超短パルスレーザ用低群遅延分散(GDD)ミラー、1760 nm~2250 nm


  • High Reflectance Over 1760 nm - 2250 nm
  • Group Delay Dispersion < 30 fs2
  • Ideal for Femtosecond Thulium (Tm)
    and Holmium (Ho) Lasers

UM10-45D

Ø1"

UM05-45D

Ø1/2"

Application Idea

UM05-45D Low GDD Mirror in a
POLARIS-K05F1 Low-Distortion Mount
and Mounted with a POLARIS-CA1
Clamping Arm

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Item #UM05-45DUM10-45D
Design Wavelength Range1760 - 2250 nm
Diameter1/2" (12.7 mm)1" (25.4 mm)
Diameter Tolerance+0.00 / -0.10 mm
Thickness6.4 mm (0.25")9.5 mm (0.37")
Thickness Tolerance±0.20 mm
Clear Aperture> 80% of Diameter
ReflectanceRs > 99% (1760 - 2250 nm)
Rp > 99% (1900 - 2050 nm)
Angle of Incidence45°
Group Delay Dispersion|GDDs| < 30 fs² (1760 - 2250 nm)
|GDDp| < 30 fs² (1900 - 2050 nm)
SubstrateFused Silica
Front Surface Flatnessλ/6 at 632.8 nm
Over Clear Aperture
λ/4 at 632.8 nm
Over Clear Aperture
Front Surface Quality15-5 Scratch-Dig
Parallelism≤3 arcmin
Back SurfacePolished

特長

  • 低群遅延分散:<|30 fs2|
  • 250 fsより短いパルスに適した製品
  • 99%以上の反射率
  • Ø12.7 mm(Ø1/2インチ)とØ25.4 mm(Ø1インチ)ミラーをご提供

この低群遅延分散(GDD)ミラーには、1760 nm~2250 nmの波長範囲で高反射率が得られるコーティングが施されています。 この波長範囲は、ツリウム(Tm)やホルミウム(Ho)添加ファイバーレーザのような2 µm周辺の波長を持つレーザに適しています。 これらのミラーは、パルスの広がりが問題となる用途に適しています。また、45°の入射角用に設計されています。 誘電体コーティングには、制御性や耐久性の高い誘電体薄膜コーティングを形成するイオンビームスパッタリング(IBS)技術が利用されています。

こちらのミラーは反射率が99%以上かつ、GDDが |30 fs2|未満という性能を両立しています。 詳細については「グラフ」タブ内をご参照ください。

この低GDDミラーのサイズは、Ø12.7 mm(1/2インチ)またはØ25.4 mm(1インチ)です。 各光学素子のエッジには型番とコーティング面の位置を示す矢印が刻印されています。 ミラーの裏面は研磨されているので、反射コーティングを通り抜けて漏れる僅かな光は、光出力のモニタのような用途でご利用いただけます。

当社ではこちらで掲載している1760~2250 nmの低GDDミラーのほかにも様々な波長範囲の低GDDミラーをご提供しています。 超短パルス用途で使用する光学素子のラインナップについては「超短パルスレーザ用光学素子」のタブをご覧ください。

下のグラフは、それぞれ入射角45°における反射率と群遅延分散の測定値ならびに理論値です。 

Reflectivity
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生データはこちらからダウンロードいただけます。
網掛けの部分は、RS>99%となる規定の波長範囲を示しています。
GDD
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生データはこちらからダウンロードいただけます。
網掛けの部分は、S偏光でGDD<|30 fs2|となる規定の波長範囲を示しています。GDD値は、GDD設計波長範囲(プロットの影の部分)の外側では大きく変動しています。

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+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
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