ピコ秒イッテルビウムハイパワーレーザー用ミラー


  • Mirrors for Yb Wavelengths from Fundamental through 4th Harmonic
  • High Damage Thresholds
  • >98.5% Reflectance in Specified Range

UM10-Y2HP

Ø1", 2nd Harmonic

UM10-Y4HP

Ø1", 4th Harmonic

UM10-Y3HP

Ø1", 3rd Harmonic

Application Idea

UM10-Y1HP Fundamental Mirror Mounted in a Ø1" Polaris® Mount

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Mirror Specifications
DiameterØ1"
Diameter Tolerance+0.00 / -0.10 mm
Thickness9.5 mm
Thickness Tolerance±0.20 mm
Clear Aperture> 80% Diameter
Angle of Incidence (AOI)45°
SubstrateFused Silica
Front Surface Flatnessa< λ 10 at 632.8 nm
Front Surface Quality15-5 Scratch-Dig
Parallelism≤5 arcmin
Back SurfacePolished
  • 有効径全体での仕様
Engraved side of mirror
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ミラーには型番や表裏の識別可能な刻印が側面に付いております。矢印は光学素子のコーティング面を指しています。
Optic Cleaning Tutorial

特長

  • イッテルビウムレーザ用に4つの誘電体コーティングをご用意
    • 基本波用:1010~1080 nm 
    • 第2高調波用:500~550 nm
    • 第3高調波用:335~375 nm
    • 第4高調波用:250~272 nm
  • 高い損傷閾値(詳細は「損傷閾値」のタブをご覧ください)
  • 45°の入射角(AOI)用に設計
  • S偏光ならびにP偏光の両方に対して高い反射率 
  • 微細加工やレーザ加工に適した製品
  • 大量注文やOEM用途向けカスタムサイズについては当社までお問い合わせください。

当社のピコ秒イッテルビウム(Yb)ハイパワーレーザ用ミラーは基本波、第2高調波、第3高調波、第4高調波Ybレーザ用に設計されています。 各ミラーは損傷閾値(LIDT)の高い誘電体コーティング付きのため、微細加工やレーザ加工などハイパワーレーザの用途に適しています。コーティングは入射角45°で使用したとき、S偏光とP偏光の間の性能の差が最小になるよう設計されています。結果、どちらの偏光でも反射率は99%以上です。入射ビームが高品質なビームスポットに集光されるよう、各ミラーの前面は平坦度< λ/10の精密グレードで加工されています。

これらのハイパワーレーザ用ミラーは、Ø25.4 mm(Ø1インチ)でご用意しており、様々なミラーマウントに取り付けが可能です。上の写真のように、各光学素子のエッジには型番とコーティング面の位置を示す矢印が刻印されています。 各ミラーの裏面は研磨されているため、ごく一部の光がミラー基板を通って漏れます。 これにより光学素子を追加することなく入射パワーのモニタが可能となります。

こちらでご紹介しているピコ秒Ybレーザーラインミラーのほかにも、低GDDの超短パルスレーザ用ミラーも豊富に取り揃えております。超短パルス用途向けに最適化された光学素子のラインナップについては「超短パルスレーザ用光学素子」のタブをご覧ください。損傷閾値が高いレーザーラインミラーは、特にNd:YAG、Ar-Ion、Kr-Ion、エキシマならびにCO2レーザが生成する高強度ビーム向けにご用意しております。

Coating Specifications
Item #Wavelength RangeReflectance Graphs
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ReflectanceDamage Thresholda
UM10-Y1HP1010 - 1080 nm
Fundamental
-Y1HP Coating Reflectance
Click Here for Theoretical 
Data From 600 - 1500 nm
Rabs > 99.5% (S- and P-Pol.)0.524 J/cm2 (1030 nm, 0.500 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y2HP500 - 550 nm
2nd Harmonic
-Y2HP Coating Reflectance
Click Here for Theoretical
Data From 400 - 1200 nm
Rabs > 99.5% (S- and P-Pol.)0.292 J/cm2 (515 nm, 0.501 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y3HP335 - 375 nm
3rd Harmonic
-Y3HP Coating Reflectance
Click Here for Theoretical
Data From 300 - 1200 nm
Rabs > 99% (S- and P-Pol.)0.288 J/cm2 (355 nm, 0.496 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y4HP250 - 272 nm
4th Harmonic
-Y4HP Coating Reflectance
Click Here for Theoretical
Data From 220 - 320 nm
Rabs > 99% (S-Pol.)
Rabs > 98.5% (P-Pol.)
0.223 J/cm2 (266 nm, 0.483 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses).
  • 超短パルスレーザ用光学素子のレーザ損傷閾値(LIDT)の値は、所定のパルス数で、視覚的に確認できる損傷を与える(パルスあたりの)流束量(フルエンス)で定義されています。損傷閾値は超短パルス領域では保証されておりません。これらは参考値としてご提供しております。

下のグラフは、ミラーの入射角45°における反射特性(理論値)で、ミラーの設計性能を表しています。グラフの青い網掛け部分は、反射率を仕様として保証する波長範囲を示しています。この領域外の反射率については典型値で、製造ロット毎に異なる場合があります。

-Y1HP Coating Reflectance
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600~1500 nmの理論値データについてはこちらからダウンロードいただけます。
-Y2HP Reflectance
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400~1200 nmの理論値データについてはこちらからダウンロードいただけます。
-Y3HP Reflectance
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300~1200 nmの理論値データについてはこちらからダウンロードいただけます。
-Y4HP Reflectance
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220~320 nmの理論値データについてはこちらからダウンロードいただけます。

当社のイッテルビウム(Yb)ハイパワーレーザ用ミラーの損傷閾値データ

Damage Threshold Specificationsa
Item #Damage Threshold
UM10-Y1HP0.524 J/cm2 (1030 nm, 0.500 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y2HP0.292 J/cm2 (515 nm, 0.501 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y3HP0.288 J/cm2 (355 nm, 0.496 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses)
UM10-Y4HP0.223 J/cm2 (266 nm, 0.483 ps FWHM, P-Pol, 10 000 Pulses).
  • 超短パルスレーザ用光学素子のレーザ損傷閾値(LIDT)の値は、所定のパルス数で、視覚的に確認できる損傷を与える(1パルスあたりの)フルエンスで定義されています。 損傷閾値は超短パルス領域では保証されておりません。これらは参考値としてご提供しております。

右の仕様は当社のイッテルビウム(Yb)ハイパワーレーザ用ミラーの測定値です。

 

レーザによる損傷閾値について

このチュートリアルでは、レーザ損傷閾値がどのように測定され、使用する用途に適切な光学素子の決定にその値をどのようにご利用いただけるかを総括しています。お客様のアプリケーションにおいて、光学素子を選択する際、光学素子のレーザによる損傷閾値(Laser Induced Damage Threshold :LIDT)を知ることが重要です。光学素子のLIDTはお客様が使用するレーザの種類に大きく依存します。連続(CW)レーザは、通常、吸収(コーティングまたは基板における)によって発生する熱によって損傷を引き起こします。一方、パルスレーザは熱的損傷が起こる前に、光学素子の格子構造から電子が引き剥がされることによって損傷を受けます。ここで示すガイドラインは、室温で新品の光学素子を前提としています(つまり、スクラッチ&ディグ仕様内、表面の汚染がないなど)。光学素子の表面に塵などの粒子が付くと、低い閾値で損傷を受ける可能性があります。そのため、光学素子の表面をきれいで埃のない状態に保つことをお勧めします。光学素子のクリーニングについては「光学素子クリーニングチュートリアル」をご参照ください。

テスト方法

当社のLIDTテストは、ISO/DIS 11254およびISO 21254に準拠しています。

初めに、低パワー/エネルギのビームを光学素子に入射します。その光学素子の10ヶ所に1回ずつ、設定した時間(CW)またはパルス数(決められたprf)、レーザを照射します。レーザを照射した後、倍率約100倍の顕微鏡を用いた検査で確認し、すべての確認できる損傷を調べます。特定のパワー/エネルギで損傷のあった場所の数を記録します。次に、そのパワー/エネルギを増やすか減らすかして、光学素子にさらに10ヶ所レーザを照射します。このプロセスを損傷が観測されるまで繰返します。損傷閾値は、光学素子が損傷に耐える、損傷が起こらない最大のパワー/エネルギになります。1つのミラーBB1-E02の試験結果は以下のようなヒストグラムになります。

LIDT metallic mirror
上の写真はアルミニウムをコーティングしたミラーでLIDTテストを終えたものです。このテストは、損傷を受ける前のレーザのエネルギは0.43 J/cm2 (1064 nm、10 ns pulse、 10 Hz、Ø1.000 mm)でした。
LIDT BB1-E02
Example Test Data
Fluence# of Tested LocationsLocations with DamageLocations Without Damage
1.50 J/cm210010
1.75 J/cm210010
2.00 J/cm210010
2.25 J/cm21019
3.00 J/cm21019
5.00 J/cm21091

試験結果によれば、ミラーの損傷閾値は 2.00 J/cm2 (532 nm、10 ns pulse、10 Hz、 Ø0.803 mm)でした。尚、汚れや汚染によって光学素子の損傷閾値は大幅に低減されるため、こちらの試験はクリーンな光学素子で行っています。また、特定のロットのコーティングに対してのみ試験を行った結果ではありますが、当社の損傷閾値の仕様は様々な因子を考慮して、実測した値よりも低めに設定されており、全てのコーティングロットに対して適用されています。

CWレーザと長パルスレーザ

光学素子がCWレーザによって損傷を受けるのは、通常バルク材料がレーザのエネルギを吸収することによって引き起こされる溶解、あるいはAR(反射防止)コーティングのダメージによるものです[1]。1 µsを超える長いパルスレーザについてLIDTを論じる時は、CWレーザと同様に扱うことができます。

パルス長が1 nsと1 µs の間のときは、損傷は吸収、もしくは絶縁破壊のどちらかで発生していると考えることができます(CWとパルスのLIDT両方を調べなければなりません)。吸収は光学素子の固有特性によるものか、表面の不均一性によるものかのどちらかによって起こります。従って、LIDTは製造元の仕様以上の表面の質を有する光学素子にのみ有効です。多くの光学素子は、ハイパワーCWレーザで扱うことができる一方、アクロマティック複レンズのような接合レンズやNDフィルタのような高吸収光学素子は低いCWレーザ損傷閾値になる傾向にあります。このような低い損傷閾値は接着剤や金属コーティングにおける吸収や散乱によるものです。

Linear Power Density Scaling

線形パワー密度におけるLIDTに対するパルス長とスポットサイズ。長パルス~CWでは線形パワー密度はスポットサイズにかかわらず一定です。 このグラフの出典は[1]です。

Intensity Distribution

繰返し周波数(prf)の高いパルスレーザは、光学素子に熱的損傷も引き起こします。この場合は吸収や熱拡散率のような因子が深く関係しており、残念ながらprfの高いレーザが熱的影響によって光学素子に損傷を引き起こす場合の信頼性のあるLIDTを求める方法は確立されておりません。prfの大きいビームでは、平均出力およびピークパワーの両方を等しいCW出力と比較する必要があります。また、非常に透過率の高い材料では、prfが上昇してもLIDTの減少は皆無かそれに近くなります。

ある光学素子の固有のCWレーザの損傷閾値を使う場合には、以下のことを知る必要があります。

  1. レーザの波長
  2. ビーム径(1/e2)
  3. ビームのおおよその強度プロファイル(ガウシアン型など)
  4. レーザのパワー密度(トータルパワーをビームの強度が1/e2の範囲の面積で割ったもの)

ビームのパワー密度はW/cmの単位で計算します。この条件下では、出力密度はスポットサイズとは無関係になります。つまり、スポットサイズの変化に合わせてLIDTを計算し直す必要がありません(右グラフ参照)。平均線形パワー密度は、下の計算式で算出できます。

ここでは、ビーム強度プロファイルは一定であると仮定しています。次に、ビームがホットスポット、または他の不均一な強度プロファイルの場合を考慮して、おおよその最大パワー密度を計算する必要があります。ご参考までに、ガウシアンビームのときはビームの強度が1/e2の2倍のパワー密度を有します(右下図参照)。

次に、光学素子のLIDTの仕様の最大パワー密度を比較しましょう。損傷閾値の測定波長が光学素子に使用する波長と異なっている場合には、その損傷閾値は適宜補正が必要です。おおよその目安として参考にできるのは、損傷閾値は波長に対して比例関係であるということです。短い波長で使う場合、損傷閾値は低下します(つまり、1310 nmで10 W/cmのLIDTならば、655 nmでは5 W/cmと見積もります)。

CW Wavelength Scaling

この目安は一般的な傾向ですが、LIDTと波長の関係を定量的に示すものではありません。例えば、CW用途では、損傷はコーティングや基板の吸収によってより大きく変化し、必ずしも一般的な傾向通りとはなりません。上記の傾向はLIDT値の目安として参考にしていただけますが、LIDTの仕様波長と異なる場合には当社までお問い合わせください。パワー密度が光学素子の補正済みLIDTよりも小さい場合、この光学素子は目的の用途にご使用いただけます。

当社のウェブ上の損傷閾値の仕様と我々が行った実際の実験の値の間にはある程度の差があります。これはロット間の違いによって発生する誤差を許容するためです。ご要求に応じて、当社は個別の情報やテスト結果の証明書を発行することもできます。損傷解析は、類似した光学素子を用いて行います(お客様の光学素子には損傷は与えません)。試験の費用や所要時間などの詳細は、当社までお問い合わせください。

パルスレーザ

先に述べたように、通常、パルスレーザはCWレーザとは異なるタイプの損傷を光学素子に引き起こします。パルスレーザは損傷を与えるほど光学素子を加熱しませんが、光学素子から電子をひきはがします。残念ながら、お客様のレーザに対して光学素子のLIDTの仕様を照らし合わせることは非常に困難です。パルスレーザのパルス幅に起因する光学素子の損傷には、複数の形態があります。以下の表中のハイライトされた列は当社の仕様のLIDT値が当てはまるパルス幅に対する概要です。

パルス幅が10-9 sより短いパルスについては、当社の仕様のLIDT値と比較することは困難です。この超短パルスでは、多光子アバランシェ電離などのさまざまなメカニクスが損傷機構の主流になります[2]。対照的に、パルス幅が10-7 sと10-4 sの間のパルスは絶縁破壊、または熱的影響により光学素子の損傷を引き起こすと考えられます。これは、光学素子がお客様の用途に適しているかどうかを決定するために、レーザービームに対してCWとパルス両方による損傷閾値を参照しなくてはならないということです。

Pulse Durationt < 10-9 s10-9 < t < 10-7 s10-7 < t < 10-4 st > 10-4 s
Damage MechanismAvalanche IonizationDielectric BreakdownDielectric Breakdown or ThermalThermal
Relevant Damage SpecificationNo Comparison (See Above)PulsedPulsed and CWCW

お客様のパルスレーザに対してLIDTを比較する際は、以下のことを確認いただくことが重要です。

Energy Density Scaling

エネルギ密度におけるLIDTに対するパルス長&スポットサイズ。短パルスでは、エネルギ密度はスポットサイズにかかわらず一定です。このグラフの出典は[1]です。

  1. レーザの波長
  2. ビームのエネルギ密度(トータルエネルギをビームの強度が1/e2の範囲の面積で割ったもの)
  3. レーザのパルス幅
  4. パルスの繰返周波数(prf)
  5. 実際に使用するビーム径(1/e2 )
  6. ビームのおおよその強度プロファイル(ガウシアン型など)

ビームのエネルギ密度はJ/cm2の単位で計算します。右のグラフは、短パルス光源には、エネルギ密度が適した測定量であることを示しています。この条件下では、エネルギ密度はスポットサイズとは無関係になります。つまり、スポットサイズの変化に合わせてLIDTを計算し直す必要がありません。ここでは、ビーム強度プロファイルは一定であると仮定しています。ここで、ビームがホットスポット、または他の不均一な強度プロファイルの場合を考慮して、おおよその最大パワー密度を計算する必要があります。ご参考までに、ガウシアンビームのときは一般にビームの強度が1/e2のときの2倍のパワー密度を有します。

次に、光学素子のLIDTの仕様と最大エネルギ密度を比較しましょう。損傷閾値の測定波長が光学素子に使用する波長と異なっている場合には、その損傷閾値は適宜補正が必要です[3]。経験則から、損傷閾値は波長に対して以下のような平方根の関係であるということです。短い波長で使う場合、損傷閾値は低下します(例えば、1064 nmで 1 J/cm2のLIDTならば、532 nmでは0.7 J/cm2と計算されます)。

Pulse Wavelength Scaling

 

波長を補正したエネルギ密度を得ました。これを以下のステップで使用します。

ビーム径は損傷閾値を比較する時にも重要です。LIDTがJ/cm2の単位で表される場合、スポットサイズとは無関係になりますが、ビームサイズが大きい場合、LIDTの不一致を引き起こす原因でもある不具合が、より明らかになる傾向があります[4]。ここで示されているデータでは、LIDTの測定には<1 mmのビーム径が用いられています。ビーム径が5 mmよりも大きい場合、前述のようにビームのサイズが大きいほど不具合の影響が大きくなるため、LIDT (J/cm2)はビーム径とは無関係にはなりません。

次に、パルス幅について補正します。パルス幅が長くなるほど、より大きなエネルギに光学素子は耐えることができます。パルス幅が1~100 nsの場合の近似式は以下のようになります。

Pulse Length Scaling

お客様のレーザのパルス幅をもとに、光学素子の補正されたLIDTを計算するのにこの計算式を使います。お客様の最大エネルギ密度が、この補正したエネルギ密度よりも小さい場合、その光学素子はお客様の用途でご使用いただけます。ご注意いただきたい点は、10-9 s と10-7 sの間のパルスにのみこの計算が使えることです。パルス幅が10-7 sと10-4 sの間の場合には、CWのLIDTも調べなければなりません。

当社のウェブ上の損傷閾値の仕様と我々が行った実際の実験の値の間にはある程度の差があります。これはロット間の違いによって発生する誤差を許容するためです。ご要求に応じて、当社では個別のテスト情報やテスト結果の証明書を発行することも可能です。詳細は、当社までお問い合わせください。


[1] R. M. Wood, Optics and Laser Tech. 29, 517 (1997).
[2] Roger M. Wood, Laser-Induced Damage of Optical Materials (Institute of Physics Publishing, Philadelphia, PA, 2003).
[3] C. W. Carr et al., Phys. Rev. Lett. 91, 127402 (2003).
[4] N. Bloembergen, Appl. Opt. 12, 661 (1973).

レーザーシステムが光学素子に損傷を引き起こすかどうか判断するプロセスを説明するために、レーザによって引き起こされる損傷閾値(LIDT)の計算例をいくつかご紹介します。同様の計算を実行したい場合には、右のボタンをクリックしてください。計算ができるスプレッドシートをダウンロードいただけます。ご使用の際には光学素子のLIDTの値と、レーザーシステムの関連パラメータを緑の枠内に入力してください。スプレッドシートでCWならびにパルスの線形パワー密度、ならびにパルスのエネルギ密度を計算できます。これらの値はスケーリング則に基づいて、光学素子のLIDTの調整スケール値を計算するのに用いられます。計算式はガウシアンビームのプロファイルを想定しているため、ほかのビーム形状(均一ビームなど)には補正係数を導入する必要があります。 LIDTのスケーリング則は経験則に基づいていますので、確度は保証されません。なお、光学素子やコーティングに吸収があると、スペクトル領域によってLIDTが著しく低くなる場合があります。LIDTはパルス幅が1ナノ秒(ns)未満の超短パルスには有効ではありません。

Intensity Distribution
ガウシアンビームの最大強度は均一ビームの約2倍です。

CWレーザの例
波長1319 nm、ビーム径(1/e2)10 mm、パワー0.5 Wのガウシアンビームを生成するCWレーザーシステム想定します。このビームの平均線形パワー密度は、全パワーをビーム径で単純に割ると0.5 W/cmとなります。

CW Wavelength Scaling

しかし、ガウシアンビームの最大パワー密度は均一ビームの約2倍です(右のグラフ参照)。従って、システムのより正確な最大線形パワー密度は1 W/cmとなります。

アクロマティック複レンズAC127-030-CのCW LIDTは、1550 nmでテストされて350 W/cmとされています。CWの損傷閾値は通常レーザ光源の波長に直接スケーリングするため、LIDTの調整値は以下のように求められます。

CW Wavelength Scaling

LIDTの調整値は350 W/cm x (1319 nm / 1550 nm) = 298 W/cmと得られ、計算したレーザーシステムのパワー密度よりも大幅に高いため、この複レンズをこの用途に使用しても安全です。

ナノ秒パルスレーザの例:パルス幅が異なる場合のスケーリング
出力が繰返し周波数10 Hz、波長355 nm、エネルギ1 J、パルス幅2 ns、ビーム径(1/e2)1.9 cmのガウシアンビームであるNd:YAGパルスレーザーシステムを想定します。各パルスの平均エネルギ密度は、パルスエネルギをビームの断面積で割って求めます。

Pulse Energy Density

上で説明したように、ガウシアンビームの最大エネルギ密度は平均エネルギ密度の約2倍です。よって、このビームの最大エネルギ密度は約0.7 J/cm2です。

このビームのエネルギ密度を、広帯域誘電体ミラーBB1-E01のLIDT 1 J/cm2、そしてNd:YAGレーザーラインミラーNB1-K08のLIDT 3.5 J/cm2と比較します。LIDTの値は両方とも、波長355 nm、パルス幅10 ns、繰返し周波数10 Hzのレーザで計測しました。従って、より短いパルス幅に対する調整を行う必要があります。 1つ前のタブで説明したようにナノ秒パルスシステムのLIDTは、パルス幅の平方根にスケーリングします:

Pulse Length Scaling

この調整係数により広帯域誘電体ミラーBB1-E01のLIDTは0.45 J/cm2に、Nd:YAGレーザーラインミラーのLIDTは1.6 J/cm2になり、これらをビームの最大エネルギ密度0.7 J/cm2と比較します。広帯域ミラーはレーザによって損傷を受ける可能性があり、より特化されたレーザーラインミラーがこのシステムには適していることが分かります。

ナノ秒パルスレーザの例:波長が異なる場合のスケーリング
波長1064 nm、繰返し周波数2.5 Hz、パルスエネルギ100 mJ、パルス幅10 ns、ビーム径(1/e2)16 mmのレーザ光を、NDフィルタで減衰させるようなパルスレーザーシステムを想定します。これらの数値からガウシアン出力における最大エネルギ密度は0.1 J/cm2になります。Ø25 mm、OD 1.0の反射型NDフィルタ NDUV10Aの損傷閾値は355 nm、10 nsのパルスにおいて0.05 J/cm2で、同様の吸収型フィルタ NE10Aの損傷閾値は532 nm、10 nsのパルスにおいて10 J/cm2です。1つ前のタブで説明したように光学素子のLIDTは、ナノ秒パルス領域では波長の平方根にスケーリングします。

Pulse Wavelength Scaling

スケーリングによりLIDTの調整値は反射型フィルタでは0.08 J/cm2、吸収型フィルタでは14 J/cm2となります。このケースでは吸収型フィルタが光学損傷を防ぐには適した選択肢となります。

マイクロ秒パルスレーザの例
パルス幅1 µs、パルスエネルギ150 µJ、繰返し周波数50 kHzで、結果的にデューティーサイクルが5%になるレーザーシステムについて考えてみます。このシステムはCWとパルスレーザの間の領域にあり、どちらのメカニズムでも光学素子に損傷を招く可能性があります。レーザーシステムの安全な動作のためにはCWとパルス両方のLIDTをレーザーシステムの特性と比較する必要があります。

この比較的長いパルス幅のレーザが、波長980 nm、ビーム径(1/e2)12.7 mmのガウシアンビームであった場合、線形パワー密度は5.9 W/cm、1パルスのエネルギ密度は1.2 x 10-4 J/cm2となります。これをポリマーゼロオーダ1/4波長板WPQ10E-980のLIDTと比較してみます。CW放射に対するLIDTは810 nmで5 W/cm、10 nsパルスのLIDTは810 nmで5 J/cm2です。前述同様、光学素子のCW LIDTはレーザ波長と線形にスケーリングするので、CWの調整値は980 nmで6 W/cmとなります。一方でパルスのLIDTはレーザ波長の平方根とパルス幅の平方根にスケーリングしますので、1 µsパルスの980 nmでの調整値は55 J/cm2です。光学素子のパルスのLIDTはパルスレーザのエネルギ密度よりはるかに大きいので、個々のパルスが波長板を損傷することはありません。しかしレーザの平均線形パワー密度が大きいため、高出力CWビームのように光学素子に熱的損傷を引き起こす可能性があります。


Posted Comments:
Chaman Gupta  (posted 2022-05-23 17:23:57.477)
Dear Thorlabs team, Do these mirrors have a high damage threshold for CW Ytterbium lasers as well?
jdelia  (posted 2022-05-31 03:29:28.0)
Thank you for contacting Thorlabs. I have reached out to you directly for information about your beam specifications.
Anton Ryzhov  (posted 2021-08-20 15:41:46.827)
Dear Thorlabs team, what is the reason to make these mirrors 10 mm thick? You know, practically all 1" mounts are designed for 6...6.5 mm and some of them can't accept 10 mm at all. And clear aperture for a going through beam (another harmonic, for example) at 45 deg becomes very small. Data for other AoI would be much helpful.
YLohia  (posted 2021-08-30 11:21:40.0)
Thank you for contacting Thorlabs. These mirrors are thicker in order to provide better surface flatness specs. While it's true that thick substrates don't work well for transmitted beams, please note that these mirrors are not designed for for beam-splitting applications. Most of our side-locking mirror mounts don't have specified max optic thickness and can be used with these mirrors. Unfortunately, we don't have other AOI data for the picosecond mirrors.
user  (posted 2021-07-26 12:38:46.14)
How well do these mirrors perform at angles of incidence which are not 45 degrees (e.g. at 22 degrees)?
YLohia  (posted 2021-07-29 02:11:17.0)
Hello, thank you for contacting Thorlabs. Unfortunately, we do not have performance data for these mirrors at other AOIs.
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+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
UM10-Y1HP Support Documentation
UM10-Y1HPØ1" Picosecond Yb Laser Line Mirror, Fundamental, 1010 - 1080 nm
¥27,878
Today
UM10-Y2HP Support Documentation
UM10-Y2HPØ1" Picosecond Yb Laser Line Mirror, Second Harmonic, 500 - 550 nm
¥21,862
Today
UM10-Y3HP Support Documentation
UM10-Y3HPØ1" Picosecond Yb Laser Line Mirror, Third Harmonic, 335 - 375 nm
¥28,612
Today
UM10-Y4HP Support Documentation
UM10-Y4HPØ1" Picosecond Yb Laser Line Mirror, Fourth Harmonic, 250 - 272 nm
¥28,612
Today