体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)、可視光(VIS)透過型


  • 532 nm or 600 nm Design Wavelength
  • High First-Order Diffraction Efficiency
  • Low Polarization Dependence
  • Resistant to Fingerprint and Aerosol Damage

 

GP1018F

532 nm, 1800 Lines/mm,
Ø1"

GP2006G

600 nm, 600 Lines/mm,
Ø2"

GP3506G

600 nm, 600 Lines/mm, 30 mm x 50 mm

Volume Phase Holographic Grating Schematic

d

θi

a

θm

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Selection Guide
Transmission Gratings
RuledUV
Visible
Near IR
Volume Phase
Holographic
Visible
Near IR
Reflective Gratings
RuledUV
Visible
Near IR
Mid IR
Holographic
Echelle
Optic Cleaning Tutorial
VPH Line Orientation Engraving
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円形の回折格子にはラインの方向を示す刻印が付いています。
Common Specifications
Grating FilmDichromated Gelatin
Cover-Plate Substrate N-BK7a or Equivalent
Thickness Tolerance±0.2 mm
Spatial Frequency Tolerance±2 lines/mm
AOI Tolerance±1°
Transmitted Wavefront
Error (RMS)
< λ/4 at 632.8 nm
Surface Quality40-20 Scratch-Dig
  • リンクをクリックすると基板材料の詳細な仕様をご覧いただけます。
アイコン等について
info icon下記の表内にある青いインフォアイコンをクリックすると、各製品の仕様および性能を示すグラフを記載したウィンドウを開くことができます。
VPH Item # and Serial Number Engraving
Click to Enlarge

長方形回折格子のエッジ部分には型番とシリアルナンバが刻印されています。

特長

  • 2種類の設計波長(DWL)および空間周波数
    • 532 nm: 1800 Lines/mm
    • 600 nm: 600 Lines/mm
  • Ø25.4 mm(Ø1インチ)、Ø50.8 mm(Ø2インチ)、 50.0 mm x 30.0 mmの回折格子をご用意
  • 高い1次回折効率のピーク(下表をご覧ください)
  • 低い偏光依存性損失(PDL)
  • 広い帯域幅にわたり均一な性能(下の回折効率のグラフをご覧ください)
  • 極めて低い次数間の迷光散乱、ゴーストなし
  • 2枚のガラス基板の間に重クロム酸ゼラチン(DCG)フィルム
  • 分光用に適した製品

当社の可視域(VIS)用体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)は、低い偏光依存性損失や高い回折効率を必要とする用途に適しています。各回折格子の空間周波数は、設計波長(DWL) 532 nmの製品では1800 lines/mm、DWL600 nmの製品では600 lines/mmです。この波長と空間周波数の組み合わせで、Ø25.4 mm(Ø1インチ)、Ø50.8 mm(Ø2インチ)、50 mm x 30 mmの3種類の形状の製品をご用意しています。これらのユニークな透過型回折格子は、広い帯域幅にわたって高い1次回折効率を有し、偏光依存性損失や各回折次数のピーク間における迷光散乱が小さく、さらにゴーストも最小限に抑えられるため、分光用に大変適しています。

VPHグレーティングには、従来の回折格子のような表面の溝はありません。VPHグレーティングでは、周期的に屈折率変調された重クロム酸ゼラチン(DCG)フィルムが2枚のガラス基板の間に封止されており、入射光がこのフィルムを通過するときに回折が生じます。反射による透過損失を最小限に抑えるため、空気-ガラス界面には反射防止(AR)コーティングが施されています。他の回折格子とは異なり、VPHグレーティングは指紋やエアロゾルによるダメージを受けにくく、また標準的な光学素子のクリーニング方法が使用可能なため、メンテナンスも容易です。詳細は「回折格子のチュートリアル」タブをご参照ください。当社のVPHグレーティングに対しては広範な環境試験と熱衝撃試験を実施しており、それらの試験条件においても優れた耐性を示しています。各回折格子のエッジ部分には型番が刻印されています(右の写真参照)。円形の回折格子にはラインの方向を示す刻印が付いています。長方形回折格子のラインペアの方向は長辺(50 mm)に対して垂直になっています。

回折格子ガイド」タブでは、当社が提供するその他の回折格子の概要をご覧いただけます。また、「回折格子ガイド」タブでは回折格子の種類による違いについてご紹介しています。

注:回折格子によっては、ホログラフィックミラーの影響が見える場合があります。これは回折格子の欠陥ではなく、露光の過程でフィルムに書き込まれた邪魔にならないアーティファクトです。これらの干渉パターンは、回折格子の性能に影響を及ぼすものではありません。

体積位相ホログラフィック回折格子のカスタマイズについて
当社ではレーザーパルス圧縮や天文学など、様々な応用分野でのニーズに対応して、カスタム仕様のVPHグレーティングの製造も可能です。ライン密度400~1800 lines/mm、設計波長300~2000 nm、帯域幅20~500 nmの範囲で、お客様のニーズにお応えする高い分散性能を実現いたします。カスタム仕様の円形または正方形の光学素子については、最小10 mmから最大60 mmの寸法まで承ります。カスタマイズについての詳細は当社までお問い合わせください。

マウントとアダプタ
円形回折格子には、当社の入れ子式またはキネマティック式などの回転マウントのご使用をお勧めいたします。これらを使用することで、ラインの向きを固定された角度に合わせ、マウントで回折格子を回転させながら1次回折ビームの変位を追跡することができます。長方形光学素子用マウントKM100C(右手系)またはKM100CL(左手系)に直接取り付けられるため、精密で安定な取り付けとアライメントが可能です。

当社では、回折格子の機械構造的なセットアップへの組み込みは、クリーンルーム内で行います。回折格子をサブアセンブリやセットアップに組み込む必要がある場合は、当社までお問い合わせください。

回折格子のチュートリアル

はじめに

回折格子は、透過型、反射型のどちらも回折格子内の繰り返し構造により異なる波長の光を分離します。この構造により、入射光の振幅、位相のいずれか、または両方が変化し、出射光に干渉縞が生じます。透過型の場合、細いスリットが狭い間隔で多数配置されていることにより繰り返し構造が実現されています。このマルチスリットにおける放射照度を波長と位置の関数として解くと、= 0°のときの全ての回折格子に当てはまる次のような一般式が得られます。

Grating Equation 1

(1)

この式は回折格子の式として知られています。この式では、間隔aの回折格子により、λに依存した離散的な角度(theta sub m)で光を偏向する様子を表しています。ここでは回折次数です。回折角theta sub m は、回折格子の表面垂線から測定した出射光の出射角です。(1)の式から、次数mが与えられると、異なる波長の光は異なる角度で回折格子を出ることが分かります。これは白色光源の場合は、波長特性が角度依存を持つ連続スペクトルとして表されることを示しています。

Transmission Grating
図1.透過型回折格子

透過型回折格子

一般的な回折格子の1つに透過型回折格子があります。図1で示しているこの表面に溝のある回折格子は、透明な基板に狭い幅の溝を一定距離離して繰り返しスクラッチまたはエッチングすることによって作られます。aこの構造により、光が散乱する領域ができます。

入射光は表面垂線からtheta sub iの角度で回折格子に入射します。次数mが大きくなると、出力角度(表面垂線からのtheta sub m角度)も大きくなります。入射角0°の場合の一般的な回折格子の式(1)を、幾何学的条件を考慮して変形すると、透過型回折格子の式は以下のようになります。

Grating Equation 2

(2)

ここで図1のように回折格子の表面垂線を基準として入射光と回折光の角度が反対側となるとき、は正(+)とします。この場合、格子垂線に対して同じ側であれば は負となります。

 
Reflective Grating
図2.反射型回折格子

反射型回折格子

一般的な回折格子として、ほかに反射型回折格子があります。反射型回折格子は、一般的に、表面に平行な溝を刻んだ光学素子に金属コーティングを施して作製します。反射型回折格子は、マスタをエポキシやプラスチックにインプリントする方法でも作製可能です。いずれの場合でも、光は異なる次数ならびに波長に応じて異なる角度で刻線面から反射されます。反射型回折格子の例が図2に示されています。透過型と同様の幾何学配置として設定すれば、反射型回折格子の方程式は以下のようになります。

Grating Equation 3

(3)

ここで、図2のように入射光ならびに回折光が回折格子の表面垂線に対して互いに反対側にあればは正、は負とします。回折格子の垂線に対して互いに同じ側であれば、角度は両方とも正です。

反射型も透過型も0次光の場合には回折パターンがないため、通常の表面反射、または透過のように見えます。theta sub i = theta sub mとして(2)の式を解くと、得られる解はm=0のみで、波長や格子の間隔に依存しないことが分かります。この条件では波長に依存した情報が得らません。

この問題は、特殊な表面反射形状を有する繰り返し表面パターンを作製することによって解決することができます。このタイプの回折格子は通常ブレーズド(または刻線)回折格子と呼ばれています。詳細については下記をご覧ください。

ブレーズド(刻線)回折格子

Blazed Grating
図4.ブレーズド回折格子、0次光の反射
Blazed Grating
図3.ブレーズド回折格子の形状

ブレーズド回折格子は、刻線回折格子の名でも知られていますが、特殊な形状をした反射型または透過型の回折格子で、特定の回折次数において最大の回折効率を発揮するように設計されています。つまり、光量のほとんどが設計した回折次数に収まり、他の次数(特に0次)への光量の配分による損失が最小限に留められます。この設計により、ブレーズド回折格子はブレーズ波長と呼ばれる特定の波長で動作します。

ブレーズ波長はブレーズド回折格子を決定づける3つの特性のうちの1つです。他の2つは図3に示している溝またはファセット(facet)の間隔a、そしてブレーズ角gammaです。ブレーズ角gammaは、右図に示すように回折格子に平行な面と表面構造の間の角度です。これはまた表面垂線とファセット垂線の間の角度でもあります。

ブレーズド回折格子は、これまで説明してきた透過型ならびに反射型回折格子と形状が似ています。入射角()と次の反射角()は、回折格子の表面垂線を基準として決定されます。大きな違いは、鏡面反射が回折格子の表面垂線ではなく、ブレーズ角gammaに依存するということです。つまり、回折格子のブレーズ角を変更するだけで回折効率が変えられます。

ブレーズド回折格子を使用した場合の0次光の反射を図4に示しています。 m = 0ではtheta sub iの角度で入射した光はtheta sub mで反射します。(3)の式により、得られる解はtheta sub i = –theta sub mのみです。これは平面における鏡面反射と似ています

Blazed Grating
図6.ブレーズド回折格子、格子表面に垂直に入射した光
Blazed Grating
図5.ブレーズド回折格子、ファセットによる鏡面反射

図5に示すように、ブレーズド回折格子における鏡面反射はその表面構造により、平面における鏡面反射とは異なります。ブレーズド回折格子での鏡面反射theta sub rは、ブレーズ角に依存します。反射角が回折格子表面垂線に対してtheta sub iと同じ側にある場合、この角度は負として定義されます。簡単な幾何学的計算により下記(4)式が導かれます。

Grating Equation 2

(4)

図6はtheta sub i= 0°、すなわちビームが回折格子表面に垂直に入射した場合を示しています。この場合、0次反射光も0°の方向を向いています。(3)と(4)の式により、下記(5)式のようにブレーズ角の2倍の回折格子の方程式を得ます。

Grating Equation 2

(5)

反射型回折格子のリトロウ構成

リトロウ構成とはブレーズド回折格子における特定の配置を意味し、モノクロメータや分光計で重要な役割を果たします。この時、は回折効率が最大となる角度になります。この構成では光の入射角と回折の角度が同じtheta sub i = theta sub mであり、m > 0のため、下記(6)式が得られます。

Grating Equation 2

(6)

Blazed Grating
図7.リトロウ構成

リトロウ角度Theta sub Lは、最大の光強度の次数(m = 1)、設計波長lambda sub Dならびに格子の間隔aによって決まります。リトロウ角度Theta sub Lは設計波長においてブレーズ角度gammaと同じであることは簡単に示されます。当社のブレーズド回折格子のリトロウ/ブレーズ角はすべて回折格子の仕様表に記載されています。

Grating Equation 2

(7)

垂直に入射した光に対する回折次数が大きくなるにつれ、波長に依存する角度間隔も大きくなることが分かります(theta sub i= 0°の場合、theta sub mmが増加すると増加します)。高次回折パターンの使用は、次数が低い回折パターンと比べて不利な点が2点あります。(1)次数が高くなると回折効率が減少すること、そして(2)以下で定義されるフリースペクトルレンジFree Spectral Range が狭くなることです。

Grating Equation 2

(8)

 

ここでlambdaは中心波長、mは次数です。

高次回折パターンにおける1つ目の問題点は、大きいブレーズ角と比較的低い溝密度で構成された特殊な刻線回折格子であるエシェル回折格子を使用することで解決します。大きいブレーズ角は、高次回折にエネルギを集めるのに適しています。2つ目の問題点は、回折格子、分散プリズム、あるいは他の分散光学素子など、別の光学素子を使用して、エシェル回折格子を通った後に波長/次数を分離することで解決できます。

Holographic Gratings
図8.体積位相ホログラフィック回折格子

透過型体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)

従来の回折格子とは異なり、体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)の表面には溝がついていません。体積型位相ホログラフィック回折格子は、2つのガラス基板の間に重クロム酸ゼラチン(DCG)フィルムが入っている構成となっております。VPHグレーティングは、ブレーズド回折格子で生じる周期エラーを低減するために設計されています。表面の溝密度の高い回折格子では偏光依存損失の問題もあります。こちらのユニークな透過型1次回折格子は、高い回折効率のピーク、低い偏光依存性損失、広い帯域幅での均一な性能といった特性を有します。

回折格子パターンは、一定の距離間隔のラインの繰り返しaで構成されています。透過型回折格子の干渉パターンは図8に示すようにプレートの平面に対して垂直なため、あらゆる周波数の光がプレートを通ることができます。回折は入射光がDCGフィルムを通るときに起こります。そのために性能を決定する3つの要素は、フィルムの厚さ、バルクの屈折率(ブラグ面間の平均屈折率)、変調指数(ブラグ面間の屈折率の差)です。入射光は表面垂線から測定された角度theta sub iで回折格子に入射します。次数mが大きくなると、出力角度(表面垂線からのtheta sub m角度)も大きくなります。上述の回折格子の式は、体積型位相ホログラフィック回折格子では回折角を算出するのに用いることができます。なぜなら分散がライン密度に依存するからです。回折格子の品質は干渉縞のコントラストによって決定します。コントラストが弱いということは、回折効率が低いか、全く回折格子が形成されていないことを意味します。

DCGフィルムは、複数の品質管理工程を経て基準の性能を満たすことを確認後、適切なサイズに切断されています。フィルムは2つのガラスカバーの間に封止され、材質の品質が下がることを防いでいます。DCGフィルムが2枚のガラス基板に入っているため、VPHグレーティングは耐性が高く、寿命が長いうえに、容易に損傷を受けやすい回折格子と比較してメンテナンスしやすい製品となっております。

Holographic Gratings
図9.ホログラフィック回折格子

ホログラフィック表面回折格子

ブレーズド回折格子は設計波長において高い回折効率を発揮しますが、ゴーストなどの周期エラーの発生や比較的大きな散乱光量により、高感度測定に悪影響を及ぼすことがあります。ホログラフィック回折格子はこのようなエラーを低減または取り除くために設計されています。しかし、ホログラフィック回折格子は、ブレーズド回折格子と比べて回折効率が低いという欠点があります。

ホログラフィック回折格子は、マスタを用いて刻線回折格子と同様のプロセスにより作成されます。マスタのホログラフィック回折格子は通常、感光性材料に2本のレーザービームを干渉させて露光することによって作られます。干渉パターンを周期パターンとして表面に露光し、その後物理的または化学的に処理を行い、正弦波形状のパターンを形成します。ホログラフィック回折格子の例は図9に示しております。

なお、分散は1 mmあたりの溝の数のみで決まり、溝の形状には影響されません。よって、ホログラフィック回折格子も刻線ブレーズド回折格子と同じ回折格子の方程式が使用可能です。


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透過型回折格子

透過型回折格子は刻線回折格子と体積型位相ホログラフィック回折格子の2種類をご用意しております。 刻線回折格子は、透明な基板に繰り返し平行な構造をスクラッチまたはエッチングすることによって作られます。これらの回折格子は鋸歯の形状をしており、レプリケーションと呼ばれる工程でマスタからエポキシやプラスチックにインプリントして製造されています。体積型位相ホログラフィック回折格子は、2つのガラス基板の間に重クロム酸ゼラチン(DCG)フィルムが入っている構成となっております。これらの回折格子では、DCGフィルムに正弦波の回折パターンがにレーザ描画されています。詳細については「回折格子のチュートリアル」のタブをご参照ください。

刻線回折格子
UV透過型刻線回折格子は、入射光を回折格子の反対側の特定の角度方向に発散させます。それぞれの製品は仕様化されている波長範囲において適切な回折効率が得られるように、刻線されています。また比較的偏光依存性は小さく、同じ波長範囲の反射型回折格子と同等の回折効率を有します。分光器のように固定型回折格子が必要な用途に適しています。
Visible
Near IR
UV域用刻線(ブレーズド)透過型回折格子
可視域用刻線(ブレーズド)透過型回折格子
近赤外域用刻線(ブレーズド)透過型回折格子
体積型位相ホログラフィック回折格子
Volume Phase Holographic体積型位相ホログラフィック回折格子は、2つのガラス基板の間にDCGフィルムが入っている構成となっております。こちらのユニークな透過型回折格子はメンテナンスが容易で、高い1次回折効率のピークと、広い帯域幅で均一な性能を発揮します。
可視(VIS)域用VPH透過型回折格子
近赤外(NIR)域用VPH透過型回折格子

反射型回折格子

反射型回折格子は、平行な溝を刻んだ光学素子の表面に金属コーティングを施すことで作製されます。当社の反射型回折格子は、マスタからエポキシやプラスチックにインプリントする、レプリケーションと呼ばれる工程により作製されています。いずれの場合でも、光は異なる次数ならびに波長に応じて異なる角度で刻線面から反射されます。当社の刻線反射型回折格子はブレーズド回折格子とも呼ばれますが、その表面はすべて鋸歯の形状をしています。一方で、ホログラフィック反射型回折格子は正弦波の形状をしています。詳細については「回折格子のチュートリアル」のタブをご参照ください。

刻線回折格子
UV刻線回折格子はブレーズ角によりホログラフィック回折格子よりも高い回折効率を得られます。ブレーズ波長に近い波長を中心とした用途に適しています。当社では刻線回折格子を様々なサイズとブレーズ角でご用意しております。.
Visible
Near IR
Mid IR
UV域用刻線(ブレーズド)反射型回折格子
可視域用刻線(ブレーズド)反射型回折格子
近赤外域用刻線(ブレーズド)反射型回折格子
中赤外域用刻線(ブレーズド)反射型回折格子
ホログラフィック回折格子
Holographicホログラフィック回折格子は周期エラーが発生しにくいため、刻線回折格子で生じるようなゴーストイメージが発生しません。少ない迷光、および高い信号対雑音比が必要となるラマン分光法などの用途に適しています。
ホログラフィック正弦波反射型回折格子
エシェル回折格子
Echelleエシェル回折格子は高次光用に設計された長い周期の回折格子です。通常、ほかの回折格子やプリズムと併用してオーバーラップしている回折次数を分離します。高分解能分光の用途に適しています。
エシェル刻線(ブレーズド)回折格子

用途に適した回折格子を選ぶには、下記のような様々な要素を考慮する必要があります。

回折効率:
一般的に刻線回折格子は、ホログラフィック回折格子より回折効率が高くなります。ホログラフィック回折格子は回折効率が低くなりますが、有効波長範囲は広くなります。刻線回折格子の高い回折効率は、蛍光励起ほか、光誘起性の化学反応などの用途に適していると考えられます。

ブレーズ波長:
刻線回折格子には、回折格子基板表面をエッチングして鋸歯状の溝が作られています。それにより、ブレーズ波長付近で鋭い効率のピークが得られます。ホログラフィック回折格子のブレーズ化は難しく、正弦波状の溝となります。よって設計波長付近での効率のピークも低くなります。狭い波長範囲を中心とした用途には、その波長でブレーズ化されている刻線回折格子が有効と考えられます。

迷光:
溝の作成法の違いにより、ホログラフィック回折格子は刻線回折格子よりも迷光が少なくなります。刻線回折格子のすべての溝は一括して機械加工されているため、エラーの頻度も高くなります。ホログラフィック回折格子は、リトグラフの工程で作製されるため、一般的に刻み目のない滑らかなマスタとなります。これらのマスタから作製されたレプリカは迷光が少なくなります。迷光が少ないホログラフィック回折格子は、高い信号対雑音比が必要となるラマン分光法などの用途に適しています。 

分解能:
回折格子の分解能は、2つの波長を空間的に分離する能力です。分解能はレイリの基準を回折最大値に適用することによって求められます。この基準では、1つの波長の最大値がもう1つの波長の最小値に一致する場合、この2つの波長は分解できる、としています。色分解能(R)はR = λ/Δλ = n*Nで定義されます。Δλは分解する波長差、nは回折次数、Nは照射されている範囲の溝の数です。エシェル回折格子では、高次の回折次数を利用するため、分解能が高くなります。

偏光依存:
表面の溝密度が高い回折格子には偏光依存性損失の問題があり、垂直偏光と比べて特に平行偏光において回折効率が大幅に低くなることがあります。体積型位相ホログラフィック回折格子は、高い空間周波数において低い偏光依存性損失が要求される用途向けに設計されています。

回折格子の詳細と用途に適した回折格子の選択については「回折格子のチュートリアル」をご参照ください。

表面に溝が付いた回折格子の注意点:
表面が溝がついた回折格子は指紋、エアロゾル、水分のほか、ほんの少しの研磨材が接触しただけで損傷する場合があります。回折格子は、必要時のみ、側面だけを持って取り扱ってください。回折格子の表面に指の油分がつかないよう、ラテックス製手袋などを着用する必要があります。溶剤も回折格子の表面に損傷を与える可能性があります。クリーンで乾燥した空気か、窒素で埃を吹き飛ばす方法以外に回折格子のクリーニングは行わないでください。回折格子表面の引っかき傷などの小さな表面的な欠陥では、通常、回折格子の特性に影響を与えることはありません。一方、体積型位相ホログラフィック回折格子は、一般的な光学素子のクリーニング手順でクリーニングが可能で、高い耐性もあります。

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体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)、透過型、設計波長532 nm

Item #InfoDWLaSpatial
Frequency
AOIbDiffraction EfficiencycBBAR
Coatingd
Cover Plate
Substrate
Dimensions
GP1018FClick for Details532 nm1800 lines/mm28.6°Efficiency Plot
450 nm: S-Pol > 45%; P-Pol > 60%
532 nm: S-Pol > 80%; P-Pol > 80%
650 nm: S-Pol > 40%; P-Pol > 40%
400 - 700 nm
Ravg < 1.5%
N-BK7e or
Equivalent
Ø25.4 mm x 3.0 mm
GP2018FClick for DetailsØ50.8 mm x 6.0 mm
GP3518FClick for Details50.0 mm x 30.0 mm x 6.0 mm
  • 設計波長
  • 設計波長における入射角
  • 回折格子のラインが入射光のs偏光に対して平行の場合の仕様です。ここで、s偏光は入射面に対して電界の振動方向が垂直の光として定義されています。
  • 仕様の入射角における広帯域反射防止コーティングの性能(1面あたり)
  • リンクをクリックすると基板材料の詳細をご覧いただけます。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
GP1018F Support Documentation
GP1018FCustomer Inspired! VPH Transmission Grating, 532 nm DWL, 1800 Lines/mm, 28.6° AOI, Ø1"
¥67,075
Today
GP2018F Support Documentation
GP2018FCustomer Inspired! VPH Transmission Grating, 532 nm DWL, 1800 Lines/mm, 28.6° AOI, Ø2"
¥136,247
7-10 Days
GP3518F Support Documentation
GP3518FVPH Transmission Grating, 532 nm DWL, 1800 Lines/mm, 28.6° AOI, 50 mm x 30 mm
¥136,073
7-10 Days
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体積位相ホログラフィック回折格子(VPHグレーティング)、透過型、設計波長600 nm

Item #InfoDWLaSpatial
Frequency
AOIbDiffraction EfficiencycBBAR
Coatingd
Cover Plate
Substrate
Dimensions
GP1006GClick for Details600 nm600 lines/mm10.4°Efficiency Plot
450 nm: S-Pol > 60%; P-Pol > 60%
600 nm: S-Pol > 80%; P-Pol > 80%
750 nm: S-Pol > 60%; P-Pol > 60%
350 - 850 nm
Ravg < 1.5%
N-BK7e or
Equivalent
Ø25.4 mm x 3.0 mm
GP2006GClick for DetailsØ50.8 mm x 6.0 mm
GP3506GClick for Details50.0 mm x 30.0 mm x 6.0 mm
  • 設計波長
  • 設計波長における入射角
  • 回折格子のラインが入射光のs偏光に対して平行の場合の仕様です。ここで、s偏光は入射面に対して電界の振動方向が垂直の光として定義されています。
  • 仕様の入射角における広帯域反射防止コーティングの性能(1面あたり)
  • リンクをクリックすると基板材料の詳細をご覧いただけます。
+1 数量 資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日
GP1006G Support Documentation
GP1006GCustomer Inspired! VPH Transmission Grating, 600 nm DWL, 600 Lines/mm, 10.4° AOI, Ø1"
¥67,075
Today
GP2006G Support Documentation
GP2006GCustomer Inspired! VPH Transmission Grating, 600 nm DWL, 600 Lines/mm, 10.4° AOI, Ø2"
¥136,247
7-10 Days
GP3506G Support Documentation
GP3506GCustomer Inspired! VPH Transmission Grating, 600 nm DWL, 600 Lines/mm, 10.4° AOI, 50 mm x 30 mm
¥136,073
7-10 Days