校正用ターゲット(校正用チャート)

- Microscope Slides & Reticles for Imaging System Calibration
- Soda Lime or UV Fused Silica Substrates with Chrome Plating
R1L3S1P
Stage Micrometer
with 50 µm Divisions
R3L3S3P
Concentric Squares Target,
0.1 mm to 50 mm
R2L2S3P1
Grid Distortion Target,
125 µm Grid Spacing
R1L3S12N
Ronchi Ruling Target,
10 lp/mm Pattern
R3L3S5P
Concentric Circles and Crosshairs Grid Target
R1DS2P
Concentric Circles Reticle

Please Wait
General Specifications | ||
---|---|---|
Optic Type | Slides & Targets | Reticlesa |
Chrome Optical Density | ≥3.0 at 430 nmb | ≥3 at 430 nm |
Substrate Thickness | 0.06" (1.5 mm) | |
Surface Flatness | ≤15 µm | N/A |
Surface Quality | N/A | 60-40 Scratch-Dig |
Substrate | Soda Lime Glass | UV Fused Silicac |
カスタム仕様・組み込み用途(OEM用途)のテストターゲット、レチクルについて
テストターゲット(テストチャート)やレチクルの特注や組み込み用途(OEM用途)をご要望の場合、このページで紹介している製品のカスタマイズのご相談を承ります。詳細については「カスタム向け」タブをご覧になるか、当社までご連絡ください。
We look forward to hearing from you!
校正用ターゲット種類
- 水平方向に100 µmの目盛が付いた顕微鏡用対物ミクロメータ(ステージミクロメータ)(25.4 mm x 25.4 mm)
- 水平方向に10 µmまたは50 µmの目盛が付いた顕微鏡用対物ミクロメータ(ステージミクロメータ)(76.2 mm x 25.4 mm)
- 同心正方形ターゲット、0.1 mm~50 mmのポジパターン(76.2 mm x 76.2 mm)
- 単一周波数ロンキールーリングターゲット(76.2 mm x 25.4 mm)
- 同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット(76.2 mm x 76.2 mm)
- 分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット(18 mm x 18 mm)
- 固定周波数グリッド型歪みターゲット(38.1 mm x 38.1 mm)
- 固定周波数グリッド型歪みターゲット、90 mm x 90 mm
- マルチ周波数グリッド型歪みターゲット(76.2 mm x 25.4 mm)
- 分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット(76.2 mm x 25.4 mm)
- 同心円&十字線レチクル(Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、Ø76.2 mm(Ø3インチ))
- 十字線レチクル、目盛付き
- 十字線レチクル
当社ではイメージングシステムの校正用に、対物ミクロメータ(ステージミクロメータ)、同心円&正方形、歪みターゲットやレチクル等の校正用ターゲット(校正用チャート)をご用意しています。正方形や長方形のターゲットやミクロメータは、ソーダライムガラス基板と真空スパッタリングされた低反射クロム、レチクルはUVグレード溶融石英(UVFS)基板に高反射クロムパターンとなっております。それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。
取付例
長方形の校正用ターゲットおよびミクロメータは、一般的な固定式のスライドホルダ、顕微鏡用スライドホルダ、顕微鏡用ステージなど当社の多くの顕微鏡用スライドホルダに取り付け可能です。当社ではレチクル取付け用の固定式光学マウントもご用意しています。
Targets Selection Guide | ||||
---|---|---|---|---|
Resolution Test Targets | Calibration Targets | Distortion Test Targets | Slant Edge MTF Target | Stage Micrometers |

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ソーダライムガラスの透過率

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反射型テストターゲットのスペクトル曲線
可視域における反射型テストターゲットのスペクトル曲線コーティング無し(青線)と、反射防止付きクロム(赤線)の大きな差により、反射型のポジターゲットのパターンと背景のコントラストが高いことを意味しています。

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透過率曲線は、厚さ1.0 mmのUV溶融石英基板を用い、垂直入射で測定されています。こちらのページでご紹介しているレチクルは厚みが1.5 mmあるため、透過率はこのグラフより若干低くなります。
Customization Parameters | ||
---|---|---|
Substrate Sizea | Min | 8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16") |
Max | 85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35") | |
Substrate Materials | Soda Lime Glass UV Fused Silica Quartz | |
Coating Material | Chromeb Low-Reflectivity Chromec | |
Coating Optical Density | ≥3d or ≥6e @ 430 nm | |
Minimum Pinhole/Spot | Ø1 µm | |
Minimum Line Width | 1 µm | |
Line Width Tolerance | -0.25 / +0.50 µm | |
Maximum Line Density | 500 lp/mm |
カスタムおよび組み込み用途(OEM用途)向けテストターゲットとレチクル
当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。 これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。
標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm~85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。
カスタム仕様のテストターゲットやレチクルのお見積りについては、当社までお問い合わせください。
サンプルパターン
用途例
- エッチングレチクル
- グレースケールマスク
- 高分解能レチクル
- 測定用レチクル
- レクリエーション用スコープ
- ノッチ付きレチクル
- アイピース目盛
- 照明用十字レチクル
- オブストラクションターゲット
- 双眼鏡レチクル

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ポジパターンとネガパターンの十字ターゲット
こちらでは当社のエンジニアが推奨するレチクル、テストターゲット、歪みターゲット、校正ターゲットの適切なクリーニング方法をご紹介いたします。
クリーニング手順
- できればポリビニルアルコール(PVA)製の清潔な濡れスポンジを使用し、食器用洗剤でレチクルやターゲットの正面と裏面を優しくこすります。
- 水ですすぎます。
- 清潔で乾燥した空気によるブローで乾かすか、清潔な面にレチクルやターゲットを置いて自然乾燥させます。
タオルや布、またはワイプを使用して拭くことはお勧めしません。汚れがまだ残る場合には、レチクルやターゲットを食器洗剤を混ぜた水溶液に1時間つけ置き、必要であればこれを繰り返します。
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- R1L3S1P:50 μm刻みで10 mmのスケール
- R1L3S2P:10 μm刻みで1 mmのスケール
- 接眼レンズ用レチクルまたは対物レンズの倍率を校正
これらのターゲットには、水平方向にステージミクロメーターパターンが刻印されています。ミクロメータR1L3S1Pには50 µm刻みで1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ10 mmのスケールが、R1L3S2Pには10 µm刻みで0.1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ1 mmのスケールです。どのターゲットも、76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

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Figure 345D Close Up of the R1L1S5P Horizontal Scale with Crosshair


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Figure 443B R3L3S3Pの同心正方形パターン

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Figure 443A 同心正方形ターゲットR3L3S3P上の幅15 mm以下の正方形を拡大
- 76.2 mm x 76.2 mmの同心正方形ターゲット
- イメージングソフトウェアによる測定値の校正
- 低反射の真空スパッタリングクロムめっき
同心正方形ターゲットR3L3S3Pには、長さおよび幅が0.1 mm~50 mmの14種類の同心正方形が描かれています(下表参照)。 ターゲット上にはそれぞれの正方形の幅が明記されています。 このテストターゲットは、ソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。 これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。
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Figure 726A R1L3S14Nのロンキールーリングパターンの拡大図
Optical Specifications | |
---|---|
Pattern | Alternating Clear and LRa Chrome Lines |
Background | LR Chrome |
Chrome Optical Densityb | ≥3.0 |
- 76.2 mm x 25.4 mmの矩形パターンロンキールーリングターゲット
- 0.5 lp/mm~500 lp/mmのパターンでご用意
- 65 mm x 17 mmの大きな有効エリア
- 光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性を評価
- ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムによるパターン形成
- スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能
当社では分解能が0.5 lp/mm~500 lp/mm(白と黒のラインペア)のロンキールーリングターゲットをご用意しております。縦格子と空白が等間隔に配置された矩形パターンは、76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板上に黒色の低反射クロムパターンを蒸着して製造されています。有効エリアが65 mm x 17 mmと大きいため、バックライトや高照度の用途に適しています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。ロンキールーリングは、光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性の評価に適しています。


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Figure 483B ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、Table 483Dと483E参照)

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Figure 483A ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図
Optical Specifications | |
---|---|
Pattern | LRa Chrome |
Background | Clear |
Surface Flatness | ≤15 µm |
Chrome Optical Densityb | ≥3.0 |
- グリッド内に同心円と十字線を配置
- それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
- イメージングシステムの分解能、歪み、倍率を測定
- 76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板
この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線グリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行x17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。 Figure 483Bでは、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。 それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。 パターンの寸法についての詳細はTable 483Dと483Eをご覧ください。
ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。 黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。
Table 483D Concentric Circles | |||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Circle Patterna | R1 | R2 | R3 | R4 | R5 | R6 | R7 |
A1 | 31.3 µm | 62.5 µm | 125 µm | 140.6 µm | 234.4 µm | 242.2 µm | 500 µm |
A2 | 15.6 µm | 31.3 µm | 62.5 µm | 70.3 µm | 117.2 µm | 121.1 µm | 250 µm |
A3 | 7.8 µm | 15.6 µm | 31.3 µm | 35.2 µm | 58.6 µm | 60.5 µm | 125 µm |
A4 | 3.9 µm | 7.8 µm | 15.6 µm | 17.6 µm | 29.3 µm | 30.3 µm | 62.5 µm |
Table 483E Crosshairs | |||
---|---|---|---|
Crosshair Patterna | Single or Double Line | Length/Width | Line Widthb |
B1 | Double | 500 µm | 6.25 µm |
B2 | Double | 500 µm | 12.5 µm |
B3 | Single | 500 µm | 50 µm |
B4 | Double | 500 µm | 25 µm |
B5 | Double | 500 µm | 100 µm |


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Figure 806C A Close Up of the Checkerboard Pattern on the 3" x 3" R3L3S8C1 Target

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Figure 806B A Close Up of the Checkerboard Pattern on the 1" x 1" R1L1S8C1 Target

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Figure 806A A Close Up of the Checkerboard Pattern on the Ø1" R1DS4C1 Target
- Checkerboard Arrays with Fixed Block Sizes on Ø1.00" Circular or 1.00", 1.50", or 3.00" Square Soda Lime Glass Substrates
- Block Size/Frequency Options Ranging from 100 µm to 5 mm
- Ideal for Stage Calibration and Distortion Detection in Machine Vision Applications
These checkerboard targets each feature a single grid of squares (blocks) fabricated by plating low-reflectivity, vacuum-sputtered chrome with an optical density (OD) of ≥3.0 at 430 nm on a soda lime glass substrate. Each item has a fixed checkerboard block size, with options ranging from 100 µm to 5 mm, see Table 806D for details. Substrates are available as Ø1.00" circles or 1.00", 1.50", or 3.00" squares.
Checkerboard grid arrays are used to determine the distortion of an imaging system. Ideally, the horizontal and vertical rows of blocks should appear perpendicular to each other. A distorted image will show the array as bowed; this image can then be used to correct for distortion.
Table 806D Checkerboard Target Specifications | |||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Item # | Block Size | Pattern | Background | Clear Aperture | Pattern Optical Density |
Transmitted Wavefront Error | Substrate Size |
R1DS4C2 | 100 µm | Clear | Low-Reflectivity Chrome |
15.70 mm x 15.70 mm (0.618" x 0.618") |
≥3.0 at 430 nm | <λ at 633 nm | Ø1.00" (Ø25.4 mm) |
R1DS4C1 | 250 µm | 15.75 mm x 15.75 mm (0.620" x 0.620") |
|||||
R1L1S8C2 | 100 µm | 15.70 mm x 15.70 mm (0.618" x 0.618") |
1.00" x 1.00" x 0.06" (25.4 mm x 25.4 mm x 1.5 mm) |
||||
R1L1S8C1 | 250 µm | 15.75 mm x 15.75 mm (0.620" x 0.620") |
|||||
R2L2S5C2 | 500 µm | 26.5 mm x 26.5 mm (1.04" x 1.04") |
1.50" x 1.50" x 0.06" (38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm) |
||||
R2L2S5C1 | 1 mm | 27.0 mm x 27.0 mm (1.06" x 1.06") |
|||||
R3L3S8C2 | 2.5 mm | 62.5 mm x 62.5 mm (2.46" x 2.46") |
3.00" x 3.00" x 0.06" (76.2 mm x 76.2 mm x 1.5 mm) |
||||
R3L3S8C1 | 5 mm | 65.0 mm x 65.0 mm (2.56" x 2.56") |


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Figure 810A A Close Up of the Checkerboard Patterns on the R1L3S30C1 Target
- Eight Checkerboard Arrays on a 3.00" x 1.00" (76.2 mm x 25.4 mm) Soda Lime Glass Substrate
- Checkerboards Made Up of 5, 10, 25, 50, 100, 250, 500, or 1000 µm Blocks
- Ideal for Stage Calibration and Distortion Detection in Machine Vision Applications
This checkerboard target features eight grids, each with different sized/spaced squares (blocks) ranging from 1 mm to 5 µm, fabricated by plating low-reflectivity, vacuum-sputtered chrome with an optical density (OD) of ≥3.0 at 430 nm on a soda lime glass substrate.
Checkerboard grid arrays are used to determine the distortion of an imaging system. Ideally, the horizontal and vertical rows of blocks should appear perpendicular to each other. A distorted image will show the array as bowed; this image can then be used to correct for distortion.
Item # | Block Sizes | Pattern | Background | Pattern Optical Density |
Transmitted Wavefront Error | Substrate Size |
---|---|---|---|---|---|---|
R1L3S30C1 | 5, 10, 25, 50, 100, 250, 500, and 1000 µm | Clear | Low-Reflectivity Chrome |
≥3.0 at 430 nm | <λ at 633 nm | 3.00" x 1.00" x 0.06" (76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mm) |


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Figure 447C A Close Up of the Dot Pattern on the R3L3S7N1 Target

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Figure 447B カスタム仕様のイメージングシステム用フィルターマウントFFM1、およびキューブベースB3C(/M)を用いてポストに取り付けたターゲットR2L2S3P3

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Figure 447A ターゲットR2L2S3P4のドットパターン拡大図
- 38.1 mm x 90.0 mmのソーダライムガラス基板上に1種類グリッドアレイ
- 50 µm、125 µm、250 µm、500 µm、1000 µm、2500 µm、 5000 µm のグリッド間隔
- Ø25 µm、Ø62.5 µm、Ø125 µm、Ø250 µm、Ø500 µmのドットサイズ
- マシンビジョンにおけるステージの校正や歪み検出の用途に使用
この歪み検出グリッドアレイには、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られたドットがグリッド状に配置されています。 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までのグリッド間隔50 µm~1000 µm、ドット直径25 µm~500 µmをご用意しております。
グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。 ドットの水平、および垂直の行と列が互いに直交しているのが理想的な状態です。 歪んだ画像のラインは弓形となります。この画像は歪みを補正するために使用されます。
Item # | Spacinga | Spacing Tolerance | Dot Size | Dot Size Tolerance | Pattern | Background | Pattern Sizeb | Pattern Size Tolerance | Pattern Optical Density | Substrate Size |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
R2L2S3P5 | 50 µm | ±1 µm | Ø25 µm | ±2 µm | Low-Reflectivity Chrome | Clear | 25.0 mm x 25.0 mm (0.98" x 0.98") | ±4 µm | ≥3.0 at 430 nm | 1.50" x 1.50" x 0.06" (38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm) |
R2L2S3P1 | 125 µm | Ø62.5 µm | ||||||||
R2L2S3P2 | 250 µm | Ø125 µm | ||||||||
R2L2S3P3 | 500 µm | Ø250 µm | 25.4 mm x 25.4 mm (1.00" x 1.00") | |||||||
R2L2S3P4 | 1000 µm | Ø500 µm | ||||||||
R3L3S7N2 | 2500 µm | ±5 µm | Ø500 µm | ±5 µm | Clear | Low-Reflectivity Chrome | 80.0 mm x 80.0 mm (3.15" x 3.15") | ±5 µm | ≥3.0 at 430 nm | 90.0 mm x 90.0 mm x 1.5 mm (3.54" x 3.54" x 0.06") |
R3L3S7N1 | 5000 µm |


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Figure 346A R1L3S3Pの4種類のグリッドパターンの拡大図
Optical Specifications | |||
---|---|---|---|
Item # | R1L3S3P1 | R1L3S3P | R1L3S3PR |
Pattern | LRa Chrome | LRa Chrome | LRa Chrome |
Background | Clear | Clear | Chrome |
Chrome Optical Densitya | ≥3.0 | ≥3.0 | - |
Reflectanceb | - | - | LRa Chrome: < 10% Chrome: > 40% |
- 76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラススライド上に4つのグリッドアレイ
- グリッド間隔: 5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µm
- ステージの校正や歪み検出の顕微鏡法の用途に使用
- 標準的な顕微鏡スライドと同じ外寸
- コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意
こちらのグリッド型歪みターゲットは、5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µmの4種類または5種類の間隔の水平と垂直のラインのアレイが特長となっております。このグリッドパターンでは、低反射クロムが真空スパッタリングにより76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板に蒸着されています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。
ポジターゲットR1L3S3P1とR1L3S3Pのソーダライムガラス基板の背景は透明で、フロントライトや一般的な用途向けです。反射型のポジターゲットR1L3S3PRは背景がクロムのためコントラストが高く、反射用途向きです。詳細は「グラフ」タブをご覧ください。
グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。グリッドの水平ラインと垂直ラインが直交しているのが適切な状態です。歪んだ画像のラインは弓状になります。この場合、画像は歪み補正のために使用できます。


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Figure 445A ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像
Optical Specifications | ||
---|---|---|
Item # | R1L1S1P | R1L1S1N |
Pattern | LRa Chrome | Clear |
Background | Clear | LRa Chrome |
Chrome Optical Densityb | ≥3.0 |
- 光学システムの分解能(解像度)を測定
- 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
- 18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板
- USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
- ポジまたはネガパターンでご用意
当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。 イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。
テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2~7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30~150 lp/mm)が描かれています。 分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。 グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。 ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。 詳細については、分解能ターゲットのページをご参照ください。
こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。 ポジターゲットR1L1S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。 また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。
Target Feature | Details | Target Feature | Details |
---|---|---|---|
1951 USAF Target | Groups 2 - 7 | Concentric Circles | 10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10 |
Grids | 20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm Pitch | Ronchi Rulings | 13 Rulings from 30 lp/mma to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals |
Sector Star | 36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals |

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Figure 444A R1L3S5Pの拡大図
Optical Specifications | |
---|---|
Pattern | LRa Chrome |
Background | Clear |
Surface Flatness | ≤15 µm |
Chrome Optical Densityb | ≥3.0 |
- 76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmターゲット
- NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほか付き(下の表をご覧ください)
- 光学システムの分解能を測定
- 画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
- スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能
当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。当社のスライドホルダMLS203P2に取付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。
テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(Table 444Bをご覧ください)。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能の測定にお使いいただけます。詳細については、分解能ターゲットの製品ページをご参照ください。グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。
Table 444B Specifications | |||
---|---|---|---|
Target Feature | Details | Target Feature | Details |
NBS 1963A | Frequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above) | Concentric Circles | 10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals |
Distortion Grid (Squares) | 3 Grids: 100 lp/mma, 150 lp/mm, 200 lp/mm | Fixed Ronchi Rulings | 3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm |
Distortion Grid (Dots) | 3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots, 200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots | Variable Ronchi Rulings | 20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in |
Two-Point Resolution Dots | Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm | Pinholes | Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm |
Interdigitated Lines | 6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, | Three Micrometers | 1 mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divisions 1 mm Scale with 10 µm Divisions 10 mm Scale with 50 µm Divisions |
Sector Star | 36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals |


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Figure 404B 番号付き同心円のパターン(型番R19DS13P)

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Figure 404A 取付アダプタAD19Tに取り付けられたR19DS13P
- 十字線上にある同心円
- 円の間隔:0.5 mm、1.0 mm、2.0 mmまたは5.0 mm
- ポジティブパターンは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、Ø76.2 mm(Ø3インチ)から選択可能
- ネガティブパターンはØ25.4 mm(Ø1インチ)でご用意
同心円レチクルは十字線付きで、同心円は0.5 mm、1.0 mm、2.0 mmまたは5.0 mm間隔で構成されています。円は1 mmごと(ピッチが0.5 mmおよび1 mmの円)、2 mmごと(ピッチが2 mmの円)、5 mmごと(ピッチが5 mmの円)に番号が割り振られています。パターンは幅10 µmの線(ピッチが0.5 mmおよび1.0 mmの円)、幅100 µmの線(ピッチが2.0 mmの円)、または幅250 µmの線(ピッチが5.0 mmの円)で形成されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は250~1200 nmの波長範囲において90%以上です。
Ø19.0 mmのレチクルは、取付アダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工(1.035"-40)があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。
Item # | Pattern | Reticle Diameter | Pitcha | Line Thickness | Number of Circles | Clear Aperture | Diameter of Largest Circle |
---|---|---|---|---|---|---|---|
R19DS13P | Positive | 19.0 mm | 1 mm | 10 µm | 10 | >Ø17.1 mm | 10 mm |
R21DS7P | Positive | 21.0 mm | 1 mm | 10 µm | 10 | >Ø18.9 mm | 10 mm |
R1DS2P2 | Positive | 1" | 0.5 mm | 10 µm | 20 | >Ø22.9 mm | 10 mm |
R1DS2P | Positive | 1" | 1 mm | 10 µm | 10 | >Ø22.9 mm | 10 mm |
R1DS2P3 | Positive | 1" | 2 mm | 100 µm | 12 | >Ø22.9 mm | 24 mmb |
R1DS2P1 | Positive | 1" | 5 mm | 250 µm | 4 | >Ø22.9 mm | 20 mm |
R3DS2P3 | Positive | 3" | 2 mm | 100 µm | 37 | >Ø68.6 mm | 74 mmb |
R1DS2N2 | Negative | 1" | 0.5 mm | 10 µm | 20 | >Ø22.9 mm | 10 mm |
R1DS2N | Negative | 1" | 1" | 10 µm | 10 | >Ø22.9 mm | 10 mm |
R1DS2N1 | Negative | 1" | 1" | 250 µm | 4 | >Ø22.9 mm | 20 mm |


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Figure 765A 目盛付き十字線のパターン
- エッジ部分まで伸びた目盛付きの十字線
- 目盛間隔:
- 中心から1 mmまで:10 µm目盛
- 中心から12 mmまで:100 µmと1 mm目盛
- 直径25.4 mmのレチクルはポジティブおよびネガティブ型をご用意
目盛付きの十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。十字線はレチクルの直径まで伸びており、中心から12 mmまでは目盛も付いています。1種類目の目盛は幅2 µmで、中心から1 mmまで10 µm間隔で付いています(この半径内の十字線も幅2 µmです)。2種類目の目盛は幅10 µmで、中心から1 mmの位置から12 mmまで100 µm間隔で付いています(中心から1 mmの位置から端までの十字線も幅10 µmです)。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は250~1200 nmの波長範囲において90%以上です。
Ø19.0 mmのレチクルは、取付アダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工(1.035"-40)があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。
Item # | Pattern | Reticle Diameter | Typ. Line Thickness | Tick Mark Spacing |
---|---|---|---|---|
R1DS3P2 | Positive | 1" | 2 µm (Up to 1 mm from Center), 10 µm (1 mm from Center to the Edge of the Optic) | Minor Ticks: 10 µm, Major Ticks: 100 µm (Up to 1 mm from Center); Minor Ticks: 100 µm, Major Ticks: 1 mm (1 mm from Center to the Edge of the Optic) |
R1DS3N2 | Negative |

- エッジ部分まで伸びた十字線
- ポジティブ型の十字線レチクルは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)から選択可能
- Ø25.4 mm(Ø1インチ)のネガティブ型の十字線レチクルもご用意
- 幅10 µmまたは25 µmの十字線
当社の十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。 幅25 µmまたは10 µm(Ø25.4 mm(Ø1インチ)光学素子のみ)の十字線がレチクルの直径にわたって刻印されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されており、また、250~1200 nmの波長範囲において90%以上の透過率を有しています。
Ø19.0 mmのレチクルは、取付けアダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。 AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。
Item # | Pattern | Reticle Diameter | Line Thickness |
---|---|---|---|
R19DS11P | Positive | 19.0 mm | 25 µm |
R21DS5P | Positive | 21.0 mm | 25 µm |
R1DS3P1 | Positive | 1" | 10 µm |
R1DS3P | Positive | 1" | 25 µm |
R1DS3N1 | Negative | 1" | 10 µm |
R1DS3N | Negative | 1" | 25 µm |