社の76.2 mm x 25.4 mmのNBS 1952分解能(解像度)テストターゲットは、下表の通り、2.4~80 lp/mmの空間周波数が24通り、計48のラインセットで構成されています。 NBS 1952ターゲットの中心には縦横長さ610 µmの十字線と、直径250 µmならびに500 µmの同心円があります。 このターゲットのラインセットはパターンに沿った1方向(水平または垂直方向)の走査だけで全ての分解能がテストできるよう配列されているので、ワンパスで光学系の分解能が測定可能です。 NBS 1952パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。 偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

NBS 1952 Pattern Resolutions
Resolution (lp/mm)2.42.83.44.04.85.66.88.09.611.21213.6141617202428344048566880
Line Width (µm)208.3176.8147.1125.0104.289.373.562.552.144.641.736.835.731.329.425.020.817.914.712.510.48.97.46.3
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S10P Support Documentation
R1L3S10PNBS 1952ポジ分解能(解像度)ターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、2.4~80 lp/mm
¥13,931
Today

NBS 1952分解能(解像度)テストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952
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NBS 1952ターゲットR3L3S6Pの拡大画像
  • ワンパススキャンで分解能が測定可能なターゲット、サイズ:76.2 mm x 76.2 mm
  • NBS 1952ターゲットの中心には十字線
  • 分解能:0.48~16 lp/mm
  • 3本のラインセットにより偽解像を最小化

当社の76.2 mm x 76.2 mmのNBS 1952分解能(解像度)テストターゲットは、下表の通り、0.48~16 lp/mmの空間周波数が24通り、計48のラインセットで構成されています。 NBS 1952ターゲットの中心には縦横長さ3100 µmの十字線と、直径1250 µmならびに2500 µmの同心円があります。 このターゲットのラインセットはパターンに沿った1方向(水平または垂直方向)の走査だけで全ての分解能がテストできるよう配列されているので、ワンパスで光学系の分解能が測定可能です。 NBS 1952パターンの詳細については、上記の「分解能ターゲット」のタブをご参照ください。

こちらのターゲットは偽解像の発生を抑制する3本のラインセットが特長となっているため、分解能測定の間違いを防ぎます。 偽解像の詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

NBS 1952 Pattern Resolutions
Resolution (lp/mm)

0.48

0.56

0.68

0.8

0.96

1.12

1.36

1.6

1.92

2.24

2.4

2.72

2.8

3.2

3.4

4.0

4.8

5.6

6.8

8.0

9.6

11.2

13.6

16

Line Width (µm)

1041.7

892.9

735.3

625

520.8

446.4

367.6

312.5

260.4

223.2

208.3

183.8

176.8

156.3

147.1

125.0

104.2

89.3

73.5

62.5

52.1

44.6

36.8

31.3

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S6P Support Documentation
R3L3S6PNBS 1952ポジテストターゲット、76.2 mm x 76.2 mm、0.48~16 lp/mm
¥21,523
3-5 Days

NBS 1963A分解能(解像度)テストターゲット、50.8 mm x 50.8 mm

NBS1963A
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ネガテストターゲットR2L2S1Nの顕微鏡画像

 

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 2.2• 5• 11
 • 1.1• 2.5• 5.6• 12.5
 • 1.25• 2.8• 6.3• 14
 • 1.4• 3.2• 7.1• 16
 • 1.6• 3.6• 8• 18
 • 1.8• 4• 9
 • 2• 4.5• 10

テストパターンについては上記の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。

  • 周波数:1~18サイクル/mm(右の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 50.8 mm x 50.8 mmのソーダライムガラス基板
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の50.8 mm x 50.8 mmのNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲットは、周波数が1~18サイクル/mmのラインセットが26あり、これはサイクルサイズ1.0 mm~55.6 µmに相当します(詳しくは右表、ならびに「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください)。 パターンの各ラインセットには5本の水平ラインと5本の垂直ラインがあり、右の画像のようにサイクル/mmで示した周波数が表記されています。 光学システムの分解能は、解像できるラインセットの中で最大の分解能により決定できます。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR2L2S1Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR2L2S1Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1P Support Documentation
R2L2S1PNBS 1963Aポジ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~18サイクル/mm
¥17,303
3-5 Days
R2L2S1N Support Documentation
R2L2S1NNBS 1963Aネガ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~18サイクル/mm
¥17,303
3-5 Days

微細パターンNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲット、50.8 mm x 50.8 mm


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ネガターゲットR2L2S1N1における、周波数が32ならびに29 サイクル/mmのラインセット。 拡大図では7.1~228 サイクル/mmのラインセットを示しています。

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ポジターゲットR2L2S1P1における、周波数が32ならびに29 サイクル/mmのラインセット。 拡大図では7.1~228 サイクル/mmのラインセットを示しています。
  • 周波数:1~228サイクル/mm(下の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 50.8 mm x 50.8 mmのソーダライムガラス基板
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の50.8 mm x 50.8 mmの微細パターンNBS 1963A分解能(解像度)テストターゲットは、周波数が1~228サイクル/mmのラインセットが48あり、これはサイクルサイズ1.0 mm~4.4 µmに相当します(詳しくは下の表、ならびに「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください)。 パターンの各ラインセットには5本の水平ラインと5本の垂直ラインがあり、右の画像のようにサイクル/mmで示した周波数が表記されています。 光学システムの分解能は、解像できるラインセットの中で最大の分解能により決定できます。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR2L2S1P1は、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR2L2S1N1の基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 1.6• 2.5• 4.0• 6.3• 10• 16• 25• 40• 64• 102• 161
 • 1.1• 1.8• 2.8• 4.5• 7.1• 11• 18• 29• 45• 72• 114• 181
 • 1.25• 2.0• 3.2• 5.0• 8.0• 12.5• 20• 32• 51• 81• 128• 203
 • 1.4• 2.2• 3.6• 5.6• 9.0• 14• 23• 36• 57• 91• 144• 228

テストパターンについては上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1P1 Support Documentation
R2L2S1P1Customer Inspired! NBS 1963Aポジ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~228サイクル/mm
¥27,862
3-5 Days
R2L2S1N1 Support Documentation
R2L2S1N1Customer Inspired! NBS 1963Aネガ分解能(解像度)ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm、1~228サイクル/mm
¥27,862
3-5 Days

NBS 1963A複屈折性分解能ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm

R2L2S1B Pattern Reference
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テストターゲットの刻印されたパターン画像です。
R2L2S1B Positive and Negative Patterns
Click for Details 
2本のワイヤーグリッド偏光子を交差させて見えるR2L2S1Bの画像。 拡大図の左ではポジパターン、右ではネガパターンを示しています。
  • 光学システムの分解能を測定
  • 複屈折性ターゲットはポジパターン、ネガパターンの両方を表示します。
  • 周波数:1~18サイクル/mm(下の表をご覧ください)
  • 50.8 mm × 50.8 mmのN-BK7ガラス基板

当社の50.8 mm × 50.8 mm NBS 1963A複屈折性分解能ターゲットは、複屈折性パターンを2枚のN-BK7ガラス基板ではさむことにより作られています。 テストパターンは、偏光子のペアの間にターゲットを置いた場合のみ見えます(右の画像をご覧ください)。

そのそれぞれ偏光子の位置を調整することによって、ポジパターンならびにネガパターン両方を表示できるよう設計されています。 偏光子がガラスカバーの側面とアライメントしている場合、ポジ画像が生成されます。 偏光子がガラスカバーの側面に対して45°にアライメントされている場合、ネガ画像が生成されます。 この分解能ターゲットは偏光子の変動に敏感なため、偏光子顕微鏡、ノマルスキモード付きの顕微鏡、偏光イメージングシステム、ならびにミュラー行列偏光計の分解能の校正や測定に適しています。

このテストターゲットは5本の水平ラインと5本の垂直ラインが26セットあります。 それぞれのラインセットには、1 mm毎のサイクル数を表す数字が書かれています。 最大周波数は18サイクル/mmで、最小周期はわずか0.0556 mmです。 詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。 パターンは偏光子が規定の角度をなした時のみ見えるように、基準となる2つの長方形がターゲットに刻印されています。 1番右の画像はその刻印されたパターン配列を示しています。

 

Frequencies (cycles/mm)
 • 1• 1.25• 1.6• 2• 2.5• 3.2• 4• 5• 6.3• 8• 10• 12.5• 16
 • 1.1• 1.4• 1.8• 2.2• 2.8• 3.6• 4.5• 5.6• 7.1• 9• 11• 14• 18

テストパターンについては上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S1B Support Documentation
R2L2S1BNBS 1963A複屈折性分解能ターゲット、50.8 mm x 50.8 mm
¥41,792
3-5 Days

セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm

Siemens Star Pattern
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セクタースターパターンR1L1S3Pの拡大図
  • 25.4 mm x 25.4 mmポジパターンのセクタースターターゲット
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっき付き

当社ではポジセクタースター(Siemensスター)パターンの25.4 mm x 25.4 mmターゲットを2種類ご用意しております。 テストターゲットR1L1S2Pは、360°内に線が36本あります。 ターゲット円の中心部の分解能は57.5 lp/mmです。 テストターゲットR1L1S3Pは、360°内に線が72本あり、円の中心部の分解能は115 lp/mmです。 どちらのターゲットも中心はØ200 µmで、隣接する線が円の中心からどの距離まで解像可能かを調べることにより光学系の分解能が測定できます。 セクタースターパターンの詳細については、上記の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。

Item #Pattern Outer DiameterCenter Circle DiameterNumber of BarsResolution at Outer DiameterResolution at Center Circle
R1L1S2P10 mm200 µm36 Over 360°1.15 lp/mm57.5 lp/mm
R1L1S3P72 Over 360°2.30 lp/mm115 lp/mm
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S2P Support Documentation
R1L1S2PCustomer Inspired! セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm、線36本
¥20,896
3-5 Days
R1L1S3P Support Documentation
R1L1S3PCustomer Inspired! セクタースターターゲット、25.4 mm x 25.4 mm、線72本
¥30,731
3-5 Days

ラインターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

Siemens Star Pattern
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ラインターゲットR1L3S6Pの拡大図
  • 76.2 mm x 25.4 mmのラインターゲット
  • 分解能:1.25 lp/mm~250 lp/mm
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっき付き
  • スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

ラインターゲットR1L3S6Pには、18セクションのライン群から成っており、分解能は1.25~250 lp/mmとなっています。 下には分解能のリストが記載されています。 光学システムの分解能は、解像できるライン群の中で最高の分解能で規定します。

 

Resolutions of Included Line Gratings (lp/mm)
 • 1.25• 2.08• 2.86• 3.85• 5• 10• 16.67• 50• 200
 • 1.67• 2.5• 3.33• 4.17• 6.67• 12.5• 26• 100• 250
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S6P Support Documentation
R1L3S6PCustomer Inspired! ラインターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
¥62,690
Today

同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952
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ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、下表参照)
NBS 1952
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ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図
  • グリッド内に同心円と十字線を配置
  • それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
  • イメージングシステムの分解能、歪み、倍率を測定
  • 76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線グリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行x17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。 右の写真では、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。 それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。 パターンの寸法についての詳細は下の表をご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Concentric Circles
Circle PatternaR1R2R3R4R5R6R7
A131.3 µm62.5 µm125 µm140.6 µm234.4 µm242.2 µm500 µm
A215.6 µm31.3 µm62.5 µm70.3 µm117.2 µm121.1 µm250 µm
A37.8 µm15.6 µm31.3 µm35.2 µm58.6 µm60.5 µm125 µm
A43.9 µm7.8 µm15.6 µm17.6 µm29.3 µm30.3 µm62.5 µm
  • 右上の写真に表示
Crosshairs
Crosshair PatternaSingle or Double LineLength/WidthLine Widthb
B1Double500 µm6.25 µm
B2Double500 µm12.5 µm
B3Single500 µm50 µm
B4Double500 µm25 µm
B5Double500 µm100 µm
  • 右上の写真に表示
  • 線幅は線と線との間隔を意味します。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S5P Support Documentation
R3L3S5P同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥69,655
Today

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

Combined Resolution Test Target
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ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • 18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mm
  • 光学システムの分解能を測定
  • USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2~7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30~150 lp/mm)が描かれています。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。 詳細については、上記の「分解能ターゲット」タブ内をご参照ください。 グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR1L1S1Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
1951 USAF TargetGroups 2 - 7Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm PitchRonchi Rulings13 Rulings from 30 lp/mma to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • 1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S1P Support Documentation
R1L1S1PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、18 mm x 18 mm
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R1L1S1NCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ネガターゲット、18 mm x 18 mm
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分解能ならびに歪み測定一体型テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

 

Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)
 • 4.5• 10• 23• 51• 114
 • 5• 11• 25• 57• 128
 • 5.6• 12.5• 29• 64• 144
 • 6.3• 14• 32• 72• 161
 • 7.1• 16• 36• 81• 181
 • 8• 18• 40• 91• 203
 • 9• 20• 45• 102• 228
  • 76.2 mm x 25.4 mmターゲット
  • NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほか付き(下の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。 当社のスライドホルダMLS203P2に取付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(下の表をご覧ください)。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能の測定にお使いいただけます。 詳細については、上の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。 グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
NBS 1963AFrequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)3 Grids: 100 lp/mma, 150 lp/mm, 200 lp/mmFixed Ronchi Rulings3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots,
200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots
Variable Ronchi Rulings20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution DotsØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µmPinholesØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mmMicrometers3 Rulers: 10 mm Scale with 50 µm Divs, 1 mm Scale with 10 µm Divs, and 1mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divs
Sector Star36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。
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