• Test Targets Help Identify Distortion in Imaging Systems
  • Grid Spacings Available from 10 µm to 2000 µm
  • Combined Resolution and Distortion Targets Available


Combined Resolution and
Distortion Test Target


Positive Reflective Grid
Distortion Target


Fixed Frequency Grid
Distortion Target


Combined Resolution and
Distortion Test Target

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General Specifications
Chrome Thickness 0.120 µm
Substrate Thickness 0.06" (1.5 mm)
Surface Flatness ≤15 µm
Substrate Sode Lime Glass
Test Target
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An R1L3S5P Combined Resolution and Distortion Test Target Mounted in an XYF1 Test Target Positioner


  • Fixed and Multi-Frequency Grid Distortion Test Targets
  • High-Contrast Positive Reflective Target Available
  • Combined Resolution and Distortion Test Targets
  • Distortion in Grid Image Allows for Image Correction
  • Grids Available with Spacings of 10 µm to 2000 µm

Thorlabs offers a variety of options for measuring the distortion of an optical system including targets with a single-frequency grid, multi-frequency grids, or distortion grids alongside a wide variety of other patterns for resolution measurement, calibration, and more. Combined, these targets offer grid spacings ranging from 10 µm to 2000 µm.

We offer positive targets made made by plating vacuum-sputtered chrome on a soda lime glass substrate in patterns of either horizontal and vertical lines or rows and columns of solid circles. We also offer a positive reflective version of the multi-frequency target and a negative version of the 18 mm x 18 mm combined resolution and distortion target. See the Graphs tab for spectral data of the materials used in these distortion targets.

Each pattern is manufactured using photolithography, allowing for edge features to be resolved down to approximately 1 µm. Because the lines or rows and columns are perpendicular, they will be imaged as such by an ideal system. A distorted image will show the lines or rows and columns as bowed; this image allows the user to quantify the distortion and thus to correct for it using software built into programs such as LabVIEW or ImageJ.

These distortion test targets can be mounted in one of four of our microscopy slide holders. Our MAX3SLH fixed slide holder provides two spring clips to mount the optic and can be mounted to any of our 3-axis translation stages; this slide holder is only compatible with test targets greater than or equal to 2" wide and provides a clear aperture of 1", which may cover the chrome pattern on some of the test targets. Thorlabs also offers our XYF1(/M) test target positioning mount (see photo to the right), which is capable of translating a 1" (25.4) to 3" (76.2 mm) wide rectangular target over a 50 mm (1.97") x 30 mm (1.18") area. The mount offers five 8-32 (M4) taps for six post-mountable orientations. The XYF1 uses nylon-tipped setscrews to secure the optic. Please note that the mount's support arms overlap the optic by 4.4 mm on each side. For users of the MLS203 microscopy stage, we offer the MLS203P2 slide holder for inverted microscopes, which can mount slides that measure 25 mm to 26.5 mm in width and petri dishes that measure 30 mm to 60 mm in diameter.

Targets Selection Guide
Resolution Test Targets Distortion Test Targets Slant Edge MTF Resolution Test Targets Calibration Targets
Substrates Spectra
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Soda Lime Glass Transmission
Substrates Spectra
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Spectral Curves of Reflective Test Targets
The large difference between the uncoated (blue line) and AR-coated chrome (red line) in the visible region means that the positive reflective targets have high contrast between the pattern and the background.
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Customization Parameters
Substrate SizeaMin8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16")
Max85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35")
Substrate MaterialsSoda Lime Glass
UV Fused Silica
Coating MaterialReflective or Antireflective Chrome
Coating Optical Density> 3b or > 6c @ 430 nm
Minimum Pinhole/SpotØ1 µm
Minimum Line Width1 µm
Line Width Tolerance-0.25 / +0.50 µm
Maximum Line Density250 lines/mm
  • 基板はご要望のサイズや形状にダイシングが可能です(上記MIN~MAXの範囲内)。
  • UV溶融石英(UVFS)基板と標準的なソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで3以上
  • 石英基板と一部のソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで6以上


当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。 これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。

標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm~85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。



  • エッチングレチクル
  • グレースケールマスク
  • 高分解能レチクル
  • 測定用レチクル
  • レクリエーション用スコープ
  • ノッチ付きレチクル
  • アイピース目盛
  • 照明用十字レチクル
  • オブストラクションターゲット
  • 双眼鏡レチクル

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This tab details an optimal cleaning technique developed by our engineers for cleaning reticles, test targets, distortion targets, and calibration targets.

Cleaning Procedure

  1. Use a clean wet sponge, preferably made of polyvinyl alcohol (PVA), and dish detergent to gently scrub the front and back surfaces of your reticle or target.
  2. Rinse with water.
  3. Blow dry with clean dry air, or allow the reticle or target to air dry on a clean surface.

We do not suggest using a towel, rag, or wipe to dry the surface. If contamination persists, soak the reticle or target in a detergent and water solution for 1 hour, repeating as necessary.

Posted Comments:
Tsong Lai  (posted 2021-07-05 16:12:35.863)
Hi ThorLabs We want to purchase the R1L3S3P. If we place the order , how many days we can receive it if ship to Taiwan ? Regards Tsong
YLohia  (posted 2021-07-07 02:58:48.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Questions about shipping are answered by our Sales team (sales@thorlabs.com) / your local Thorlabs distributor. The amount of time depends on the shipping speed chosen at the time of your order.
Konstantin Novoselov  (posted 2019-11-26 14:17:27.287)
We need to produce optical calibration target to estimate/correct optical distortion in our instrument. This calibration target is similar your Grid Distortion Test Targets. In our case calibration pattern should be formed on the top of microscopic slide 25x50 mm 1.1 mm thickness. Calibration pattern consist of Ø150 µm dots arranged in a grid with spacing 200 µm. Desired spacing and dot size tolerance is about 2-3 µm. Expected order quantity is 1-10 during prototyping stage and 100-1000 in production stage. Can you please provide me with ballpark estimation of the manufacturing costs and lead times.
llamb  (posted 2019-12-03 10:59:48.0)
Thank you for contacting Thorlabs. For custom quotes, you may contact us at TechSupport@thorlabs.com by clicking the Request A Quote button above. I have reached out to you directly to discuss this particular case.
dave.stubblefield  (posted 2017-02-23 07:04:15.327)
Do you have any distortion targets that are designed for the IR spectrum? 3-5 micron and 8-12 micron. Maybe with a different substrate? Most transmission curves that I can find for soda lime glass do not extend into the IR region.
tfrisch  (posted 2017-03-13 03:44:30.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. I will reach out to you directly about our custom capabilities for etching distortion targets.

固定周波数グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm

R2L2S3P3 Application
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R2L2S3P4 Close Up
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  • 38.1 mm x 38.1 mmのソーダライムガラス基板上に1種類グリッドアレイ
  • 125 µm、250 µm、500 µm、1000 µmのグリッド間隔
  • Ø62.5 µm、Ø125 µm、Ø250 µm、Ø500 µmのドットサイズ
  • マシンビジョンにおけるステージの校正や歪み検出の用途に使用

この歪み検出グリッドアレイには、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られたドットが25.0 mm x 25.0 mmのグリッド状に配置されています。 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までのグリッド間隔125 µm~1000 µm、ドット直径62.5 µm~500 µmをご用意しております。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。 ドットの水平、および垂直の行と列が互いに直交しているのが理想的な状態です。 歪んだ画像のラインは弓形となります。この画像は歪みを補正するために使用されます。

Item #SpacingaSpacing
Dot SizeDot Size
Pattern SizebPattern Size
Optical Density
Substrate Size
R2L2S3P1125 µm±1 µmØ62.5 µm±2 µm25.0 mm x 25.0 mm
(0.98" x 0.98")
±4 µmOD ≥3 at 430 nm1.5" x 1.5" x 0.06"
(38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm)
R2L2S3P2250 µmØ125 µm
R2L2S3P3500 µmØ250 µm25.4 mm x 25.4 mm
(1" x 1")
R2L2S3P41000 µmØ500 µm
  • 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までの距離
  • グリッドアレイの隅から隅までの距離
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S3P1 Support Documentation
R2L2S3P1Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔125 µm
5-8 Days
R2L2S3P2 Support Documentation
R2L2S3P2Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔250 µm
5-8 Days
R2L2S3P3 Support Documentation
R2L2S3P3Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔500 µm
5-8 Days
R2L2S3P4 Support Documentation
R2L2S3P4Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔1000 µm

Multi-Frequency Grid Distortion Target, 3" x 1"

Grid Array
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Close Up of the Four Grid Patterns on the R1L3S3P Target
Optical Specifications
Item # R1L3S3P R1L3S3PR
Pattern Chrome AR-Coated Chrome
Background Clear Uncoated Chrome
Chrome Optical Densitya ≥3.0 -
Chrome Reflectancea - AR Coated: <10%
Uncoated: >40%
  • Specified at 430 nm.
  • Four Grid Arrays on a 3" x 1" (76.2 mm x 25.4 mm) Soda Lime Glass Slide
  • 10 µm, 50 µm, 100 µm, and 500 µm Grid Spacings
  • Ideal for Microscopy Applications of Stage Calibration and Distortion Detection
  • Same Outer Dimensions as a Standard Microscope Slide
  • High Contrast Positive Reflective Target Available

These grid distortion targets feature four arrays of horizontal and vertical lines spaced 10 µm, 50 µm, 100 µm, and 500 µm apart. This pattern is fabricated from the deposition of vacuum-sputtered chrome on a 3" x 1" x 0.06" (76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mm) soda lime glass substrate. The dimensions of the glass substrate are the same as a standard microscope slide.

Thorlabs offers two targets composed of a chrome pattern etched on soda lime glass. The R1L3S3P positive target has the clear soda lime substrate background for for front-lit and general applications, while the R1L3S3PR positive reflective target has an uncoated chrome background for high contrast in reflective applications. See the Graphs tab for details.

Grid arrays are used to determine the distortion of an imaging system. Ideally, the horizontal and vertical lines of the grid should be perpendicular to each other. A distorted image will show the lines as bowed; this image can then be used to correct for distortion.

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S3P Support Documentation
R1L3S3Pグリッド型歪みターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、グリッド間隔500、100、50、10 µm
R1L3S3PR Support Documentation
R1L3S3PRNEW!Positive Reflective Grid Distortion Target 3" x 1", 10, 50, 100, and 500 µm Grid Spacings
5-8 Days


NBS 1952
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NBS 1952
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Optical Specifications
Chrome Optical Densitya≥3.0
  • 430 nmにおける仕様
  • グリッド内に同心円と十字線を配置
  • それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
  • イメージングシステムの分解能と歪みを測定
  • 76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線付きグリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行 x 17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。 右の写真では、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。 それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。 パターンの寸法についての詳細は下の表をご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Concentric Circles
Circle PatternaR1R2R3R4R5R6R7
A131.3 µm62.5 µm125 µm140.6 µm234.4 µm242.2 µm500 µm
A215.6 µm31.3 µm62.5 µm70.3 µm117.2 µm121.1 µm250 µm
A37.8 µm15.6 µm31.3 µm35.2 µm58.6 µm60.5 µm125 µm
A43.9 µm7.8 µm15.6 µm17.6 µm29.3 µm30.3 µm62.5 µm
  • 右上の写真に表示
Crosshair PatternaSingle or Double LineLength/WidthLine Widthb
B1Double500 µm6.25 µm
B2Double500 µm12.5 µm
B3Single500 µm50 µm
B4Double500 µm25 µm
B5Double500 µm100 µm
  • 右上の写真に表示
  • 線幅と線間隔は同じです。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S5P Support Documentation
R3L3S5P同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

Combined Resolution Test Target
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Optical Specifications
Item #R1L1S1PR1L1S1N
Chrome Optical Densitya≥3.0
  • 430 nmにおける仕様
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • 18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板
  • USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2~7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30~150 lp/mm)が描かれています。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。 グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。 詳細については、分解能ターゲットのページをご参照ください。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR1L1S1Pは、クロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様のクロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
1951 USAF TargetGroups 2 - 7Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm PitchRonchi Rulings13 Rulings from 30 lp/mma to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • 1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S1P Support Documentation
R1L1S1PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、18 mm x 18 mm
5-8 Days
R1L1S1N Support Documentation
R1L1S1NCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ネガターゲット、18 mm x 18 mm

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、76.2 mm x 25.4 mm


Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)
 • 4.5• 10• 23• 51• 114
 • 5• 11• 25• 57• 128
 • 5.6• 12.5• 29• 64• 144
 • 6.3• 14• 32• 72• 161
 • 7.1• 16• 36• 81• 181
 • 8• 18• 40• 91• 203
 • 9• 20• 45• 102• 228
Optical Specifications
Chrome Optical Densitya≥3.0
  • 430 nmにおける仕様
  • 76.2 mm x 25.4 mmのソーダライム基板
  • NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング、ほか付き(下表参照)
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • スライドホルダMLS203P2を使用して 顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。 当社のスライドホルダMLS203P2に取り付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(下の表をご覧ください)。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能を測定するのにご使用になれます。 グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。 詳細については、分解能テストターゲットのページをご参照ください。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
NBS 1963AFrequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)3 Grids: 100 lp/mma, 150 lp/mm, 200 lp/mmFixed Ronchi Rulings3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots,
200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots
Variable Ronchi Rulings20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution DotsØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µmPinholesØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mmMicrometers3 Rulers: 10 mm Scale with 50 µm Divs, 1 mm Scale with 10 µm Divs, and 1mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divs
Sector Star36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S5P Support Documentation
R1L3S5PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
5-8 Days