校正用ターゲット(校正用チャート)


  • Microscope Slides & Reticles for Imaging System Calibration
  • Soda Lime or UV Fused Silica Substrates with Chrome Plating

R1L3S1P

Stage Micrometer
with 50 µm Divisions

R3L3S3P

Concentric Squares Target,
0.1 mm to 50 mm

R2L2S3P1

Grid Distortion Target,
125 µm Grid Spacing

R1L3S12N

Ronchi Ruling Target,
10 lp/mm Pattern

R3L3S5P

Concentric Circles and Crosshairs Grid Target

R1DS2P

Concentric Circles Reticle

Related Items


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General Specifications
Optic TypeSlides & TargetsReticlesa
Chrome Optical Density≥3.0 at 430 nmb≥3 at 430 nm
Substrate Thickness0.06" (1.5 mm)
Surface Flatness≤15 µmN/A
Surface QualityN/A60-40 Scratch-Dig
SubstrateSoda Lime GlassUV Fused Silicac
  • レチクルについて詳細はこちらの製品紹介ページをご覧ください。
  • グリッド型ポジティブ歪みターゲットR1L3S3PRは、光学濃度が規定されていないため、この仕様は適用されません。このターゲットは、反射率>40%の反射クロムの背景と、反射率<10%の低反射クロムのパターンで構成されており、反射用として使用したときに高いコントラストが得られます。
  • リンクをクリックすると基板の仕様をご覧いただけます。
Test Target
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Figure 1.1  テストターゲットポジショナXYF1(/M)に取り付けられたR3L3S3P
Custom Test Targets
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テストターゲットやレチクルの
カスタマイズ例
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カスタム仕様・組み込み用途(OEM用途)のテストターゲット、レチクルについて

テストターゲット(テストチャート)やレチクルの特注や組み込み用途(OEM用途)をご要望の場合、このページで紹介している製品のカスタマイズのご相談を承ります。詳細については「カスタム向け」タブをご覧になるか、当社までご連絡ください。

We look forward to hearing from you!

校正用ターゲット種類

当社ではイメージングシステムの校正用に、対物ミクロメータ(ステージミクロメータ)、同心円&正方形、歪みターゲットやレチクル等の校正用ターゲット(校正用チャート)をご用意しています。正方形や長方形のターゲットやミクロメータは、ソーダライムガラス基板と真空スパッタリングされた低反射クロム、レチクルはUVグレード溶融石英(UVFS)基板に高反射クロムパターンとなっております。それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。

取付例
長方形の校正用ターゲットおよびミクロメータは、一般的な固定式のスライドホルダ顕微鏡用スライドホルダ顕微鏡用ステージなど当社の多くの顕微鏡用スライドホルダに取り付け可能です。当社ではレチクル取付け用の固定式光学マウントもご用意しています。

Targets Selection Guide
Resolution Test TargetsCalibration TargetsDistortion Test TargetsSlant Edge MTF TargetStage Micrometers
Substrates Spectra
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ソーダライムガラスの透過率
Substrates Spectra
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反射型テストターゲットのスペクトル曲線
可視域における反射型テストターゲットのスペクトル曲線コーティング無し(青線)と、反射防止付きクロム(赤線)の大きな差により、反射型のポジターゲットのパターンと背景のコントラストが高いことを意味しています。
UV Fused Silica Transmission Curve
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透過率曲線は、厚さ1.0 mmのUV溶融石英基板を用い、垂直入射で測定されています。こちらのページでご紹介しているレチクルは厚みが1.5 mmあるため、透過率はこのグラフより若干低くなります。
Questions?
Need a Quote?

ご質問やお見積りのご要望は
お気軽に当社まで
ご連絡ください。

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Customization Parameters
Substrate SizeaMin8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16")
Max85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35")
Substrate MaterialsSoda Lime Glass
UV Fused Silica
Quartz
Coating MaterialChromeb
Low-Reflectivity Chromec
Coating Optical Density≥3d or ≥6e @ 430 nm
Minimum Pinhole/SpotØ1 µm
Minimum Line Width1 µm
Line Width Tolerance-0.25 / +0.50 µm
Maximum Line Density500 lp/mm
  • 基板はご要望のサイズや形状にダイシングが可能です(上記MIN~MAXの範囲内)。
  • 430 nmでのクロムの反射率 > 40%
  • 430 nmでの低反射クロムの反射率 < 10%
  • UV溶融石英(UVFS)基板と標準的なソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで3以上
  • 石英基板と一部のソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで6以上

カスタムおよび組み込み用途(OEM用途)向けテストターゲットとレチクル

当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。 これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。

標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm~85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。

カスタム仕様のテストターゲットやレチクルのお見積りについては、当社までお問い合わせください。

用途例

  • エッチングレチクル
  • グレースケールマスク
  • 高分解能レチクル
  • 測定用レチクル
  • レクリエーション用スコープ
  • ノッチ付きレチクル
  • アイピース目盛
  • 照明用十字レチクル
  • オブストラクションターゲット
  • 双眼鏡レチクル

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ポジパターンとネガパターンの十字ターゲット

こちらでは当社のエンジニアが推奨するレチクル、テストターゲット、歪みターゲット、校正ターゲットの適切なクリーニング方法をご紹介いたします。

クリーニング手順

  1. できればポリビニルアルコール(PVA)製の清潔な濡れスポンジを使用し、食器用洗剤でレチクルやターゲットの正面と裏面を優しくこすります。
  2. 水ですすぎます。
  3. 清潔で乾燥した空気によるブローで乾かすか、清潔な面にレチクルやターゲットを置いて自然乾燥させます。

タオルや布、またはワイプを使用して拭くことはお勧めしません。汚れがまだ残る場合には、レチクルやターゲットを食器洗剤を混ぜた水溶液に1時間つけ置き、必要であればこれを繰り返します。


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ステージミクロメータ(対物ミクロメータ)

Stage Micrometer
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Figure 345A  ステージミクロメータR1L3S1Pの顕微鏡画像
  • R1L3S1P:50 μm刻みで10 mmのスケール
  • R1L3S2P:10 μm刻みで1 mmのスケール
  • 接眼レンズ用レチクルまたは対物レンズの倍率を校正

これらのターゲットには、水平方向にステージミクロメーターパターンが刻印されています。ミクロメータR1L3S1Pには50 µm刻みで1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ10 mmのスケールが、R1L3S2Pには10 µm刻みで0.1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ1 mmのスケールです。どのターゲットも、76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

R1L3S1P
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Figure 345B  R1L3S1Pの拡大図
R1L3S2P
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Figure 345C  R1L3S2Pの拡大図
Horizontal Micrometer
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Figure 345D  Close Up of the R1L1S5P Horizontal Scale with Crosshair
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S2P Support Documentation
R1L3S2P1 mmステージミクロメータ、10 µm刻み、76.2 mm x 25.4 mm、ソーダライムガラス
¥27,688
Today
R1L3S1P Support Documentation
R1L3S1P10 mmステージミクロメータ、50 µm刻み、76.2 mm x 25.4 mm、ソーダライムガラス
¥31,170
Today
R1L1S5P Support Documentation
R1L1S5P20 mmステージミクロメータ、100 µm刻み、25.4 mm x 25.4 mm、ソーダライムガラス
¥21,420
7-10 Days

同心正方形、76.2 mm x 76.2 mm

Concentric Squares
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Figure 443B  R3L3S3Pの同心正方形パターン
Concentric Squares
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Figure 443A  同心正方形ターゲットR3L3S3P上の幅15 mm以下の正方形を拡大
  • 76.2 mm x 76.2 mmの同心正方形ターゲット
  • イメージングソフトウェアによる測定値の校正
  • 低反射の真空スパッタリングクロムめっき

同心正方形ターゲットR3L3S3Pには、長さおよび幅が0.1 mm~50 mmの14種類の同心正方形が描かれています(下表参照)。 ターゲット上にはそれぞれの正方形の幅が明記されています。 このテストターゲットは、ソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。 これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

 

Widths of Positive Squares (mm)
 • 0.1• 0.5• 2• 4• 10• 20• 40
 • 0.25• 1• 3• 5• 15• 30• 50
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S3P Support Documentation
R3L3S3P同心正方形ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm、ソーダライムガラス
¥62,168
7-10 Days

単一周波数ロンキールーリングターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

Ronchi Ruling
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Figure 726A  R1L3S14Nのロンキールーリングパターンの拡大図
Optical Specifications
PatternAlternating Clear and LRa Chrome Lines
BackgroundLR Chrome
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射
  • 430 nmにおける仕様値
  • 76.2 mm x 25.4 mmの矩形パターンロンキールーリングターゲット
  • 0.5 lp/mm~500 lp/mmのパターンでご用意
  • 65 mm x 17 mmの大きな有効エリア
  • 光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性を評価
  • ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムによるパターン形成
  • スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能

当社では分解能が0.5 lp/mm~500 lp/mm(白と黒のラインペア)のロンキールーリングターゲットをご用意しております。縦格子と空白が等間隔に配置された矩形パターンは、76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板上に黒色の低反射クロムパターンを蒸着して製造されています。有効エリアが65 mm x 17 mmと大きいため、バックライトや高照度の用途に適しています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。ロンキールーリングは、光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性の評価に適しています。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S25N Support Documentation
R1L3S25NCustomer Inspired! ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、0.5 lp/mm
¥24,139
7-10 Days
R1L3S12N Support Documentation
R1L3S12Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、10 lp/mm
¥24,139
7-10 Days
R1L3S13N Support Documentation
R1L3S13Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、20 lp/mm
¥24,139
7-10 Days
R1L3S14N Support Documentation
R1L3S14Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、40 lp/mm
¥24,139
7-10 Days
R1L3S15N Support Documentation
R1L3S15Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、80 lp/mm
¥24,139
7-10 Days
R1L3S16N Support Documentation
R1L3S16Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、100 lp/mm
¥24,187
7-10 Days
R1L3S17N Support Documentation
R1L3S17Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、150 lp/mm
¥27,119
7-10 Days
R1L3S18N Support Documentation
R1L3S18Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、200 lp/mm
¥27,119
7-10 Days
R1L3S19N Support Documentation
R1L3S19Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、250 lp/mm
¥27,119
7-10 Days
R1L3S20N Support Documentation
R1L3S20Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、300 lp/mm
¥27,119
7-10 Days
R1L3S21N Support Documentation
R1L3S21Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、350 lp/mm
¥30,784
7-10 Days
R1L3S22N Support Documentation
R1L3S22Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、400 lp/mm
¥73,722
7-10 Days
R1L3S23N Support Documentation
R1L3S23Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、450 lp/mm
¥82,397
7-10 Days
R1L3S24N Support Documentation
R1L3S24Nロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、500 lp/mm
¥93,383
7-10 Days

同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

NBS 1952
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Figure 483B  ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、Table 483Dと483E参照)
NBS 1952
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Figure 483A  ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • グリッド内に同心円と十字線を配置
  • それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
  • イメージングシステムの分解能、歪み、倍率を測定
  • 76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線グリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行x17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。 Figure 483Bでは、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。 それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。 パターンの寸法についての詳細はTable 483Dと483Eをご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Table 483D  Concentric Circles
Circle PatternaR1R2R3R4R5R6R7
A131.3 µm62.5 µm125 µm140.6 µm234.4 µm242.2 µm500 µm
A215.6 µm31.3 µm62.5 µm70.3 µm117.2 µm121.1 µm250 µm
A37.8 µm15.6 µm31.3 µm35.2 µm58.6 µm60.5 µm125 µm
A43.9 µm7.8 µm15.6 µm17.6 µm29.3 µm30.3 µm62.5 µm
  • Figure 483Bに表示
Table 483E  Crosshairs
Crosshair PatternaSingle or Double LineLength/WidthLine Widthb
B1Double500 µm6.25 µm
B2Double500 µm12.5 µm
B3Single500 µm50 µm
B4Double500 µm25 µm
B5Double500 µm100 µm
  • Figure 483Bに表示
  • 線幅は線と線との間隔を意味します。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R3L3S5P Support Documentation
R3L3S5P同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm
¥88,810
7-10 Days

Fixed Frequency Checkerboard Targets

R1L1S8C1 Close Up
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Figure 806C  A Close Up of the Checkerboard Pattern on the 3" x 3" R3L3S8C1 Target
R1L1S8C1 Close Up
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Figure 806B  A Close Up of the Checkerboard Pattern on the 1" x 1" R1L1S8C1 Target
R1L1S8C1 Close Up
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Figure 806A  A Close Up of the Checkerboard Pattern on the Ø1" R1DS4C1 Target
  • Checkerboard Arrays with Fixed Block Sizes on Ø1.00" Circular or 1.00", 1.50", or 3.00" Square Soda Lime Glass Substrates
  • Block Size/Frequency Options Ranging from 100 µm to 5 mm 
  • Ideal for Stage Calibration and Distortion Detection in Machine Vision Applications

These checkerboard targets each feature a single grid of squares (blocks) fabricated by plating low-reflectivity, vacuum-sputtered chrome with an optical density (OD) of ≥3.0 at 430 nm on a soda lime glass substrate. Each item has a fixed checkerboard block size, with options ranging from 100 µm to 5 mm, see Table 806D for details. Substrates are available as Ø1.00" circles or 1.00", 1.50", or 3.00" squares.

Checkerboard grid arrays are used to determine the distortion of an imaging system. Ideally, the horizontal and vertical rows of blocks should appear perpendicular to each other. A distorted image will show the array as bowed; this image can then be used to correct for distortion.

Table 806D  Checkerboard Target Specifications
Item # Block Size Pattern Background Clear Aperture Pattern
Optical Density
Transmitted Wavefront Error Substrate Size
R1DS4C2 100 µm Clear Low-Reflectivity
Chrome
15.70 mm x 15.70 mm
(0.618" x 0.618")
≥3.0 at 430 nm <λ at 633 nm Ø1.00" (Ø25.4 mm)
R1DS4C1 250 µm 15.75 mm x 15.75 mm
(0.620" x 0.620")
R1L1S8C2 100 µm 15.70 mm x 15.70 mm
(0.618" x 0.618")
1.00" x 1.00" x 0.06"
(25.4 mm x 25.4 mm x 1.5 mm)
R1L1S8C1 250 µm 15.75 mm x 15.75 mm
(0.620" x 0.620")
R2L2S5C2 500 µm 26.5 mm x 26.5 mm
(1.04" x 1.04")
1.50" x 1.50" x 0.06"
(38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm)
R2L2S5C1 1 mm 27.0 mm x 27.0 mm
(1.06" x 1.06")
R3L3S8C2 2.5 mm 62.5 mm x 62.5 mm
(2.46" x 2.46")
3.00" x 3.00" x 0.06"
(76.2 mm x 76.2 mm x 1.5 mm)
R3L3S8C1 5 mm 65.0 mm x 65.0 mm
(2.56" x 2.56")
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1DS4C2 Support Documentation
R1DS4C2NEW!Negative Checkerboard Target, Ø1", 100 µm x 100 µm Blocks
¥41,100
7-10 Days
R1DS4C1 Support Documentation
R1DS4C1NEW!Negative Checkerboard Target, Ø1", 250 µm x 250 µm Blocks
¥41,100
7-10 Days
R1L1S8C2 Support Documentation
R1L1S8C2NEW!Negative Checkerboard Target, 1" x 1", 100 µm x 100 µm Blocks
¥44,525
7-10 Days
R1L1S8C1 Support Documentation
R1L1S8C1NEW!Negative Checkerboard Target, 1" x 1", 250 µm x 250 µm Blocks
¥44,525
7-10 Days
R2L2S5C2 Support Documentation
R2L2S5C2NEW!Negative Checkerboard Target, 1.5" x 1.5", 500 µm x 500 µm Blocks
¥65,075
7-10 Days
R2L2S5C1 Support Documentation
R2L2S5C1NEW!Negative Checkerboard Target, 1.5" x 1.5", 1 mm x 1 mm Blocks
¥65,075
7-10 Days
R3L3S8C2 Support Documentation
R3L3S8C2NEW!Negative Checkerboard Target, 3" x 3", 2.5 mm x 2.5 mm Blocks
¥102,750
7-10 Days
R3L3S8C1 Support Documentation
R3L3S8C1NEW!Negative Checkerboard Target, 3" x 3", 5 mm x 5 mm Blocks
¥102,750
7-10 Days

Multi-Frequency Checkerboard Targets, 3" x 1"

R1L3S30C1 Close Up
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Figure 810A  A Close Up of the Checkerboard Patterns on the R1L3S30C1 Target
  • Eight Checkerboard Arrays on a 3.00" x 1.00" (76.2 mm x 25.4 mm) Soda Lime Glass Substrate
  • Checkerboards Made Up of 5, 10, 25, 50, 100, 250, 500, or 1000 µm Blocks
  • Ideal for Stage Calibration and Distortion Detection in Machine Vision Applications

This checkerboard target features eight grids, each with different sized/spaced squares (blocks) ranging from 1 mm to 5 µm, fabricated by plating low-reflectivity, vacuum-sputtered chrome with an optical density (OD) of ≥3.0 at 430 nm on a soda lime glass substrate.

Checkerboard grid arrays are used to determine the distortion of an imaging system. Ideally, the horizontal and vertical rows of blocks should appear perpendicular to each other. A distorted image will show the array as bowed; this image can then be used to correct for distortion.

Item # Block Sizes Pattern Background Pattern
Optical Density
Transmitted Wavefront Error Substrate Size
R1L3S30C1 5, 10, 25, 50, 100, 250, 500, and 1000 µm Clear Low-Reflectivity
Chrome
≥3.0 at 430 nm <λ at 633 nm 3.00" x 1.00" x 0.06"
(76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mm)
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S30C1 Support Documentation
R1L3S30C1NEW!Negative Checkerboard Target, 3" x 1", 5, 10, 25, 50, 100, 250, 500, and 1000 µm Blocks
¥68,500
7-10 Days

固定周波数グリッド型歪みターゲット

R3L3S7N1 Close Up
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Figure 447C  A Close Up of the Dot Pattern on the R3L3S7N1 Target
R2L2S3P3 Application
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Figure 447B  カスタム仕様のイメージングシステム用フィルターマウントFFM1、およびキューブベースB3C(/M)を用いてポストに取り付けたターゲットR2L2S3P3
R2L2S3P4 Close Up
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Figure 447A  ターゲットR2L2S3P4のドットパターン拡大図
  • 38.1 mm x 90.0 mmのソーダライムガラス基板上に1種類グリッドアレイ
  • 50 µm、125 µm、250 µm、500 µm、1000 µm、2500 µm、 5000 µm のグリッド間隔
  • Ø25 µm、Ø62.5 µm、Ø125 µm、Ø250 µm、Ø500 µmのドットサイズ
  • マシンビジョンにおけるステージの校正や歪み検出の用途に使用

この歪み検出グリッドアレイには、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られたドットがグリッド状に配置されています。 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までのグリッド間隔50 µm~1000 µm、ドット直径25 µm~500 µmをご用意しております。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。 ドットの水平、および垂直の行と列が互いに直交しているのが理想的な状態です。 歪んだ画像のラインは弓形となります。この画像は歪みを補正するために使用されます。

Item #SpacingaSpacing
Tolerance
Dot SizeDot Size
Tolerance
PatternBackgroundPattern SizebPattern Size
Tolerance
Pattern
Optical Density
Substrate Size
R2L2S3P550 µm±1 µmØ25 µm±2 µmLow-Reflectivity
Chrome
Clear25.0 mm x 25.0 mm
(0.98" x 0.98")
±4 µm≥3.0 at 430 nm1.50" x 1.50" x 0.06"
(38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm)
R2L2S3P1125 µmØ62.5 µm
R2L2S3P2250 µmØ125 µm
R2L2S3P3500 µmØ250 µm25.4 mm x 25.4 mm
(1.00" x 1.00")
R2L2S3P41000 µmØ500 µm
R3L3S7N22500 µm±5 µmØ500 µm±5 µmClearLow-Reflectivity
Chrome
80.0 mm x 80.0 mm
(3.15" x 3.15")
±5 µm≥3.0 at 430 nm90.0 mm x 90.0 mm x 1.5 mm
(3.54" x 3.54" x 0.06")
R3L3S7N15000 µm
  • 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までの距離
  • グリッドアレイの隅から隅までの距離
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R2L2S3P5 Support Documentation
R2L2S3P5Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔50 µm
¥69,630
7-10 Days
R2L2S3P1 Support Documentation
R2L2S3P1Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔125 µm
¥66,694
Today
R2L2S3P2 Support Documentation
R2L2S3P2Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔250 µm
¥56,945
7-10 Days
R2L2S3P3 Support Documentation
R2L2S3P3Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔500 µm
¥48,934
7-10 Days
R2L2S3P4 Support Documentation
R2L2S3P4Customer Inspired! グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm、グリッド間隔1000 µm
¥44,404
7-10 Days
R3L3S7N2 Support Documentation
R3L3S7N2Customer Inspired! グリッド型歪みテストターゲット(テストチャート)、ネガティブパターン、90.0 mm x 90.0 mm、グリッド間隔2500 µm
¥80,625
7-10 Days
R3L3S7N1 Support Documentation
R3L3S7N1Customer Inspired! グリッド型歪みテストターゲット(テストチャート)、ネガティブパターン、90.0 mm x 90.0 mm、グリッド間隔5000 µm
¥80,625
7-10 Days

マルチ周波数グリッド型歪みターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

Grid Array
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Figure 346A  R1L3S3Pの4種類のグリッドパターンの拡大図
Optical Specifications
Item #R1L3S3P1R1L3S3PR1L3S3PR
PatternLRa ChromeLRa ChromeLRa Chrome
BackgroundClearClearChrome
Chrome Optical Densitya≥3.0≥3.0-
Reflectanceb--LRa Chrome: < 10%
Chrome: > 40%
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様値
  • 76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラススライド上に4つのグリッドアレイ
  • グリッド間隔: 5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µm
  • ステージの校正や歪み検出の顕微鏡法の用途に使用
  • 標準的な顕微鏡スライドと同じ外寸
  • コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意

こちらのグリッド型歪みターゲットは、5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µmの4種類または5種類の間隔の水平と垂直のラインのアレイが特長となっております。このグリッドパターンでは、低反射クロムが真空スパッタリングにより76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板に蒸着されています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。

ポジターゲットR1L3S3P1とR1L3S3Pのソーダライムガラス基板の背景は透明で、フロントライトや一般的な用途向けです。反射型のポジターゲットR1L3S3PRは背景がクロムのためコントラストが高く、反射用途向きです。詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。グリッドの水平ラインと垂直ラインが直交しているのが適切な状態です。歪んだ画像のラインは弓状になります。この場合、画像は歪み補正のために使用できます。

+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S3P1 Support Documentation
R1L3S3P1Customer Inspired! グリッド型歪みポジターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、グリッド間隔5、10、50、100、500 µm
¥46,176
7-10 Days
R1L3S3P Support Documentation
R1L3S3Pグリッド型歪みポジターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、グリッド間隔10、50、100、500 µm
¥40,053
Today
R1L3S3PR Support Documentation
R1L3S3PRグリッド型歪みポジターゲット、反射型、76.2 mm x 25.4 mm、グリッド間隔10、50、100、500 µm
¥40,053
Today

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

Combined Resolution Test Target
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Figure 445A  ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像
Optical Specifications
Item #R1L1S1PR1L1S1N
PatternLRa ChromeClear
BackgroundClearLRa Chrome
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 光学システムの分解能(解像度)を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • 18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板
  • USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
  • ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2~7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30~150 lp/mm)が描かれています。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。 グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。 詳細については、分解能ターゲットのページをご参照ください。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR1L1S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
1951 USAF TargetGroups 2 - 7Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm PitchRonchi Rulings13 Rulings from 30 lp/mma to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • 1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L1S1P Support Documentation
R1L1S1PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、18 mm x 18 mm
¥86,198
Today
R1L1S1N Support Documentation
R1L1S1NCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ネガターゲット、18 mm x 18 mm
¥86,198
Today

分解能ならびに歪み測定一体型テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

 

Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)
• 4.5• 10• 23• 51• 114
• 5• 11• 25• 57• 128
• 5.6• 12.5• 29• 64• 144
• 6.3• 14• 32• 72• 161
• 7.1• 16• 36• 81• 181
• 8• 18• 40• 91• 203
• 9• 20• 45• 102• 228
Stage Micrometer
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Figure 444A  R1L3S5Pの拡大図
Optical Specifications
PatternLRa Chrome
BackgroundClear
Surface Flatness≤15 µm
Chrome Optical Densityb≥3.0
  • 低反射(Low-Reflectivity)
  • 430 nmにおける仕様
  • 76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmターゲット
  • NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほか付き(下の表をご覧ください)
  • 光学システムの分解能を測定
  • 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
  • スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。当社のスライドホルダMLS203P2に取付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(Table 444Bをご覧ください)。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能の測定にお使いいただけます。詳細については、分解能ターゲットの製品ページをご参照ください。グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

Table 444B  Specifications
Target FeatureDetailsTarget FeatureDetails
NBS 1963AFrequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)Concentric Circles10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)3 Grids: 100 lp/mma, 150 lp/mm, 200 lp/mmFixed Ronchi Rulings3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots,
200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots
Variable Ronchi Rulings20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution DotsØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µmPinholesØ25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mmThree Micrometers1 mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divisions
1 mm Scale with 10 µm Divisions
10 mm Scale with 50 µm Divisions
Sector Star36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals
  • lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1L3S5P Support Documentation
R1L3S5PCustomer Inspired! 分解能ならびに歪み測定一体型ポジターゲット、76.2 mm x 25.4 mm
¥159,857
Today

同心円&十字線レチクル

Numbered Concentric Circles
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Figure 404B  番号付き同心円のパターン(型番R19DS13P)
Reticle in Mounting Adapter
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Figure 404A  取付アダプタAD19Tに取り付けられたR19DS13P
  • 十字線上にある同心円
  • 円の間隔:0.5 mm、1.0 mm、2.0 mmまたは5.0 mm
  • ポジティブパターンは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、Ø76.2 mm(Ø3インチ)から選択可能
  • ネガティブパターンはØ25.4 mm(Ø1インチ)でご用意

同心円レチクルは十字線付きで、同心円は0.5 mm、1.0 mm、2.0 mmまたは5.0 mm間隔で構成されています。円は1 mmごと(ピッチが0.5 mmおよび1 mmの円)、2 mmごと(ピッチが2 mmの円)、5 mmごと(ピッチが5 mmの円)に番号が割り振られています。パターンは幅10 µmの線(ピッチが0.5 mmおよび1.0 mmの円)、幅100 µmの線(ピッチが2.0 mmの円)、または幅250 µmの線(ピッチが5.0 mmの円)で形成されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は250~1200 nmの波長範囲において90%以上です。

Ø19.0 mmのレチクルは、取付アダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工(1.035"-40)があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。

Item #Pattern Reticle DiameterPitchaLine ThicknessNumber of CirclesClear ApertureDiameter of Largest Circle
R19DS13PPositive19.0 mm1 mm10 µm10>Ø17.1 mm10 mm
R21DS7PPositive21.0 mm1 mm10 µm10>Ø18.9 mm10 mm
R1DS2P2Positive1"0.5 mm10 µm20>Ø22.9 mm10 mm
R1DS2PPositive1"1 mm10 µm10>Ø22.9 mm10 mm
R1DS2P3Positive1"2 mm100 µm12>Ø22.9 mm24 mmb
R1DS2P1Positive1"5 mm250 µm4>Ø22.9 mm20 mm
R3DS2P3Positive3"2 mm100 µm37>Ø68.6 mm74 mmb
R1DS2N2Negative1"0.5 mm10 µm20>Ø22.9 mm10 mm
R1DS2NNegative1"1"10 µm10>Ø22.9 mm10 mm
R1DS2N1Negative1"1"250 µm4>Ø22.9 mm20 mm
  • Pitch(ピッチ)は隣り合う円の直径の差です。線間の幅はピッチの半分となります。
  • 表面品質は、有効径の内側の領域のみに適用されます。R1DS2P3の最も外側の円は有効径から外れており、性能を保証するものではありませんのでご注意ください。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R19DS13P Support Documentation
R19DS13PCustomer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø19.0 mm、ピッチ1 mm、線幅10 µm、円10個、UVFS製
¥11,015
Today
R21DS7P Support Documentation
R21DS7PCustomer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø21.0 mm、ピッチ1 mm、線幅10 µm、円10個、UVFS製
¥11,015
7-10 Days
R1DS2P2 Support Documentation
R1DS2P2Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ0.5 mm、線幅10 µm、円20個、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS2P Support Documentation
R1DS2PCustomer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ1 mm、線幅10 µm、円10個、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS2P3 Support Documentation
R1DS2P3Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ2 mm、線幅100 µm、円12個、UVFS製
¥11,015
Lead Time
R1DS2P1 Support Documentation
R1DS2P1Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ5 mm、線幅250 µm、円4個、UVFS製
¥11,015
Today
R3DS2P3 Support Documentation
R3DS2P3Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ポジ型、Ø76.2 mm(Ø3インチ)、ピッチ2 mm、線幅100 µm、円37個、UVFS製
¥71,800
7-10 Days
R1DS2N2 Support Documentation
R1DS2N2Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ネガ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ0.5 mm、線幅10 µm、円20個、UVFS製
¥11,015
7-10 Days
R1DS2N Support Documentation
R1DS2NCustomer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ネガ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ1 mm、線幅10 µm、円10個、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS2N1 Support Documentation
R1DS2N1Customer Inspired! 同心円&十字線レチクル、ネガ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、ピッチ5 mm、線幅250 µm、円4個、UVFS製
¥11,015
7-10 Days

十字線レチクル、目盛付き

Scaled Crosshair Pattern
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Figure 765A  目盛付き十字線のパターン
  • エッジ部分まで伸びた目盛付きの十字線
  • 目盛間隔:
    • 中心から1 mmまで:10 µm目盛
    • 中心から12 mmまで:100 µmと1 mm目盛
  • 直径25.4 mmのレチクルはポジティブおよびネガティブ型をご用意

目盛付きの十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。十字線はレチクルの直径まで伸びており、中心から12 mmまでは目盛も付いています。1種類目の目盛は幅2 µmで、中心から1 mmまで10 µm間隔で付いています(この半径内の十字線も幅2 µmです)。2種類目の目盛は幅10 µmで、中心から1 mmの位置から12 mmまで100 µm間隔で付いています(中心から1 mmの位置から端までの十字線も幅10 µmです)。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は250~1200 nmの波長範囲において90%以上です。

Ø19.0 mmのレチクルは、取付アダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工(1.035"-40)があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。

Item #Pattern Reticle DiameterTyp. Line ThicknessTick Mark Spacing
R1DS3P2Positive1"2 µm (Up to 1 mm from Center),
10 µm (1 mm from Center to the Edge of the Optic)
Minor Ticks: 10 µm, Major Ticks: 100 µm (Up to 1 mm from Center);
Minor Ticks: 100 µm, Major Ticks: 1 mm (1 mm from Center to the Edge of the Optic)
R1DS3N2Negative
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R1DS3P2 Support Documentation
R1DS3P2Customer Inspired! 目盛付き十字線レチクル、ポジ型、目盛間隔10 µm/100 µm/1 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS3N2 Support Documentation
R1DS3N2Customer Inspired! 目盛付き十字線レチクル、ネガ型、目盛間隔10 µm/100 µm/1 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、UVFS製
¥11,015
Today

十字線レチクル

Crosshair Pattern
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Figure 403B
十字パターン
Reticle in Mounting Adapter
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Figure 403A
取付けアダプタSM1AD19に取り付けられたR19DS11P
  • エッジ部分まで伸びた十字線
  • ポジティブ型の十字線レチクルは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)から選択可能
  • Ø25.4 mm(Ø1インチ)のネガティブ型の十字線レチクルもご用意
  • 幅10 µmまたは25 µmの十字線

当社の十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。 幅25 µmまたは10 µm(Ø25.4 mm(Ø1インチ)光学素子のみ)の十字線がレチクルの直径にわたって刻印されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されており、また、250~1200 nmの波長範囲において90%以上の透過率を有しています。

Ø19.0 mmのレチクルは、取付けアダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。 AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。

Item #Pattern Reticle DiameterLine Thickness
R19DS11PPositive19.0 mm25 µm
R21DS5PPositive21.0 mm25 µm
R1DS3P1Positive1"10 µm
R1DS3PPositive1"25 µm
R1DS3N1Negative1"10 µm
R1DS3NNegative1"25 µm
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
R19DS11P Support Documentation
R19DS11PCustomer Inspired! 十字線レチクル、ポジ型、Ø19 mm、線幅25 µm、UVFS製
¥11,015
Today
R21DS5P Support Documentation
R21DS5PCustomer Inspired! 十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、線幅25 µm、UVFS製
¥11,015
7-10 Days
R1DS3P1 Support Documentation
R1DS3P1Customer Inspired! 十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、線幅10 µm、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS3P Support Documentation
R1DS3PCustomer Inspired! 十字線レチクル、ポジ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、線幅25 µm、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS3N1 Support Documentation
R1DS3N1Customer Inspired! 十字線レチクル、ネガ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、線幅10 µm、UVFS製
¥11,015
Today
R1DS3N Support Documentation
R1DS3NCustomer Inspired! 十字線レチクル、ネガ型、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、線幅25 µm、UVFS製
¥11,015
Today